[發(fā)明專利]一種可實現(xiàn)快速穩(wěn)定拋光的拋光液在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410758849.5 | 申請日: | 2014-12-10 |
| 公開(公告)號: | CN104650740A | 公開(公告)日: | 2015-05-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 潘國順;陳高攀;顧忠華;羅桂海;龔樺 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市力合材料有限公司;清華大學(xué);深圳清華大學(xué)研究院 |
| 主分類號: | C09G1/02 | 分類號: | C09G1/02 |
| 代理公司: | 深圳市鼎言知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44311 | 代理人: | 哈達(dá) |
| 地址: | 518108 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 實現(xiàn) 快速 穩(wěn)定 拋光 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種硅襯底材料化學(xué)機(jī)械拋光液,具體涉及一種可實現(xiàn)單晶硅快速穩(wěn)定拋光的拋光液。
背景技術(shù)
單晶硅是最重要的半導(dǎo)體材料之一,應(yīng)用的尺寸從最初的2英寸(50cm)發(fā)展到8英寸(450cm),一直都是現(xiàn)代集成電路發(fā)展的基石。隨著摩爾定律的發(fā)展,晶圓尺寸的擴(kuò)大及芯片特征尺寸不斷的減少,芯片加工過程步驟越來越繁瑣,要求也越來越高,如何保證加工效率和質(zhì)量是當(dāng)前面臨的挑戰(zhàn)。
作為芯片制造重要步驟,化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)是芯片特征尺寸降低的重要保證。為了降低表面的粗糙度和應(yīng)力層、提高平整度,硅襯底材料需要經(jīng)過粗、細(xì)、精等拋光過程,要求更高的襯底還需要增加一個以上的拋光步驟。因此,提高拋光過程的效率具有十分重要的意義。
硅襯底粗拋光過程去除量最大,占整個拋光步驟絕大部分的去除量,這個過程對硅表面的應(yīng)力層和平整度影響最大。在滿足去除量的條件下,為了縮短拋光時間可以從拋光液和拋光工藝兩個方面改進(jìn)。在拋光液方面,增大拋光液的化學(xué)腐蝕作用有利于拋光速率的加快,但是化學(xué)作用的增強(qiáng)表面較易于出現(xiàn)腐蝕缺陷,需要加入其它助劑來保護(hù),而助劑的加入又可能帶來拋光速率的下降問題,反而得不償失;除此之外,增加拋光液的固含量是另一改進(jìn)方法,而固含量的增加副作用同樣不容忽視:除了表面的劃傷之外,較深的應(yīng)力層會給接下來的加工增加困難。在拋光工藝方面,最有效的做法是增加拋光過程的壓強(qiáng),專利CN?102172878B采用分段加壓法,壓強(qiáng)最高加到1kg/cm2,較大的壓強(qiáng)很可能會產(chǎn)生較深的應(yīng)力層。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明目的是針對現(xiàn)有技術(shù)存在的問題,解決在常規(guī)的工藝條件下,不?影響應(yīng)力層和表面粗糙度的前提下提高硅襯底拋光去除速率的問題,而提供一種硅襯底材料快速穩(wěn)定拋光的拋光液。
一種可實現(xiàn)快速穩(wěn)定拋光的拋光液,其特征在于,所述的拋光液包含:
5-20wt%的納米級磨料,所述的磨料選自膠體二氧化硅顆粒;
1-10wt%的堿性腐蝕劑;
5-10wt%的鹽,所述的鹽選自水溶性鈉鹽、鉀鹽或銨鹽;
0.01-1wt%的穩(wěn)定劑;?
去離子水余量。
所述膠體二氧化硅顆粒粒徑分布范圍為40-80nm,其平均粒徑為55nm。
所述堿性腐蝕劑為氫氧化鉀、氫氧化鈉、氨、乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四丙基氫氧化銨、四丁基氫氧化銨、吡啶、哌嗪、咪唑、雙胍、四甲基胍中的一種或幾種。
所述水溶性鈉鹽、鉀鹽或銨鹽的陰離子包括氯、氟、溴、碘、氯酸、次氯酸、溴酸、次溴酸、硫酸、亞硫酸、硫代硫酸、硝酸、亞硝酸、磷酸、硼酸、碳酸及其酸式鹽中的一種或幾種。
所述水溶性鈉鹽為氯化鈉、氟化鈉、溴化鈉、碘化鈉、氯酸鈉、次氯酸鈉、溴酸鈉、次溴酸鈉、硫酸鈉、硫酸氫鈉、亞硫酸鈉、亞硫酸氫鈉、硫代硫酸鈉、硝酸鈉、亞硝酸鈉、磷酸鈉、磷酸氫鈉、磷酸二氫鈉、硼酸鈉、硼酸氫鈉、碳酸鈉、碳酸氫鈉中的至少一種;所述水溶性鉀鹽為氯化鉀、氟化鉀、溴化鉀、碘化鉀、氯酸鉀、次氯酸鉀、溴酸鉀、次溴酸鉀、硫酸鉀、硫酸氫鉀、亞硫酸鉀、亞硫酸氫鉀、硫代硫酸鉀、硝酸鉀、亞硝酸鉀、磷酸鉀、磷酸氫鉀、磷酸二氫鉀、硼酸鉀、硼酸氫鉀、碳酸鉀、碳酸氫鉀中的至少一種;所述水溶性銨鹽包括氯化銨、氟化銨、溴化銨、碘化銨、氯酸銨、次氯酸銨、溴酸銨、次溴酸銨、硫酸銨、硫酸氫銨、亞硫酸銨、亞硫酸氫銨、硫代硫酸銨、硝酸銨、亞硝酸銨、磷酸銨、磷酸氫銨、磷酸二氫銨、硼酸銨、硼酸氫銨、碳酸銨、碳酸氫銨中的至少一種。
所述穩(wěn)定劑選自一類主鏈為聚醚結(jié)構(gòu),末端活性官能團(tuán)為胺基的聚醚胺;所述穩(wěn)定劑分子量小于10000。
所述聚醚胺有單胺、二胺、三胺、仲胺、位阻胺和聚四亞甲基乙二醇基的聚醚胺。
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