[發明專利]三苯基膦氧修飾的三嗪化合物及其制備和在有機電致發光器件中的應用

在審

• 申請號: 201410705371.X
• 申請日: 2014-11-27
• 公開（公告）號: CN104447866A
• 公開（公告）日: 2015-03-25
• 發明（設計）人: 許輝;賈繼林
• 申請（專利權）人: 黑龍江大學
• 主分類號: C07F9/6521
• 分類號: C07F9/6521;H01L51/54
• 代理公司: 哈爾濱市文洋專利代理事務所(普通合伙) 23210
• 代理人: 王艷萍

1.三苯基膦氧修飾的三嗪化合物，其特征在于它的結構式為：

2.制備權利要求1所述的三苯基膦氧修飾的三嗪化合物的方法，其特征在于該方法按下列步驟進行：

一、將1mmol的一溴苯腈、2～5mmol的三氟甲烷磺酸、5～10ml的氯仿攪拌反應5～24小時，然后倒入冰水中，過濾出固體，依次用蒸餾水、氯仿洗滌固體，干燥后得到一溴三苯基三嗪；

二、將步驟一合成的1mmol一溴三苯基三嗪、3～6mmol的二苯基膦、0.005～0.01mmol的醋酸鈀和5～10ml的DMF混合，反應10～36小時后倒入冰水中，萃取得到有機層，有機層干燥后加入H₂O₂氧化，再經萃取、干燥后以乙醇和乙酸乙酯的混合溶劑為淋洗劑柱層析純化，得到三苯基膦氧修飾的三嗪化合物。

3.權利要求1所述的三苯基膦氧修飾的三嗪化合物的應用，其特征在于該應用，是將三苯基膦氧修飾的三嗪化合物作為電子傳輸材料，應用到有機電致磷光器件中。

4.根據權利要求3所述的三苯基膦氧修飾的三嗪化合物的應用，其特征在于利用具體實施方式一所述的三苯基膦氧修飾的三嗪化合物作為電子傳輸材料的有機電致磷光器件的制備方法按以下步驟進行：

一、將經過去離子水清洗的玻璃或塑料襯底放入真空蒸鍍儀，真空度為1×10^-6mbar，蒸鍍速率設為0.1～0.3nm?s^-1，在玻璃或塑料襯底上蒸鍍材料為氧化銦錫(ITO)、厚度為1～100nm的陽極導電層；

二、在陽極導電層上蒸鍍材料為三氧化鉬、厚度為2～10nm的空穴注入層；

三、在空穴注入層上蒸鍍材料為1,1-二[(二-4-對甲苯氨基)苯基]環己烷、厚度為40～80nm的空穴傳輸層，再在空穴傳輸層上蒸鍍材料為材料為1,3-二(9H-咔唑基)苯、厚度為5～15nm的空穴傳輸層b；

四、在空穴傳輸層b上蒸鍍材料為1,3-二(9H-咔唑基)苯和雙(4,6-二氟苯基吡啶-N,C2)吡啶甲酰合銥的混合物、厚度為5～50nm的發光層，其中1,3-二(9H-咔唑基)苯和雙(4,6-二氟苯基吡啶-N,C2)吡啶甲酰合銥FIrpic的混合物中雙(4,6-二氟苯基吡啶-N,C2)吡啶甲酰合銥的質量含量為10％～15％；

五、在發光層上繼續蒸鍍厚度為5～40nm的三苯基膦氧三嗪電子傳輸材料的電子傳輸層；

六、在電子傳輸層上蒸鍍材料為氟化鋰、厚度為10～80nm的電子傳輸層；

七、在電子注入層上蒸鍍材料為金屬、厚度為1～100nm的陰極導電層，封裝得到有機電致磷光器件。

5.根據權利要求4所述的三苯基膦氧修飾的三嗪化合物的應用，其特征在于步驟七所述的金屬為鈣、鎂、銀、鋁、鈣合金、鎂合金、銀合金或鋁合金。