[發明專利]一種釹鐵硼薄片環形產品的電鍍工藝

有效

• 申請號: 201410734542.1
• 申請日: 2014-12-05
• 公開（公告）號: CN104480506A
• 公開（公告）日: 2015-04-01
• 發明（設計）人: 曹立斌;陳國;胡克;余衍煉
• 申請（專利權）人: 寧波韻升股份有限公司;寧波韻升磁體元件技術有限公司;寧波韻升特種金屬材料有限公司
• 主分類號: C25D7/04
• 分類號: C25D7/04;C25D5/14;C25D3/12;C25D3/38
• 代理公司: 寧波奧圣專利代理事務所(普通合伙) 33226
• 代理人: 方小惠

1.一種釹鐵硼薄片環形產品的電鍍工藝，其特征在于包括以下步驟：

①將釹鐵硼薄片環形產品進行首次電鍍前處理；

②將電鍍處理后的每片釹鐵硼薄片環形產品上捆上一圈綁帶，所述的綁帶的材料為耐酸堿、耐高溫和抗壓的非導電性材料，所述的綁帶的寬度為1～3mm，所述的綁帶與釹鐵硼薄片環形產品之間的空隙為2～20mm，所述的綁帶沿釹鐵硼薄片環形產品的內側面、上端面、外側面和下端面圍繞一圈后打結；

③將捆好綁帶的釹鐵硼薄片環形產品放入電鍍用滾筒中；

④將裝入滾筒內的釹鐵硼薄片環形產品進行再次電鍍前處理：將滾筒依次放入除油槽內進行除油處理、除銹槽內進行除銹處理和活化槽內進行活化處理；

⑤將滾筒放入第一電鍍池內進行首次電鍍鎳處理，鍍層厚度為2～6um；

⑥將滾筒放入第二電鍍池內進行電鍍銅處理，鍍層厚度為2～10um；

⑦將滾筒放入第三電鍍池內進行再次電鍍鎳處理，鍍層厚度為2～10um。

2.根據權利要求1所述的一種釹鐵硼薄片環形產品的電鍍工藝，其特征在于所述的非導電性材料為聚丙烯材料或者聚酰胺材料。

3.根據權利要求1所述的一種釹鐵硼薄片環形產品的電鍍工藝，其特征在于所述的首次電鍍鎳處理過程中使用的電鍍溶液為硫酸鎳溶液，所述的硫酸鎳溶液由硫酸鎳、氯化鎳、硼酸和水混合而成，其中硫酸鎳的濃度為200～400g/L，氯化鎳的濃度為20～70g/L，硼酸的濃度為20～70g/L，所述的硫酸鎳溶液的PH為3.5～5.0，溫度在40～60℃。

4.根據權利要求1所述的一種釹鐵硼薄片環形產品的電鍍工藝，其特征在于所述的電鍍銅處理過程中使用的電鍍溶液為焦磷酸銅溶液，所述的焦磷酸銅溶液由焦磷酸鉀、焦磷酸銅和水混合而成，其中焦磷酸鉀的濃度為200～400g/L，焦磷酸銅的濃度為20～70g/L，所述的焦磷酸銅溶液的PH為7.5～9.0，溫度在30～50℃。

5.根據權利要求1所述的一種釹鐵硼薄片環形產品的電鍍工藝，其特征在于所述的再次電鍍鎳處理過程中使用的電鍍溶液為硫酸鎳溶液，所述的硫酸鎳溶液由硫酸鎳、氯化鎳、硼酸和水混合而成，其中硫酸鎳的濃度為150～350g/L，氯化鎳的濃度為20～70g/L，硼酸的濃度為20～70g/L，所述的硫酸鎳溶液的PH為3.5～5.0，溫度在40～60℃。