[發明專利]由微晶石墨制備石墨烯的方法有效
| 申請號: | 201410688163.3 | 申請日: | 2014-11-25 |
| 公開(公告)號: | CN104477887A | 公開(公告)日: | 2015-04-01 |
| 發明(設計)人: | 曲良體;胡傳剛;葉明暉;胡仔健;何新元;王勇 | 申請(專利權)人: | 北京理工大學;南方石墨有限公司;北京泰和鼎晟科技發展有限公司 |
| 主分類號: | C01B31/04 | 分類號: | C01B31/04 |
| 代理公司: | 北京理工大學專利中心 11120 | 代理人: | 楊志兵;付雷杰 |
| 地址: | 100081 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 微晶石 制備 石墨 方法 | ||
技術領域
本發明屬于功能材料制備領域,涉及一種由微晶石墨制備石墨烯的方法,具體涉及一種由微晶石墨制備純度高達99%的小片石墨烯的方法。
背景技術
石墨烯是一種由碳的六元環通過鍵合作用組成的片層狀結構。由于石墨烯具有高的導電性,大的比表面積,好的化學穩定性,以及熱穩定性和機械柔韌性,使其在光電材料,光催化材料,磁性吸波材料等方面有著廣泛的應用,而且由于石墨烯較高的鋰離子擴散能力,它在鋰離子電池等能源儲存與轉換材料上也有著很好的應用前景。
氧化還原的方法是目前批量制備石墨烯最為常用和有效的方法,從現有報道的結果上看,石墨烯片的尺寸都在10微米左右,甚至更大,而小片的石墨烯其大部分石墨烯片尺寸在1微米以下,其具有獨特的結構特點,例如:與大片石墨烯相比有更大的比表面積,更多的活性邊緣位點,使它的相關研究引起本領域研究人員的極大興趣。但是,目前對于小片石墨烯的合成通常涉及到一些苛刻的實驗條件,比如:通過以甲烷為碳源,用高溫(>1000℃)氣相沉積的方法在金屬催化劑表面生長小片石墨烯;在不同pH值的溶液下,分級過濾隨機氧化的氧化石墨烯片,其中包括大片和小片的氧化石墨烯,得到小片的氧化石墨烯片,再經過水合肼(N2H4)的加熱還原得到小片的石墨烯;氧化石墨烯,其中包括大片和小片的氧化石墨烯,在極性有機溶劑,如N,N二甲基甲酰胺中分層,收集上層極少量的原料,在氬/氫(Ar/H2)氣體下在600~1000℃的高溫還原得到小片的石墨烯。這些還原過程一般來講需要用到有毒的化學試劑,需要多個繁瑣的步驟,消耗相當長的時間,并且得到的石墨烯難以洗滌干凈,產量極低,很難保證樣品的質量,很難滿足實際生產的需求量。
發明內容
為解決現有的小片石墨烯制備過程繁瑣、耗時長、涉及到有毒試劑,且制備出的小片石墨烯質量低等問題,本發明提出一種由微晶石墨制備高純小片石墨烯的方法。
一種由微晶石墨制備石墨烯的方法,具體包括如下步驟:
步驟1、對微晶石墨進行氧化剝離,具體包括如下步驟:
步驟1.1、將微晶石墨粉3份、固體硝酸鈉3份加入潔凈干燥的反應容器1中,再將質量濃度為98%以上濃硫酸加入反應容器1中,并將反應容器1置于冰水浴中攪拌;
步驟1.2、待固體硝酸鈉完全溶解后,以0.5g/min的速率加入9份高錳酸鉀;?
步驟1.3、將所述的水浴溫度調至35~40℃,至反應體系中無黑渣,得到溶液1;
步驟1.4、向溶液1中加入去離子水,然后加熱使水浴溫度升高至70~100℃,并維持在該溫度10分鐘到1小時后停止加熱,得到溶液2;
步驟1.5、待水浴溫度降至室溫后,向溶液2中加入去離子水,再在攪拌的條件下加入過氧化氫溶液,待溶液2由棕色轉變為黃色,即得到氧化石墨溶液;
步驟2、將步驟1得到的氧化石墨溶液進行抽濾;等待溶液抽干之后,加入10%的稀鹽酸溶液洗滌后進行第二次抽濾;然后再用去離子水洗滌后進行第三次抽濾3~5天,得到濾餅,即氧化石墨的粗產品;
步驟3、向氧化石墨的粗產品中加入去離子水,混合均勻用離心機以3000~5000rad/min的速度離心,然后再收集上層膠質溶液以8000~11000rad/min的速度離心,收集下層溶液,得到溶液3;
步驟4、將溶液3在8000~14000截留分子量的透析袋中進行透析,待溶液3轉變為中性即可停止透析,收集透析袋中的溶液,得到溶液4;
步驟5、向溶液4中加入乙二醇得到混合溶液,將混合溶液調至堿性后,混合均勻,裝入反應釜,再將反應釜置于180℃條件下進行還原反應6~12小時,得到凝膠狀塊體;
步驟6、將步驟5中得到的凝膠狀塊體用去離子水洗滌至中性即得到所述石墨烯。
一種優選的方式為將得到的石墨烯在烘箱中以50℃直接烘干,得到干的石墨烯。
一種優選的方式為將得到的石墨烯進行冷凍干燥,得到干的石墨烯。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于北京理工大學;南方石墨有限公司;北京泰和鼎晟科技發展有限公司,未經北京理工大學;南方石墨有限公司;北京泰和鼎晟科技發展有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410688163.3/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





