[發明專利]一種制備高品質三氧化二鉻的方法

在審

• 申請號: 201410745201.4
• 申請日: 2015-08-04
• 公開（公告）號: CN104495930A
• 公開（公告）日: 2015-07-29
• 發明（設計）人: 王學文;王華光;高大雄;王明玉
• 申請（專利權）人: 中南大學
• 主分類號: C01G37/02
• 分類號: C01G37/02
• 代理公司: 長沙市融智專利事務所 43114
• 代理人: 魏娟

1.一種制備高品質三氧化二鉻的方法，其特征在于，包括以下步驟：

第一步：預處理

將水合氧化鉻加熱除去水后，破碎，得到氧化鉻粉末；

第二步：洗滌除雜

將第一步所得的氧化鉻粉末加入到堿性或中性或酸性的水溶液中攪拌，進行洗滌除雜；

第三步：真空熱處理

將第二步洗滌除雜后的氧化鉻粉末置于真空爐內，在溫度為300～650℃，壓強為5～550Pa的條件下進行真空熱處理，冷卻，得到三氧化二鉻。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述的真空熱處理時間為0.5～3.5h。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述的冷卻是維持壓強在5～550Pa的條件下隨爐冷卻至290℃以下，或者是充入保護氣體，再隨爐冷卻至290℃以下。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述的保護氣體為氮氣、氬氣、氦氣中的至少一種。

5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，水合氧化鉻在110～550℃溫度下干燥0.5～3.5h除去游離水及部分或全部結合水。

6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，氧化鉻粉末按固液比1:2～10g/mL加入到堿性或中性或酸性的水溶液中，在25～100℃溫度下，攪拌洗滌0.5～5h。

7.根據權利要求1或6所述的方法，其特征在于，所述的堿性水溶液是指游離氫氧根離子濃度在0.03～3mol/L范圍內的含氫氧化鈉、碳酸鈉、碳酸氫鈉、氨、氫氧化鉀、碳酸鉀中至少一種的水溶液；所述的酸性水溶液是游離氫離子濃度在0.05～3mol/L范圍內的含硫酸、鹽酸、硫酸銨、氯化銨中至少一種的水溶液。