[發(fā)明專利]一種薄膜圖案化的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410776113.0
• 申請日: 2014-12-15
• 公開（公告）號: CN104460227B
• 公開（公告）日: 2018-06-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張磊;羅祝義;孟祥明;尹鎮(zhèn)鎬;郭建強(qiáng);廖洪林
• 申請（專利權(quán)）人: 合肥京東方光電科技有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號: G03F1/76
• 分類號: G03F1/76;G03F7/00;G03F7/20;H01L21/027
• 代理公司: 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

本發(fā)明實(shí)施例提供一種薄膜圖案化的方法，涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，能夠解決制作線寬較小的薄膜層圖案時(shí)，由于掩膜版開口區(qū)域較小，使得曝光不足，而引起的成膜缺陷。所述方法包括在基板的表面依次形成薄膜層和光刻膠；通過掩膜版對光刻膠進(jìn)行第一次曝光，形成第一半固化區(qū)，第一半固化區(qū)光刻膠的曝光的能量小于光刻膠的感光閾值；通過掩膜版對光刻膠進(jìn)行第二次曝光，在第一半固化區(qū)上形成固化區(qū)；其中，固化區(qū)的寬度小于第一半固化區(qū)的寬度，固化區(qū)光刻膠的曝光的能量大于等于光刻膠的感光閾值；將光刻膠進(jìn)行顯影；對未被光刻膠覆蓋的薄膜層刻蝕；將固化區(qū)的光刻膠剝離。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種薄膜圖案化的方法。

背景技術(shù)

TFT-LCD(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，薄膜晶體管-液晶顯示器)作為一種平板顯示裝置，因其具有體積小、功耗低、無輻射以及制作成本相對較低等特點(diǎn)，而越來越多地被應(yīng)用于高性能顯示領(lǐng)域當(dāng)中。

TFT-LCD由相互對盒的彩膜基板和陣列基板構(gòu)成。其中,陣列基板上具有多條橫縱交叉的柵線和數(shù)據(jù)線，所述柵線和所述數(shù)據(jù)線交叉界定多個(gè)像素單元。其中，像素單元的個(gè)數(shù)與液晶顯示器的分辨率有關(guān)。為了滿足液晶顯示器高分辨率的發(fā)展趨勢，需要增加單位尺寸內(nèi)像素單元的數(shù)量，同時(shí)柵線、數(shù)據(jù)線或其他位于陣列基板和彩膜基板上的薄膜層圖案的線寬越來越小。例如，當(dāng)液晶顯示器的分辨率從200PPI(Pixels Per Inch，每英寸所擁有的像素?cái)?shù)目)提升至300PPI時(shí)，數(shù)據(jù)線的線寬需要從4um降低到2-3um。

現(xiàn)有技術(shù)中，可以采用掩膜曝光、顯影工藝制作上述薄膜層圖案。當(dāng)薄膜層圖案的線寬需要減小時(shí)，可以通過減小掩膜版的開口區(qū)域的尺寸來實(shí)現(xiàn)。然而，對于高分辨率的顯示器而言，由于薄膜層圖案的線寬過于小，因此掩膜版的開口區(qū)域的尺寸也會很小。這樣一來，就會導(dǎo)致曝光過程中，透過開口區(qū)域的光線的數(shù)量減小，產(chǎn)生曝光不足的現(xiàn)象，進(jìn)而導(dǎo)致形成的薄膜層圖案出現(xiàn)大面積的缺失，或者薄膜層圖案邊界處的坡度成型度較差等成膜缺陷的產(chǎn)生，從而降低了產(chǎn)品的質(zhì)量。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的實(shí)施例提供一種薄膜圖案化的方法，能夠解決制作線寬較小的薄膜層圖案時(shí)，由于掩膜版開口區(qū)域較小，使得曝光不足而引起的成膜缺陷。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案：

本發(fā)明實(shí)施例的一方面，提供一種薄膜圖案化的方法，包括：

在基板的表面涂覆一層薄膜層；

在所述薄膜層的表面涂覆光刻膠；

通過掩膜版對所述光刻膠進(jìn)行第一次曝光，形成第一半固化區(qū)，所述第一半固化區(qū)光刻膠的曝光的能量小于所述光刻膠的感光閾值；

通過所述掩膜版對所述光刻膠進(jìn)行第二次曝光，在所述第一半固化區(qū)上形成固化區(qū)；

其中，所述固化區(qū)的寬度小于所述第一半固化區(qū)的寬度，所述固化區(qū)光刻膠的曝光的能量大于等于所述光刻膠的感光閾值；

將所述光刻膠進(jìn)行顯影；

對未被光刻膠覆蓋的所述薄膜層刻蝕；

將所述固化區(qū)的光刻膠剝離。