[發(fā)明專利]一種階梯鍍銅的PCB生產(chǎn)方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410708380.4 | 申請日: | 2014-11-28 |
| 公開(公告)號: | CN104470234A | 公開(公告)日: | 2015-03-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 莫介云 | 申請(專利權(quán))人: | 廣東依頓電子科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H05K3/10 | 分類號: | H05K3/10 |
| 代理公司: | 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44205 | 代理人: | 張海文 |
| 地址: | 528445 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 階梯 鍍銅 pcb 生產(chǎn) 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及印刷電路板,尤其是一種階梯鍍銅的PCB生產(chǎn)方法。
背景技術(shù)
隨著電子產(chǎn)品的日新月異和多功能化的需求,部分PCB?線路板在設(shè)計(jì)時(shí),不同區(qū)域有不同的銅厚要求,即完成外層圖形時(shí)線路板具有階梯銅厚。為解決此階梯鍍銅的問題,現(xiàn)有技術(shù)中有兩種方法,其中一種就是采用先做厚銅再做薄銅的做法,該方法在薄銅部分制備中采用先電鍍后減銅的方法,這樣在薄銅部分的制備中就經(jīng)過了兩次電鍍和1?次減銅操作,銅厚的均勻性和可靠性很難達(dá)到設(shè)計(jì)要求。
另一種方法是如申請?zhí)枮镃N201310723917所公開的--包含階梯銅厚圖形的PCB?線路板及其制備方法,該文獻(xiàn)的技術(shù)方案需要2次圖形轉(zhuǎn)移,每次都經(jīng)過干膜,蝕刻,褪膜工藝,流程繁瑣易出現(xiàn)圖形偏位等缺陷;同時(shí)2次圖形轉(zhuǎn)移需要2套不同的菲林及其它生產(chǎn)工具,浪費(fèi)成本且耗時(shí)長影響交期。
發(fā)明內(nèi)容
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明的目的是提供一種僅需一次圖形轉(zhuǎn)移、品質(zhì)穩(wěn)定的PCB階梯鍍銅生產(chǎn)方法。
本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:
一種階梯鍍銅的PCB生產(chǎn)方法,?該P(yáng)CB上包括具有鍍不同厚度銅層的厚銅區(qū)和薄銅區(qū),包括以下步驟:(A)前工序;(B)鉆孔;(C)沉銅、板電;(D)圖電鍍銅,PCB的整體板面電鍍薄銅區(qū)所要求厚度的銅層;(E)外層鍍厚銅菲林,將厚銅區(qū)之外的位置全部用干膜蓋住;(F)圖電加鍍厚銅區(qū),大電流長時(shí)間電鍍使厚銅區(qū)的銅層達(dá)到厚度要求,再褪膜操作;(G)圖形轉(zhuǎn)移,在步驟(F)后的板面貼干膜,根據(jù)不同銅厚設(shè)計(jì)曝光菲林;(H)內(nèi)層酸性蝕刻:顯影,蝕刻,褪膜做出圖形線路。
進(jìn)一步,所述步驟(B)鉆孔需將厚銅區(qū)域鉆咀按成品孔徑預(yù)大至少1級選擇。
其中,所述步驟(G)中控制貼膜溫度100-110℃,貼膜速度2.0m/min,壓力4.0kg/cm2。
進(jìn)一步,所述步驟(G)中還需對厚銅區(qū)圖形菲林按照厚銅區(qū)銅厚進(jìn)行補(bǔ)償,并對薄銅區(qū)圖形菲林按薄銅區(qū)銅厚進(jìn)行補(bǔ)償。
進(jìn)一步,所述步驟(E)中還需對PCB板周邊設(shè)計(jì)鍍厚銅。
本發(fā)明的有益效果:
本發(fā)明在流程上只有1次圖形轉(zhuǎn)移(圖形轉(zhuǎn)移負(fù)片菲林),縮短了流程,也就減少了出現(xiàn)品質(zhì)缺陷的幾率,菲林等其它工具可以少作,減少了物料及人工成本,縮短了交期。
此外,優(yōu)化鉆咀選擇滿足成品孔徑大小,加厚銅時(shí)菲林的設(shè)計(jì)以提高厚銅區(qū)域銅厚均勻性,合理設(shè)置圖形轉(zhuǎn)移時(shí)參數(shù)及菲林補(bǔ)償,達(dá)到實(shí)際線寬線隙要求。
附圖說明
下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實(shí)施方式做進(jìn)一步的說明。
圖1是本發(fā)明階梯鍍銅的PCB生產(chǎn)方法流程圖;
圖2是本發(fā)明的PCB生產(chǎn)方法流程的鉆孔效果圖;
圖3是本發(fā)明的PCB生產(chǎn)方法流程的沉銅/板電效果圖;
圖4是本發(fā)明的PCB生產(chǎn)方法流程的圖電鍍銅效果圖;
圖5是本發(fā)明的PCB生產(chǎn)方法流程的外層鍍厚銅菲林效果圖;
圖6是本發(fā)明的PCB生產(chǎn)方法流程的圖電加鍍厚銅區(qū)效果圖;
圖7是本發(fā)明的PCB生產(chǎn)方法流程的褪干膜效果圖;
圖8是本發(fā)明的PCB生產(chǎn)方法流程的圖形轉(zhuǎn)移效果圖。
具體實(shí)施方式
如圖1-8所示,為本發(fā)明的一種階梯鍍銅的PCB生產(chǎn)方法,?該P(yáng)CB上包括具有待鍍不同厚度銅層的厚銅區(qū)和薄銅區(qū),包括以下步驟:
(A)前工序:開料,選擇基銅,開料尺寸?23*19.4inch,外層底銅銅厚?H?OZ(盎司);
(B)鉆孔,厚銅區(qū)域鉆咀按成品孔徑欲大2級選擇,如0.35mm成品孔徑選擇0.45mm鉆咀;
(C)沉銅、板電,正常沉銅,板電參數(shù)21ASF*36min,孔銅要求鍍0.4mil?min,保證背光≥9級;
(D)圖電鍍銅,PCB的整體板面電鍍至薄銅區(qū)所要求厚度的銅層(12-55um),電鍍參數(shù)16asf*85min,?孔銅厚平均電鍍至1.0mil,完成后銅厚控制在12-55um;
(E)外層鍍厚銅菲林,將厚銅區(qū)之外的位置全部用干膜蓋住;每塊PCB板圖形周邊需設(shè)計(jì)為鍍厚銅,增加鍍銅面積,提升厚銅區(qū)域銅厚均勻性;
(F)圖電加鍍厚銅區(qū),大電流長時(shí)間鍍銅使厚銅區(qū)的銅層達(dá)到厚度要求55-100um,電鍍參數(shù)16ASF*85min;滿足加厚銅厚度需>20um,再褪膜操作;
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