[發(fā)明專利]一種真空磁控濺射鍍膜磁懸浮傳動(dòng)裝置及應(yīng)用方法

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• 申請日: 2014-11-29
• 公開（公告）號(hào): CN104404465A
• 公開（公告）日: 2015-03-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王戀貴;董安光;譚華;秦遵紅
• 申請（專利權(quán)）人: 洛陽康耀電子有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35;C23C14/56;C23C14/08
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• 代理人: 暫無信息

1.一種真空磁控濺射鍍膜磁懸浮傳動(dòng)裝置，是由：車體(1)、上絕緣塊(2)、一號(hào)磁靴(3)、倒U形磁鐵護(hù)套(4)、強(qiáng)磁N極(5)、下絕緣座(6)、傳動(dòng)導(dǎo)向桿(7)、傳動(dòng)系統(tǒng)傳動(dòng)輪(8)、T形磁鐵護(hù)套(9)、強(qiáng)磁S極(10)、二號(hào)磁靴(11)、螺釘(12)構(gòu)成；其特征在于：車體(1)上方設(shè)置至少五個(gè)上絕緣塊(2)，下方設(shè)置至少五個(gè)下絕緣座(6)，上絕緣塊(2)的上方與倒U形磁鐵護(hù)套(4)之間設(shè)置一號(hào)磁靴(3)，倒U形磁鐵護(hù)套(4)內(nèi)設(shè)置強(qiáng)磁N極(5)，下絕緣座(6)下方設(shè)置傳動(dòng)導(dǎo)向桿(7)，傳動(dòng)導(dǎo)向桿(7)下方與傳動(dòng)系統(tǒng)傳動(dòng)輪(8)對(duì)應(yīng)設(shè)置；倒U形磁鐵護(hù)套(4)上方設(shè)置T形磁鐵護(hù)套(9)，T形磁鐵護(hù)套(9)與倒U形磁鐵護(hù)套(4)之間預(yù)留磁場作用空間，T形磁鐵護(hù)套(9)內(nèi)設(shè)置強(qiáng)磁S極(10)，T形磁鐵護(hù)套(9)上方設(shè)置二號(hào)磁靴(11)，T形磁鐵護(hù)套(9)通過螺釘(12)固定在二號(hào)磁靴(11)上，二號(hào)磁靴(11)設(shè)置在真空腔室頂部(13)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空磁控濺射鍍膜磁懸浮傳動(dòng)裝置，其特征在于：所述的上絕緣塊(2)的剖面為H形，上絕緣塊(2)的上下方分別構(gòu)成上卡槽與下卡槽，下卡槽與車體(1)上方對(duì)應(yīng)設(shè)置，上卡槽與一號(hào)磁靴(3)的下方對(duì)應(yīng)設(shè)置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空磁控濺射鍍膜磁懸浮傳動(dòng)裝置，其特征在于：所述的T形磁鐵護(hù)套(9)內(nèi)設(shè)置磁鐵空腔，磁鐵空腔內(nèi)設(shè)置強(qiáng)磁S極(10)；倒U形磁鐵護(hù)套(4)內(nèi)設(shè)置磁鐵空腔，磁鐵空腔內(nèi)設(shè)置強(qiáng)磁N極(5)，倒U形磁鐵護(hù)套(4)內(nèi)的強(qiáng)磁N極(5)與一號(hào)磁靴(3)的上方對(duì)應(yīng)設(shè)置。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空磁控濺射鍍膜磁懸浮傳動(dòng)裝置，其特征在于：所述的下絕緣座(6)的上方設(shè)置上卡槽，下方設(shè)置弧形凹槽，上卡槽與車體(1)下方對(duì)應(yīng)設(shè)置，弧形凹槽與傳動(dòng)導(dǎo)向桿(7)對(duì)應(yīng)設(shè)置。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空磁控濺射鍍膜磁懸浮傳動(dòng)裝置，其特征在于：所述的T形磁鐵護(hù)套(9)與倒U形磁鐵護(hù)套(4)位于同一垂直線上。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空磁控濺射鍍膜磁懸浮傳動(dòng)裝置，其特征在于：所述的T形磁鐵護(hù)套(9)內(nèi)的強(qiáng)磁S極(10)垂直于二號(hào)磁靴(11)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空磁控濺射鍍膜磁懸浮傳動(dòng)裝置，其特征在于：所述的強(qiáng)磁N極(5)采用3200-4500高斯的釤鈷磁鐵，強(qiáng)磁S極(10)采用3800-5000高斯的釤鈷磁鐵。

8.一種真空磁控濺射鍍膜磁懸浮傳動(dòng)裝置的應(yīng)用方法，其特征在于：車體(1)上下方的上絕緣塊(2)和下絕緣座(6)使車體(1)與真空室絕緣達(dá)到與陰、陽極絕緣，T形磁鐵護(hù)套(9)內(nèi)的強(qiáng)磁S極(10)與倒U形磁鐵護(hù)套(4)內(nèi)的強(qiáng)磁N極(5)產(chǎn)生相互的吸引力，使車體(1)向上處于懸浮狀態(tài)，同時(shí)，強(qiáng)磁S極(10)和強(qiáng)磁N極(5)的磁鐵頑校力相抵消后，使強(qiáng)磁S極(10)和強(qiáng)磁N極(5)避免吸在一起，傳動(dòng)導(dǎo)向桿(7)與傳動(dòng)系統(tǒng)傳動(dòng)輪(8)摩擦接觸，摩擦力為車體(1)的重力減去向上的吸力，車體(1)隨著傳動(dòng)系統(tǒng)傳動(dòng)輪(8)的轉(zhuǎn)動(dòng)向前平穩(wěn)運(yùn)行。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種真空磁控濺射鍍膜磁懸浮傳動(dòng)裝置的應(yīng)用方法，其特征在于：啟動(dòng)運(yùn)行ITO膜連續(xù)性真空磁控濺射鍍膜設(shè)備，將連續(xù)性真空磁控濺射鍍膜設(shè)備室內(nèi)抽真空，使本底真空度為5×10-4Pa-6.8×10-4Pa，通入濺射氣體氬氣Ar和作為補(bǔ)充成分的氧氣O2；在真空的條件下，在車體(1)的ITO薄膜安裝區(qū)裝載至少一塊矩形靶材，采用由3-10％SnO2和90％-97％In2O3組成的粉末經(jīng)熱、靜壓燒結(jié)的陶瓷靶材，控制真空室墻體溫控加熱裝置和真空室溫控門對(duì)靶材均勻加熱，調(diào)節(jié)基板襯底預(yù)熱溫度，整版均勻達(dá)到50℃-200℃，預(yù)備在清潔的玻璃基片上沉積ITO薄膜；

運(yùn)行鍍膜小車裝置，T形磁鐵護(hù)套(9)內(nèi)的強(qiáng)磁S極(10)與倒U形磁鐵護(hù)套(4)內(nèi)的強(qiáng)磁N極(5)產(chǎn)生相互吸引的磁力，使鍍膜小車裝置以0.5-1m/min的速度勻速前進(jìn)，上絕緣塊(2)和下絕緣座(6)使車體(1)與真空室的正負(fù)極絕緣，保證ITO薄膜安裝區(qū)內(nèi)的ITO薄膜不受真空室的正負(fù)極的干擾，同時(shí)，對(duì)玻璃基片進(jìn)行直流磁控濺射，濺射功率為4KW-5KW，濺射時(shí)工作壓強(qiáng)為0.4-0.6Pa，將通入的氬氣Ar的流量調(diào)節(jié)為120-160Sccm，氧氣O2的流量調(diào)節(jié)為3-7Sccm，并且控制真空室墻體溫控加熱裝置和真空室溫控門對(duì)于靶材均勻充分加熱1-3分鐘，調(diào)節(jié)基板襯底溫度，整版均勻達(dá)到200℃-350℃；

得到在玻璃襯底上制備的ITO薄膜，膜厚均為30nm，然后進(jìn)行鍍膜退火；制成電阻率為2×10-4Ω/cm、透過率為90％以上的ITO膜的成品，包裝入庫。