[發明專利]一種新型防偽標識及其制備方法

有效

• 申請號: 201410709302.6
• 申請日: 2014-11-28
• 公開（公告）號: CN104464505A
• 公開（公告）日: 2015-03-25
• 發明（設計）人: 杜學敏;吳天準;李騰躍;韓學寧
• 申請（專利權）人: 中國科學院深圳先進技術研究院
• 主分類號: G09F3/02
• 分類號: G09F3/02
• 代理公司: 廣州三環專利代理有限公司 44202
• 代理人: 郝傳鑫;熊永強

1.一種新型防偽標識，其特征在于，包括防偽標識基底和隱形防偽圖案，所述隱形防偽圖案由微納材料與所述防偽標識基底構成區域差異形成，所述防偽標識基底表面包括隱形防偽圖案區域和非圖案區域，所述隱形防偽圖案區域或所述非圖案區域由微納材料在所述防偽標識基底表面形成的薄膜層構成，所述微納材料包括有機顆粒、無機顆粒、光刻膠、光敏樹脂、金屬、合金、陶瓷、聚合物、活性小分子、氧化物、硫化物、氮化物、碳化物或組成為III-V、II-IV或IV-VI族元素的二元或多元化合物，所述隱形防偽圖案在吹口氣、或遇到水或水汽時即可顯現，待水分揮發后又可隱形。

2.如權利要求1所述的新型防偽標識，其特征在于，所述有機顆粒包括聚苯乙烯顆粒、聚甲基丙烯酸甲酯顆粒、聚異丙基丙烯酸酯顆粒、聚丙烯酰胺顆粒和聚丙烯酸顆粒、或其改性顆粒中的一種或多種；所述無機顆粒包括二氧化硅顆粒、二氧化鈦顆粒、四氧化三鐵顆粒、三氧化二鐵顆粒、金和銀顆粒、或其改性顆粒中的一種或多種。

3.如權利要求1所述的新型防偽標識，其特征在于，所述防偽標識基底的材料包括塑料、橡膠、玻璃、硅片、陶瓷或金屬。

4.如權利要求1所述的新型防偽標識，其特征在于，所述隱形防偽圖案采用噴墨打印、3D打印、涂覆、壓印、光刻、物理沉積、化學沉積、表面改性和表面接枝法中的一種或多種方法結合制備在所述防偽標識基底上。

5.一種新型防偽標識的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

提供一防偽標識基底，將微納材料采用噴墨打印、3D打印、涂覆、壓印、光刻、物理沉積、化學沉積、表面改性和表面接枝法中的一種或多種方法結合，并根據預設防偽圖案制備在所述防偽標識基底上形成隱形防偽圖案，即得到新型防偽標識，所述新型防偽標識包括防偽標識基底和隱形防偽圖案，所述隱形防偽圖案由微納材料與所述防偽標識基底構成區域差異形成，所述防偽標識基?底表面包括隱形防偽圖案區域和非圖案區域，所述隱形防偽圖案區域或所述非圖案區域由微納材料在所述防偽標識基底表面形成的薄膜層構成，所述隱形防偽圖案在吹口氣、或遇到水或水汽時即可顯現，待水分揮發后又可隱形，所述微納材料包括有機顆粒、無機顆粒、光刻膠、光敏樹脂、金屬、合金、陶瓷、聚合物、活性小分子、氧化物、硫化物、氮化物或碳化物或組成為III-V、II-IV或IV-VI族元素的二元或多元化合物。

6.如權利要求5所述的制備方法，其特征在于，所述有機顆粒包括聚苯乙烯顆粒、聚甲基丙烯酸甲酯顆粒、聚異丙基丙烯酸酯顆粒、聚丙烯酰胺顆粒和聚丙烯酸顆粒、或其改性顆粒中的一種或多種；所述無機顆粒包括二氧化硅顆粒、二氧化鈦顆粒、四氧化三鐵顆粒、三氧化二鐵顆粒、金和銀顆粒、或其改性顆粒中的一種或多種。

7.如權利要求5或6所述的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

將有機顆粒或無機顆粒分散到溶劑中制備成混合液；

將所得混合液通過噴墨打印、3D打印、涂覆或壓印的方式在所述隱形防偽圖案區域制備出隱形防偽圖案，得到新型防偽標識，所述隱形防偽圖案區域由有機顆粒或無機顆粒在所述防偽標識基底表面形成的薄膜層構成。

8.如權利要求5所述的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

將具有預設防偽圖案的薄膜粘附在防偽標識基底上覆蓋所述非圖案區域；然后在所述隱形防偽圖案區域通過物理沉積或化學沉積的方式沉積一層金屬、合金、陶瓷、聚合物、活性小分子、氧化物、硫化物、氮化物、碳化物或組成為III-V、II-IV或IV-VI族元素的二元或多元化合物；最后剝離所述具有預設防偽圖案的薄膜即得到新型防偽標識。

9.如權利要求5所述的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

將液態光刻膠或光敏樹脂涂覆在防偽標識基底表面，得到光刻膠或光敏樹脂層；

然后將具有預設防偽圖案的模板與所述防偽標識基底對齊；

將所述模板壓入所述光刻膠或光敏樹脂層并經紫外照射固化，脫模后，即得到新型防偽標識。

10.如權利要求5所述的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

將聚合物溶于溶劑中，得到混合溶液；

根據預設防偽圖案，將所述混合溶液通過噴墨打印的方式在所述隱形防偽圖案區域打印制備出隱形防偽圖案，然后加熱固化所述聚合物；再在所述非圖案區域進行plasma處理或是熏蒸上一層活性小分子；再將上述固化后的聚合物剝離，即得到所述新型防偽標識。