[發明專利]一種摻銪的二氧化鈦/氧化石墨烯復合薄膜及其制備方法

有效

• 申請號: 201410770472.5
• 申請日: 2014-12-15
• 公開（公告）號: CN104596994A
• 公開（公告）日: 2015-05-06
• 發明（設計）人: 程逵;朱翼飛;翁文劍;宋晨路;杜丕一;沈鴿;趙高凌;張溪文;徐剛;汪建勛
• 申請（專利權）人: 浙江大學
• 主分類號: G01N21/63
• 分類號: G01N21/63;C03C17/22;C04B41/50
• 代理公司: 杭州求是專利事務所有限公司 33200
• 代理人: 韓介梅

1.一種摻銪的二氧化鈦/氧化石墨烯復合薄膜，其特征是在基底上有摻銪的二氧化鈦納米點和氧化石墨烯的混合層，混合層中二氧化鈦納米點的尺寸為30～150?nm，密度為1.0×10¹⁰～1.0×10¹¹/?cm²，Eu³⁺摩爾濃度為0.005～0.015?mol/L，氧化石墨烯濃度為5?mg/L～15?mg/L。

2.根據權利要求1所述的摻銪的二氧化鈦/氧化石墨烯復合薄膜，其特征在于所述的基底為石英玻璃、硅片、鉭片、鈦片或鈦鎳合金片。

3.制備權利要求1所述的摻銪的二氧化鈦/氧化石墨烯復合薄膜的方法，其特征在于步驟如下：

1）先將氧化石墨烯和銪源加入無水乙醇中，攪拌至銪源完全溶解后，再加入鈦源、絡合劑和去離子水，鈦源和絡合劑的摩爾比為1:0.2～0.4，鈦源和去離子水的摩爾比為1:0.8～1.2，然后加入聚乙烯吡咯烷酮，在室溫下充分攪拌，配制成鈦原子濃度為0.1～0.5?mol/L，聚乙烯吡咯烷酮濃度為10～100?g/L，Eu濃度為0.005～0.015?mol/L，氧化石墨烯濃度為5?mg/L～15?mg/L的二氧化鈦前驅體溶膠；

2)將二氧化鈦前驅體溶膠滴至清洗凈的基底表面至其鋪滿，并以4000～8000?rpm的速度旋涂20～60?s，然后將其置于400～600℃下保溫0.5～2?h。

4.根據權利要求3所述的摻銪的二氧化鈦/氧化石墨烯復合薄膜的制備方法，其特征在于所述的銪源為Eu(TMHD)₃或者Eu(NO₃)₃·6H₂O。

5.根據權利要求3所述的摻銪的二氧化鈦/氧化石墨烯復合薄膜的制備方法，其特征在于所述的鈦源為鈦酸四丁酯、四氯化鈦、三氯化鈦、氟化鈦或硫酸。

6.根據權利要求3所述的摻銪的二氧化鈦/氧化石墨烯復合薄膜的制備方法，其特征在于所述的絡合劑為乙酰丙酮或乙醇胺。