[發(fā)明專利]一種顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410768084.3 | 申請日: | 2014-12-11 |
| 公開(公告)號: | CN104375306B | 公開(公告)日: | 2018-02-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙龍;薛靜;崔子巍;尹巖巖 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1333 | 分類號: | G02F1/1333;G02F1/13357 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11112 | 代理人: | 彭瑞欣,陳源 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 顯示裝置 | ||
1.一種顯示裝置,包括相對設(shè)置的顯示基板和背光模組,其特征在于,所述顯示基板和所述背光模組相對的面間設(shè)置有透明的、能使得所述顯示基板和所述背光模組排斥分離的物質(zhì);
透明的、能使得所述顯示基板和所述背光模組排斥分離的物質(zhì)為同性磁粉顆粒,所述同性磁粉顆粒均勻設(shè)置于所述顯示基板和所述背光模組相對的面間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其特征在于,所述顯示基板包括彩膜基板、陣列基板和設(shè)置于所述彩膜基板與所述陣列基板之間的液晶層、以及設(shè)置于所述陣列基板靠近所述背光模組一側(cè)的偏光片;所述背光模組對應(yīng)著所述顯示基板的區(qū)域,包括依次層疊設(shè)置的反射片、導(dǎo)光板和膜材組,所述膜材組與所述偏光片相對。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示裝置,其特征在于,所述同性磁粉顆粒設(shè)置于所述膜材組的上表面和所述陣列基板的下表面;
或者,所述同性磁粉顆粒設(shè)置于所述膜材組的上表面和所述偏光片的下表面。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示裝置,其特征在于,所述同性磁粉顆粒通過涂覆工藝涂覆在所述膜材組的上表面和所述陣列基板的下表面,或者所述同性磁粉顆粒通過涂覆工藝涂覆在所述膜材組的上表面和所述偏光片的下表面。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示裝置,其特征在于,所述同性磁粉顆粒均勻涂覆,所述同性磁粉顆粒的涂覆密度范圍為80-120顆/mm2。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示裝置,其特征在于,所述同性磁粉顆粒摻雜于所述偏光片內(nèi)和涂覆于所述膜材組的上表面。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示裝置,其特征在于,所述同性磁粉顆粒均勻摻雜,所述同性磁粉顆粒在所述偏光片中的摻雜密度范圍為80-120顆/mm2。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其特征在于,所述同性磁粉顆粒的粒徑范圍為10-130μm。
9.根據(jù)權(quán)利要求2-7任一項(xiàng)所述的顯示裝置,其特征在于,所述膜材組下表面和所述導(dǎo)光板上表面之間設(shè)置有透明的異性磁粉顆粒,以使得所述膜材組和所述導(dǎo)光板吸引接近。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示裝置,其特征在于,所述異性磁粉顆粒通過涂覆工藝涂覆在所述膜材組的下表面和所述導(dǎo)光板的上表面。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





