[發明專利]一種利用納米壓痕形貌實時測量材料氧化速率的方法有效
| 申請號： | 201410743043.9 | 申請日： | 2014-12-05 |
| 公開（公告）號： | CN104406982A | 公開（公告）日： | 2015-03-11 |
| 發明（設計）人： | 馮雪;李燕;方旭飛 | 申請（專利權）人： | 清華大學 |
| 主分類號： | G01N21/84 | 分類號： | G01N21/84;G01B11/06 |
| 代理公司： | 北京鴻元知識產權代理有限公司 11327 | 代理人： | 邸更巖 |
| 地址： | 100084 北京市海淀區1*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 利用 納米 壓痕 形貌 實時 測量 材料 氧化 速率 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種利用納米壓痕形貌實時測量材料氧化速率的方法，其特征在于該方法包括如下步驟：
1)將待測試件表面磨平、拋光至滿足納米壓痕實驗的要求，在通入保護性氣體條件下，用納米壓痕儀在目標溫度下對試件表面進行壓痕實驗，留在試件表面的殘余壓痕作為標記壓痕；
2)停止通入保護性氣體，材料表面開始氧化，對標記壓痕進行實時原位掃描并實時記錄標記壓痕的形貌信息；
3)從標記壓痕的實時形貌信息中提取不同時刻的標記壓痕發生氧化后的實時深度值h以及三邊邊長的平均值a；
4)利用下式計算氧化膜厚度d：
或????????(公式2)
其中，d為氧化膜實時厚度，h為標記壓痕發生氧化后的實時深度值，a為標記壓痕發生氧化后的實時三邊邊長平均值，Δh為標記壓痕的深度變化值，Δa為標記壓痕的三邊邊長平均值變化值，α為壓頭形狀的特征角；
5)利用公式計算得到材料的實時氧化速率，
式中,Δt為時間間隔,Δd為在Δt時間間隔內氧化膜厚度的變化。
2.按照權利要求1所述的一種利用納米壓痕形貌實時測量材料氧化速率的方法，其特征在于：步驟1)中的目標溫度范圍為常溫到1000℃。
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