[發明專利]一種鍍銅薄膜及其生產工藝

有效

• 申請號: 201410759054.6
• 申請日: 2014-12-12
• 公開（公告）號: CN104451555A
• 公開（公告）日: 2015-03-25
• 發明（設計）人: 程鐵軍
• 申請（專利權）人: 濰坊潤誠新材料有限公司
• 主分類號: C23C14/26
• 分類號: C23C14/26;C23C14/14;C23C14/56
• 代理公司: 濟南舜源專利事務所有限公司 37205
• 代理人: 李江

1.一種鍍銅薄膜的生產工藝，其特征是：生產工藝包括銅塊的融化和薄膜的卷繞鍍。

2.根據權利要求1所述的鍍銅薄膜的生產工藝，其特征是：所述銅塊的融化的具體步驟為：

（1）將純度為99.95%以上的銅放入到高頻感應蒸發鍍膜電源的坩堝中；

（2）并按照重量份計算，相對于銅的比例為300~500：1的比例加入催化劑；

（3）將鍍銅腔室密封，抽真空至5x10^-3Pa~9x10^-3Pa；

（4）利用4000~8000Hz的高頻對高頻感應蒸發鍍膜電源坩堝中的銅加熱，加熱溫度在1800~2400℃，直至融化。

3.?根據權利要求2所述的鍍銅薄膜的生產工藝，其特征是：催化劑為鎳、鈦中的一種或兩種。

4.?根據權利要求3所述的鍍銅薄膜的生產工藝，其特征是：所述薄膜的卷繞鍍的具體步驟為：在真空狀態下，融化后的銅塊繼續加熱，使得融化的銅氣化，氣化后的銅在熱力作用下在真空倉內高速運動，從坩堝口向外逸出，坩堝口距離薄膜的高度在230~300mm，遇到卷繞在冷卻裝置上的薄膜后，受冷直接凝結在薄膜上，形成金屬銅鍍層，薄膜勻速卷繞，鍍層逐漸形成，即制得鍍銅薄膜。

5.?根據權利要求4所述的鍍銅薄膜的生產工藝，其特征是：薄膜的卷繞鍍過程中，冷卻裝置的冷卻溫度在零下12~18℃。

6.?根據權利要求5所述的鍍銅薄膜的生產工藝，其特征是：根據制備的鍍銅薄膜的厚度，控制收放卷的卷繞速度，速度控制在100~400米/分鐘。

7.?根據權利要求6所述的鍍銅薄膜的生產工藝，其特征是：所生產的鍍銅薄膜的厚度為1μm，電導率1.8×105S/cm~2.5×105S/cm，與薄膜之間的結合力15~20N/cm。

8.?根據權利要求7所述的鍍銅薄膜的生產工藝，其特征是：所生產的鍍銅薄膜的背光等級為10級。

9.?根據權利要求8所述的一種鍍銅薄膜，其特征是：包括塑料層，所述塑料層的單面或雙面鍍有銅膜。