[發明專利]提高第三軸感應能力的磁傳感器及其制備工藝有效
| 申請號: | 201410778540.2 | 申請日: | 2014-12-15 |
| 公開(公告)號: | CN104483637B | 公開(公告)日: | 2018-04-13 |
| 發明(設計)人: | 楊鶴俊;張挺;王宇翔;邱鵬 | 申請(專利權)人: | 上海矽睿科技有限公司 |
| 主分類號: | G01R33/02 | 分類號: | G01R33/02 |
| 代理公司: | 上海金盛協力知識產權代理有限公司31242 | 代理人: | 王松 |
| 地址: | 201815 上海市嘉*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 提高 第三 感應 能力 傳感器 及其 制備 工藝 | ||
技術領域
本發明屬于半導體技術領域,涉及一種磁傳感器,尤其涉及一種提高第三軸感應能力的磁傳感器;同時,本發明還涉及一種上述磁傳感器的制備工藝。
背景技術
磁傳感器按照其原理,可以分為以下幾類:霍爾元件,磁敏二極管,各項異性磁阻元件(AMR),隧道結磁阻(TMR)元件及巨磁阻(GMR)元件、感應線圈、超導量子干涉磁強計等。
電子羅盤是磁傳感器的重要應用領域之一,隨著近年來消費電子的迅猛發展,除了導航系統之外,還有越來越多的智能手機和平板電腦也開始標配電子羅盤,給用戶帶來很大的應用便利,近年來,磁傳感器的需求也開始從兩軸向三軸發展。兩軸的磁傳感器,即平面磁傳感器,可以用來測量平面上的磁場強度和方向,可以用X和Y軸兩個方向來表示。
為了提高競爭力,一種方案將X軸、Y軸、Z軸感應器件設置在同一個圓晶或芯片上,提高了磁傳感器的可制造性、磁感應能力,價格也相應降低。如中國專利CN201210563667.3揭示了一種磁傳感裝置及其磁感應方法,該第三方向(Z軸)磁傳感部件包括:基底、導磁單元、感應單元、外圍電路;基底的表面開有溝槽;導磁單元的主體部分設置于溝槽內,并有部分露出溝槽至基底表面,用以感應Z軸方向的磁信號,并將該磁信號輸出;感應單元設置于所述基底表面上,用以接收所述導磁單元輸出的Z軸方向的磁信號,并根據該磁信號測量出Z軸方向對應的磁場強度及磁場方向。
然而,由于導磁單元與感應單元通常同時制備,導磁單元采用沉積的方式設置在溝槽的側壁,因此導磁單元的厚度較薄,導致第三軸方向的靈敏度不佳。而如果通過增加沉積厚度,使得導磁單元沉積到適合的厚度,會使得感應單元的厚度較厚,又降低第一軸、第二軸的靈敏度,還會削弱傳感器的檢測范圍。
有鑒于此,如今迫切需要設計一種新的磁傳感器和制造工藝,以便克服現有磁傳感器的上述缺陷,在不損失第一和第二方向磁傳感器性能的前提下,提升第三方向的性能。
發明內容
本發明所要解決的技術問題是:提供一種提高第三軸靈敏度的磁傳感器的制備工藝,可提高第三軸的感應能力,又不會影響第一軸、第二軸方向的靈敏度。
此外,本發明還提供一種提高第三軸靈敏度的磁傳感器,可提高第三軸的感應能力,又不會影響第一軸、第二軸方向的靈敏度。
為解決上述技術問題,本發明采用如下技術方案:
一種提高第三軸感應能力的磁傳感器的制備工藝,所述制備工藝包括如下步驟:
步驟S1、在基底上形成溝槽陣列;
步驟S2、沉積第一磁性材料,形成第一磁性材料層;
步驟S3、沉積第一介質材料,形成第一介質材料層;
步驟S5、通過光刻工藝,形成磁傳感器單元圖形;
步驟S6、沉積第三介質材料,形成第三介質材料層,溝槽被部分填充;
步驟S7、沉積第二磁性材料,形成第二磁性材料層;
步驟S8、通過刻蝕工藝回刻平面上的部分或全部第二磁性材料層,保留溝槽里面的第二磁性材料;
步驟S9、沉積第四介質材料,形成第四介質材料層;
步驟S10、制造通孔和電極。
作為本發明的一種優選方案,所述方法步驟S3、S5之間還包括步驟S4、沉積第二介質材料,形成第二介質材料層。
作為本發明的一種優選方案,所述步驟S5中,生成磁傳感器的圖形,形成感應單元的磁材料層,同時通過溝槽的應用形成導磁單元,即在單芯片上形成三軸傳感器;所述導磁單元的主體部分設置于溝槽內,用以收集第三方向的磁信號,并將該磁信號輸出給感應單元;所述感應單元靠近溝槽設置,用以接收所述導磁單元輸出的第三方向的磁信號,并根據該磁信號測量出第三方向對應的磁場強度及磁場方向;
所述導磁單元包括第一導磁單元、第二導磁單元,第一導磁單元為沉積的第一磁性材料而后經步驟S5光刻形成;第二導磁單元為沉積第二磁性材料而后經步驟S8刻蝕形成。
作為本發明的一種優選方案,所述制備工藝還包括:
制備第一磁傳感器、第二磁傳感器的步驟,第一磁傳感器、第二磁傳感器分別用以感應與基底表面平行的第一方向、第二方向,第一方向、第二方向相互垂直。
作為本發明的一種優選方案,所述第一磁性材料與第二磁性材料相同,或者不同。
所述第一磁性材料或/和第二磁性材料為AMR材料,或為GMR材料,或為TMR材料。
所述第一磁性材料或/和第二磁性材料為鎳鐵合金。
所述基底含有CMOS電路,或者不含CMOS電路。
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