[發明專利]光罩覆膜污染顆粒的清洗方法

無效

• 申請號: 201410697353.1
• 申請日: 2014-11-26
• 公開（公告）號: CN104588370A
• 公開（公告）日: 2015-05-06
• 發明（設計）人: 賈洪民;李德建;陳力均;朱駿
• 申請（專利權）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號: B08B7/00
• 分類號: B08B7/00
• 代理公司: 上海申新律師事務所 31272
• 代理人: 吳俊

技術領域

本發明涉及半導體技術制造領域，尤其涉及一種光罩覆膜污染顆粒的清洗方法。

背景技術

當進入新世紀，人類生活已經進入數字化時代的領域中，現今許多生活周遭的物品、用具均以數字化高科技產品取而代之，不僅給生活帶來許多方便，同時也享受著高科技進行的成果。在數字化的時代中，許多電器用具、物品都以高科技IC芯片進行操控，以達到自動化的目的，而IC芯片主要以極精密的半導體集成電路組成，其制造過程主要利用光罩在無塵的環境中，使用高精密度的機臺對晶圓進行高精密度的積層作業來完成，其廠房、機臺的制造成本相對較為昂貴，因此在制造晶片的過程中，致力于提高光罩的良率成為本領域技術人員目前較為重要的課題。

但是，在半導體生產制造中，因機臺因素或人為因素不可避免的會出現光罩覆膜被超出規格的微粒污染，只有及時的對該些微粒進行處理才可以進行后續的產品生產。目前業界普遍使用風吹方式進行清除微粒，但是覆膜上的污染顆粒往往很難去除，多數時候只能將光罩返廠清洗或修補，因此一定程度上降低了產品的生產效率。

中國專利(102078869B)公開了一種光罩清洗方法，包括如下步驟：采用短波長的紫外光照射所述光罩；采用含臭氧的水溶液清洗所述光罩；去離子水清洗所述光罩；然后，在SPM清洗設備中進行下述步驟：去離子水清洗所述光罩；采用SC1溶液清洗所述光罩；去離子水清洗所述光罩；烘干。

上述專利雖然一定程度上可以清洗光罩表面的污染顆粒，但是清洗成本相對較高、過程較為復雜，而且也未公開針對光罩覆膜上的污染顆粒的清洗方法。

因此，提供一種簡單有效的顆粒清洗方法成為本領域技術人員致力于研究的方向。

發明內容

針對上述存在的問題，本發明公開一種光罩覆膜污染顆粒的清洗方法，以解決現有技術中因無法完全清洗光罩覆膜上的污染顆粒，從而使產品良率降低的缺陷。

本發明為解決上述問題所采用的技術方案為：

一種光罩覆膜污染顆粒的清洗方法，其中，所述方法包括：

步驟S1、提供IPA液體和若干根無塵棉簽；

步驟S2、將所述IPA液體滴在所述無塵棉簽之上，并保持所述IPA液體在無塵棉簽上處于不滴落的狀態；

步驟S3、利用所述無塵棉簽上吸附的所述IPA液體對光罩覆膜上的污染顆粒進行清洗；

步驟S4、利用所述無塵棉簽將所述IPA液體托引至所述光罩覆膜的邊緣；

步驟S5、吸附所述IPA液體，以去除所述污染顆粒。

較佳的，上述的方法，其中，所述光罩覆膜位于一光罩主體的表面。

較佳的，上述的方法，其中，所述光罩覆膜包括透光膜和位于透光膜邊緣的邊框。

較佳的，上述的方法，其中，所述邊框表面涂有固體膠，以將所述光罩覆膜粘附于所述光罩主體的表面。

較佳的，上述的方法，其中，所述IPA液體的濃度為100％。

較佳的，上述的方法，其中，步驟S1中，各所述無塵棉簽均需進行高壓氮氣槍吹掃處理。

較佳的，上述的方法，其中，步驟S3中，在清洗所述污染顆粒時，所述無塵棉簽與所述光罩覆膜不接觸。

較佳的，上述的方法，其中，步驟S5中，利用干燥的無塵棉簽吸附所述光罩覆膜上的IPA液體，以去除所述污染顆粒。

上述發明具有如下優點或者有益效果：

本發明公開了一種光罩覆膜污染顆粒的清洗方法，首先提供純凈的IPA液體和若干根無塵棉簽，然后將IPA液體滴在無塵棉簽之上，利用無塵棉簽上的IPA液體對污染顆粒進行清洗，之后利用無塵棉簽將IPA液體托引至所述光罩覆膜的邊緣，最后用干燥的無塵棉簽吸附IPA液體，以去除所述污染顆粒；本發明技術方案已經通過測試，適應于對各種光罩覆膜處理，可用于生產線上使用，并可排除生產上斷線的危險，同時該技術方案具有完全去除光罩覆膜污染顆粒的效果，極大提高了產品的生產良率和效率。

具體附圖說明

通過閱讀參照以下附圖對非限制性實施例所作的詳細描述，本發明及其特征、外形和優點將會變得更加明顯。在全部附圖中相同的標記指示相同的部分。并未可以按照比例繪制附圖，重點在于示出本發明的主旨。

圖1是本發明中光罩主體和光罩覆膜的結構示意圖；

圖2是本發明中光罩覆膜的俯視結構示意圖；

圖3是本發明中光罩覆膜的側視結構示意圖；

圖4是本發明中光罩覆膜污染顆粒的清洗方法的流程示意圖。

具體實施方式