[發(fā)明專(zhuān)利]控制閥模塊與測(cè)漏監(jiān)控系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410735393.0 | 申請(qǐng)日: | 2014-12-05 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN105719987B | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-07-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 歐嘉修;陳啟祥;郭瑞儀;黃文達(dá) | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 力晶科技股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L21/67 | 分類(lèi)號(hào): | H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 陳小雯 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)灣新竹*** | 國(guó)省代碼: | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 連通管 閥箱 控制閥模塊 載座 壓力感測(cè)元件 測(cè)漏 固定結(jié)構(gòu) 監(jiān)控系統(tǒng) 監(jiān)測(cè)系統(tǒng) 連接框架 固定閥 導(dǎo)通 相抵 應(yīng)用 | ||
1.一種控制閥模塊,包括:
載座;
連通管,設(shè)置于該載座上;
閥箱,連接該連通管,用以導(dǎo)通或阻斷該連通管,其中該連通管位于該載座與該閥箱之間;以及
固定結(jié)構(gòu),包括:
框架,固定該閥箱與該連通管于該載座上;以及
壓力感測(cè)元件,連接該框架并與該閥箱相抵接,其中該閥箱位于該連通管與該壓力感測(cè)元件之間,
其中在該框架固定該閥箱與該連通管于該載座時(shí),該框架施加一預(yù)力于該壓力感測(cè)元件而使該壓力感測(cè)元件所測(cè)得的一壓力值為定值。
2.如權(quán)利要求1所述的控制閥模塊,還包括:
傳輸線,電性耦接該壓力感測(cè)元件。
3.如權(quán)利要求1所述的控制閥模塊,其中在該框架固定該閥箱與該連通管于該載座時(shí),該框架施加一預(yù)力于該壓力感測(cè)元件,且在一流體通過(guò)該連通管時(shí),該連通管通過(guò)該閥箱以施加一作用力于該壓力感測(cè)元件上,使該壓力感測(cè)元件所測(cè)得的一壓力值反應(yīng)出相消減后的該預(yù)力與該作用力,且該壓力值為定值。
4.如權(quán)利要求1所述的控制閥模塊,其中該閥箱具有一控制閥,用以導(dǎo)通或阻斷該連通管。
5.一種測(cè)漏監(jiān)控系統(tǒng),包括:
至少一控制閥模塊,包括:
載座;
連通管,設(shè)置于該載座上;
閥箱,連接該連通管,用以導(dǎo)通或阻斷該連通管,其中該連通管位于該載座與該閥箱之間;以及
固定結(jié)構(gòu),包括:
框架,固定該閥箱與該連通管于該載座上;以及
壓力感測(cè)元件,連接該框架并與該閥箱相抵接,其中該閥箱位于該連通管與該壓力感測(cè)元件之間;
流體供應(yīng)單元,連接該連通管;以及
中控單元,電性耦接該流體供應(yīng)單元,以控制該流體供應(yīng)單元輸送或停止輸送一流體至該連通管,
其中在該框架固定該閥箱與該連通管于該載座時(shí),該框架施加一預(yù)力于該壓力感測(cè)元件而使該壓力感測(cè)元件所測(cè)得的一壓力值為定值。
6.如權(quán)利要求5所述的測(cè)漏監(jiān)控系統(tǒng),還包括:
中繼單元,電性耦接該壓力感測(cè)元件與該中控單元,該中繼單元適于接收接該壓力感測(cè)元件所測(cè)得的一壓力值以回傳至該中控單元。
7.如權(quán)利要求6所述的測(cè)漏監(jiān)控系統(tǒng),其中該控制閥模塊還包括:
傳輸線,電性耦接該壓力感測(cè)元件與該中繼單元。
8.如權(quán)利要求6所述的測(cè)漏監(jiān)控系統(tǒng),其中該閥箱具有一控制閥,該中控單元適于通過(guò)該中繼單元以控制該控制閥導(dǎo)通或阻斷該連通管。
9.如權(quán)利要求5所述的測(cè)漏監(jiān)控系統(tǒng),其中在該框架固定該閥箱與該連通管于該載座時(shí),該框架施加一預(yù)力于該壓力感測(cè)元件,且在一流體通過(guò)該連通管時(shí),該連通管通過(guò)該閥箱以施加一作用力于該壓力感測(cè)元件上,使該壓力感測(cè)元件所測(cè)得的一壓力值反應(yīng)出相消減后的該預(yù)力與該作用力,且該壓力值為定值。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于力晶科技股份有限公司,未經(jīng)力晶科技股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410735393.0/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專(zhuān)門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專(zhuān)門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專(zhuān)門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





