[發(fā)明專利]一種高耐磨、高化學(xué)穩(wěn)定性真空鍍膜件的制備方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410678193.6
• 申請(qǐng)日: 2014-11-24
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104451565A
• 公開(kāi)（公告）日: 2015-03-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳海波
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 泉州泉港華博化工科技有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/34
• 分類號(hào): C23C14/34;C23C22/76;C23C28/00;B05D7/14
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• 代理人: 暫無(wú)信息

技術(shù)領(lǐng)域

?本發(fā)明涉及一種高耐磨、高化學(xué)穩(wěn)定性真空鍍膜件的制備方法，使其具有高耐磨、高化學(xué)穩(wěn)定性的特性。

背景技術(shù)

現(xiàn)有技術(shù)在金屬件(如手機(jī)外殼、平板電腦外殼體等)表面離子鍍膜的工藝屬于空白，原有技術(shù)只能用于金屬件水電鍍或塑膠件真空鍍膜，其缺點(diǎn)是金屬件水鍍顏色單一；而塑膠件真空鍍色彩豐富但強(qiáng)度極低，不耐磨、化學(xué)穩(wěn)定性不能滿足要求。

發(fā)明內(nèi)容

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明的目的旨在提供一種高耐磨、高化學(xué)穩(wěn)定性真空鍍膜件的制備方法，采用該方法處理后的金屬薄膜均勻并且附著力好，增強(qiáng)了產(chǎn)品表面鍍層的耐磨性。

本發(fā)明的目的是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的：

一種高耐磨、高化學(xué)穩(wěn)定性真空鍍膜件的制備方法，其特征在于：將金屬件置于含有稀酸液或稀堿液中進(jìn)行清洗后烘干；將金屬件的表面形成利于噴涂的鈍化膜層；采用靜電噴涂法噴涂環(huán)氧聚酯粉末涂料，然后在160℃溫度下固化15分鐘；對(duì)噴涂底粉后的金屬件進(jìn)行打磨，使金屬件表面光滑；在金屬件上噴涂一層介質(zhì)粉，增加金屬件表面的平整度；將金屬件放置于真空室內(nèi)，在烘干的金屬件表面實(shí)施真空鍍膜，離子轟擊完成后鍍膜，使金屬沉積在金屬件表面形成連續(xù)均勻的高耐磨、高化學(xué)穩(wěn)定性的金屬或氧化物薄膜。

作為優(yōu)選，所述真空鍍膜方法，所述鈍化膜層為無(wú)鉻鈍化膜層，所述真空鍍膜的金屬鍍膜為鋁膜。

作為優(yōu)選，所述真空鍍膜方法，按以下步驟進(jìn)行：

1)抽真空：?jiǎn)?dòng)抽真空系統(tǒng)，控制真空室的真空度達(dá)到3×10^-3Pa-5×10^-3Pa；

2)金屬件預(yù)熱：開(kāi)啟加熱器將真空室內(nèi)的金屬件加熱至70℃以上，使得金屬件表面的金屬原子結(jié)構(gòu)發(fā)生改變，使得金屬原子處于活躍狀態(tài)；

3)向真空室內(nèi)通入惰性氣體，氣壓控制在0.5-2Pa之間；

4)采用如下兩種方式中的任意一種釋放金屬離子：

a、在真空室內(nèi)設(shè)置金屬靶材，在金屬靶材上施加大于200V的負(fù)電壓，使得金屬靶材釋放出金屬離子；

b、在真空室內(nèi)設(shè)置金屬膜料，采用電子槍對(duì)著金屬膜料射擊，使得金屬膜料釋放出金屬離子；電子槍的輸出功率為4-30KW；

5)金屬離子被釋放出的同時(shí)放出能量，發(fā)生輝光放電，產(chǎn)生等離子體；等離子體內(nèi)的金屬離子在電場(chǎng)的作用下向金屬件加速，與金屬件表面沖撞后，金屬件上的金屬離子被濺出來(lái)，使得等離子體內(nèi)的金屬離子替換掉金屬件上被濺出的金屬離子、并沉積于金屬件表面上形成一層金屬薄膜。

作為優(yōu)選，所述金屬件為鋁材料，所述金屬靶材為鋁材料；鍍膜工藝參數(shù)如下：真空度為3×10^-3Pa-5×10^-3Pa，金屬件預(yù)熱溫度為70-150℃，施加于金屬靶材上的負(fù)電壓為200-1000V，沉積時(shí)間為50-120分鐘，金屬薄膜的厚度為50μm-80μm。

作為優(yōu)選，在步驟2)中，所述惰性氣體為氦、氖、氬、氪、氙中的任一一種。

本發(fā)明的有益效果如下：

本發(fā)明所述方法得到的金屬薄膜均勻并且附著力好,增強(qiáng)了產(chǎn)品表面電鍍層的耐磨性；其次，本發(fā)明將鍍好金屬薄膜的金屬件進(jìn)行陽(yáng)極氧化處理，使得鍍膜氧化后的色彩豐富，耐腐蝕性能好，提高了金屬件的整體強(qiáng)度，且該工藝對(duì)環(huán)境無(wú)污染。

具體實(shí)施方式

為了使本發(fā)明專利保護(hù)的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。

實(shí)施例1

一種高耐磨、高化學(xué)穩(wěn)定性真空鍍膜件的制備方法，按以下步驟進(jìn)行：將金屬件置于含有稀酸液或稀堿液中進(jìn)行清洗后烘干；將金屬件的表面形成利于噴涂的鈍化膜層；采用靜電噴涂法噴涂環(huán)氧聚酯粉末涂料，然后在160℃溫度下固化15分鐘；對(duì)噴涂底粉后的金屬件進(jìn)行打磨，使金屬件表面光滑；在金屬件上噴涂一層介質(zhì)粉，增加金屬件表面的平整度；將金屬件放置于真空室內(nèi)，在烘干的金屬件表面實(shí)施真空鍍膜，離子轟擊完成后鍍膜，使金屬沉積在金屬件表面形成連續(xù)均勻的高耐磨、高化學(xué)穩(wěn)定性的金屬或氧化物薄膜。

釋放出金屬離子被激發(fā)，同時(shí)放出能量，發(fā)生輝光放電，產(chǎn)生等離子體；等離子體內(nèi)的金屬離子向金屬件加速，與金屬件表面沖撞后，金屬件上的金屬離子被濺出來(lái)，使得等離子體內(nèi)的金屬離子替換掉金屬件上的金屬離子、并沉積于金屬件表面上形成一層金屬薄膜。

由于形成薄膜的厚度與鍍膜的沉積時(shí)間有關(guān)，控制沉積時(shí)間為：50分鐘,得到的所述金屬薄膜的厚度為50μm。