[發(fā)明專(zhuān)利]光罩覆膜污染顆粒的清洗方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410697353.1 | 申請(qǐng)日： | 2014-11-26 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN104588370A | 公開(kāi)（公告）日： | 2015-05-06 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 賈洪民;李德建;陳力均;朱駿 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | B08B7/00 | 分類(lèi)號(hào)： | B08B7/00 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光罩覆膜 污染 顆粒 清洗 方法 | ||
1.一種光罩覆膜污染顆粒的清洗方法，其特征在于，所述方法包括：
步驟S1、提供IPA液體和若干根無(wú)塵棉簽；
步驟S2、將所述IPA液體滴在所述無(wú)塵棉簽之上，并保持所述IPA液體在無(wú)塵棉簽上處于不滴落的狀態(tài)；
步驟S3、利用所述無(wú)塵棉簽上吸附的所述IPA液體對(duì)光罩覆膜上的污染顆粒進(jìn)行清洗；
步驟S4、利用所述無(wú)塵棉簽將所述IPA液體托引至所述光罩覆膜的邊緣；
步驟S5、吸附所述IPA液體，以去除所述污染顆粒。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述光罩覆膜位于一光罩主體的表面。
3.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述光罩覆膜包括透光膜和位于透光膜邊緣的邊框。
4.如權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述邊框表面涂有固體膠，以將所述光罩覆膜粘附于所述光罩主體的表面。
5.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述IPA液體的濃度為100％。
6.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，步驟S1中，各所述無(wú)塵棉簽均需進(jìn)行高壓氮?dú)鈽尨祾咛幚怼?/p>
7.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，步驟S3中，在清洗所述污染顆粒時(shí)，所述無(wú)塵棉簽與所述光罩覆膜不接觸。
8.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，步驟S5中，利用干燥的無(wú)塵棉簽吸附所述光罩覆膜上的IPA液體，以去除所述污染顆粒。
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