[發(fā)明專利]一種緊縮場(chǎng)天線測(cè)量同步反射點(diǎn)區(qū)域確定方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410796746.8
• 申請(qǐng)日: 2014-12-18
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104535858A
• 公開(kāi)（公告）日: 2015-04-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 馬永光;馬蔚宇;楊金濤;錢(qián)冰華
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京無(wú)線電計(jì)量測(cè)試研究所
• 主分類號(hào): G01R31/00
• 分類號(hào): G01R31/00
• 代理公司: 北京正理專利代理有限公司 11257
• 代理人: 張文祎

1.一種緊縮場(chǎng)天線測(cè)量同步反射點(diǎn)區(qū)域確定方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：

在緊縮場(chǎng)暗室中建立三維直角坐標(biāo)系；

在所述三維直角坐標(biāo)系中確定緊縮場(chǎng)饋源所在位置T；

根據(jù)所述緊縮場(chǎng)饋源的位置和測(cè)試區(qū)的位置確定緊縮場(chǎng)反射面所在位置；

分別以所述緊縮場(chǎng)饋源所在位置T與所述待測(cè)天線所在測(cè)試區(qū)內(nèi)任意一點(diǎn)到所述緊縮場(chǎng)反射面水平方向最近的位置點(diǎn)A和最遠(yuǎn)的位置點(diǎn)B作為焦點(diǎn)，并分別以所述緊縮場(chǎng)饋源發(fā)射波經(jīng)所述緊縮場(chǎng)反射面到所述測(cè)試區(qū)的距離的最小值和最大值為長(zhǎng)軸長(zhǎng)度，在所述緊縮場(chǎng)暗室中構(gòu)建兩個(gè)橢球面；

所述兩個(gè)橢球面及兩橢球面之間的空間即為所述緊縮場(chǎng)天線測(cè)量同步反射點(diǎn)區(qū)域。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述三維直角坐標(biāo)系以所述緊縮場(chǎng)暗室任意一墻角為坐標(biāo)系原點(diǎn)O，以長(zhǎng)度方向?yàn)閄軸，以寬度方向?yàn)閅軸，以高度方向?yàn)閆軸。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述三維直角坐標(biāo)系中確定緊縮場(chǎng)饋源所在位置T的步驟包括：

確定所述緊縮場(chǎng)饋源所在位置T在所述三維直角坐標(biāo)系中的三維坐標(biāo)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述緊縮場(chǎng)饋源的位置和測(cè)試區(qū)的位置確定緊縮場(chǎng)反射面所在位置的步驟包括：

根據(jù)所述緊縮場(chǎng)饋源的位置和測(cè)試區(qū)的位置確定所述緊縮場(chǎng)反射面上反射點(diǎn)M的三維坐標(biāo)，所述M點(diǎn)為所述緊縮場(chǎng)反射面中軸線交點(diǎn)，反射面中心高度位置。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述分別以所述緊縮場(chǎng)饋源所在位置T與所述待測(cè)天線所在測(cè)試區(qū)內(nèi)任意一點(diǎn)到所述緊縮場(chǎng)反射面水平方向最近的位置點(diǎn)A和最遠(yuǎn)的位置點(diǎn)B作為焦點(diǎn)，并分別以所述緊縮場(chǎng)饋源發(fā)射波經(jīng)所述緊縮場(chǎng)反射面到所述測(cè)試區(qū)的距離的最小值和最大值為長(zhǎng)軸長(zhǎng)度，在所述緊縮場(chǎng)暗室中構(gòu)建兩個(gè)橢球面的步驟包括：

確定所述緊縮場(chǎng)饋源經(jīng)所述緊縮場(chǎng)反射面到測(cè)試區(qū)距離最近的位置點(diǎn)A的三維坐標(biāo)，確定所述緊縮場(chǎng)饋源經(jīng)所述緊縮場(chǎng)反射面到測(cè)試區(qū)距離最遠(yuǎn)的位置點(diǎn)B的三維坐標(biāo)；

計(jì)算所述緊縮場(chǎng)饋源所在位置T與所述緊縮場(chǎng)反射面上反射點(diǎn)M的距離TM；

計(jì)算所述緊縮場(chǎng)反射面上反射點(diǎn)M與所述測(cè)試區(qū)位置點(diǎn)A的距離MA；

計(jì)算所述緊縮場(chǎng)反射面上反射點(diǎn)M與所述測(cè)試區(qū)位置點(diǎn)B的距離MB；

以所述緊縮場(chǎng)饋源所在位置T、所述位置點(diǎn)A為橢球面的焦點(diǎn)，以(TM+MA)為橢圓的長(zhǎng)軸長(zhǎng)度，在所述緊縮場(chǎng)暗室中構(gòu)建第一橢球面；

以所述緊縮場(chǎng)饋源所在位置T、所述位置點(diǎn)B作為橢球面的焦點(diǎn)，以(TM+MB)為橢圓的長(zhǎng)軸長(zhǎng)度，在所述緊縮場(chǎng)暗室中構(gòu)建第二橢球面。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，所述第一和第二橢球面以及橢球面之間的空間與所述緊縮場(chǎng)暗室各面及緊縮場(chǎng)暗室內(nèi)部空間物體相交的區(qū)域?yàn)榇郎y(cè)天線位于測(cè)試區(qū)任意位置時(shí)與所述緊縮場(chǎng)饋源發(fā)射波經(jīng)所述緊縮場(chǎng)反射面再到所述待測(cè)天線的直射波信號(hào)時(shí)間相同的所述緊縮場(chǎng)天線測(cè)量同步反射點(diǎn)區(qū)域。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于：所述緊縮場(chǎng)天線測(cè)量同步反射點(diǎn)區(qū)域?yàn)樗鼍o縮場(chǎng)饋源發(fā)射波經(jīng)緊縮場(chǎng)內(nèi)反射點(diǎn)區(qū)域反射再被所述待測(cè)天線接收的反射信號(hào)時(shí)間與所述緊縮場(chǎng)饋源發(fā)射波經(jīng)所述緊縮場(chǎng)反射面再到達(dá)所述待測(cè)天線的直射波信號(hào)時(shí)間相同的區(qū)域。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于：所述緊縮場(chǎng)天線測(cè)量同步反射點(diǎn)區(qū)域位于所述兩橢球面及兩橢球面之間的空間與所述緊縮場(chǎng)暗室的側(cè)墻、緊縮場(chǎng)暗室的地面、緊縮場(chǎng)暗室的屋頂、緊縮場(chǎng)暗室的前后墻或在緊縮場(chǎng)暗室內(nèi)部空間存在的物體相交的區(qū)域。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于：該方法的步驟進(jìn)一步包括在所述緊縮場(chǎng)天線測(cè)量同步反射點(diǎn)區(qū)域內(nèi)放置吸波材料或移走位于同步反射點(diǎn)區(qū)域內(nèi)的物體。