[發明專利]控制閥模塊與測漏監控系統

有效

• 申請號: 201410735393.0
• 申請日: 2014-12-05
• 公開（公告）號: CN105719987B
• 公開（公告）日: 2018-07-06
• 發明（設計）人: 歐嘉修;陳啟祥;郭瑞儀;黃文達
• 申請（專利權）人: 力晶科技股份有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 陳小雯

本發明公開一種控制閥模塊與測漏監控系統，該控制閥模塊包括載座、連通管、閥箱以及固定結構。連通管設置于載座上。閥箱連接連通管，用以導通或阻斷連通管，其中連通管位于載座與閥箱之間。固定結構包括框架以及壓力感測元件。框架固定閥箱與連通管于載座上。壓力感測元件連接框架并與閥箱相抵接，其中閥箱位于連通管與壓力感測元件之間。本發明另提出一種應用前述控制閥模塊的測漏監測系統。

技術領域

本發明涉及一種控制閥模塊與監控系統，且特別是涉及一種控制閥模塊與使用此控制閥模塊的測漏監控系統。

背景技術

在半導體制作工藝中，大多會利用化學溶液或氣體來清洗或平坦化半導體元件，其中化學溶液或氣體通常是通過管路系統輸送至清洗或平坦化半導體元件的站位，且管路系統上設置有控制閥模塊，用以導通或阻斷管路。

一般來說，控制閥模塊是由控制閥組件、連通管件以及固定螺桿組合而成，其中固定螺桿穿過控制閥組件與連通管件以固定前述兩者，進而防止化學溶液或氣體泄漏至外界。然而，穿過控制閥組件與連通管件的內部的固定螺桿可能會受化學溶液或氣體的腐蝕而斷裂，使得控制閥組件與連通管件松脫開來，甚而造成化學溶液或氣體泄漏至外界。每一次發生化學溶液或氣體泄漏至外界的狀況時，廠房不僅需停機維修造成了制作工藝的中斷，搶救維修人員也需冒著風險進行搶修。

發明內容

本發明的目的在于提供一種控制閥模塊，可防止流體泄露至外界。

本發明的再一目的在于提供一種測漏監控系統，可用以監測流體是否自控制閥模塊泄露至外界。

為達上述目的，本發明提出一種控制閥模塊，包括載座、連通管、閥箱以及固定結構。連通管設置于載座上。閥箱連接連通管，用以導通或阻斷連通管，其中連通管位于載座與閥箱之間。固定結構包括框架以及壓力感測元件。框架固定閥箱與連通管于載座上。壓力感測元件連接框架并與閥箱相抵接，其中閥箱位于連通管與壓力感測元件之間。

在本發明的一實施例中，上述的控制閥模塊還包括傳輸線，電性耦接壓力感測元件。

在本發明的一實施例中，在上述的框架固定閥箱與連通管于載座時，框架施加預力于壓力感測元件而使壓力感測元件所測得的壓力值為定值。

在本發明的一實施例中，在上述的框架固定閥箱與連通管于載座時，框架施加預力于壓力感測元件，且在流體通過連通管時，連通管通過閥箱以施加作用力于壓力感測元件上，使壓力感測元件所測得的壓力值反應出相消減后的預力與作用力，且壓力值為定值。

在本發明的一實施例中，上述的閥箱具有控制閥，用以導通或阻斷連通管。

本發明提出一種測漏監控系統包括至少一個前述的控制閥模塊、流體供應單元以及中控單元。流體供應單元連接連通管。中控單元電性耦接流體供應單元，以控制流體供應單元輸送或停止輸送流體至連通管。

在本發明的一實施例中，上述的測漏監控系統還包括中繼單元，電性耦接壓力感測元件與中控單元。中繼單元適于接收接壓力感測元件所測得的壓力值以回傳至中控單元。

在本發明的一實施例中，上述的控制閥模塊還包括傳輸線，電性耦接壓力感測元件與中繼單元。

在本發明的一實施例中，上述的閥箱具有控制閥，中控單元適于通過中繼單元以控制控制閥導通或阻斷連通管。