[發(fā)明專利]半導(dǎo)體器件在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410724754.1 | 申請(qǐng)日: | 2014-12-02 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105720057A | 公開(公告)日: | 2016-06-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙劼;鐘匯才 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院微電子研究所 |
| 主分類號(hào): | H01L27/092 | 分類號(hào): | H01L27/092;H01L29/423 |
| 代理公司: | 北京藍(lán)智輝煌知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11345 | 代理人: | 陳紅 |
| 地址: | 100029 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體器件 | ||
1.一種半導(dǎo)體器件,包括一個(gè)或多個(gè)FinFET反相器,每個(gè)FinFET反相器包括至少一個(gè)PFinFET和至少一個(gè)NFinFET,PFinFET和NFinFET每一個(gè)均包括:
多個(gè)鰭片結(jié)構(gòu),在襯底之上沿第一方向延伸;
柵極,沿第二方向延伸而跨越多個(gè)鰭片結(jié)構(gòu);
源區(qū)和漏區(qū),分布在多個(gè)鰭片結(jié)構(gòu)中并且在柵極的兩側(cè);
其中,PFinFET和NFinFET的柵極連接至輸入節(jié)點(diǎn),PFinFET和NFinFET的漏區(qū)連接至輸出節(jié)點(diǎn),PFinFET的源區(qū)連接至電源電壓,NFinFET的源區(qū)接地;
其中,PFinFET和NFinFET的襯底通過(guò)接觸孔電連接至輸入節(jié)點(diǎn)。
2.如權(quán)利要求1的半導(dǎo)體器件,其中,多個(gè)FinFET反相器中各個(gè)PFinFET的柵極功函數(shù)相互相等或不相等,各個(gè)NFinFET的柵極功函數(shù)相互相等或不相等。
3.如權(quán)利要求2的半導(dǎo)體器件,其中,通過(guò)控制各個(gè)柵極的摻雜和/或金屬材料來(lái)調(diào)節(jié)柵極功函數(shù)。
4.如權(quán)利要求1的半導(dǎo)體器件,其中,通過(guò)調(diào)節(jié)各個(gè)柵極的分布路線以及源漏區(qū)摻雜而調(diào)節(jié)延遲時(shí)間。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





