[發明專利]一種高耐磨、高化學穩定性真空鍍膜件的制備方法

在審

• 申請號: 201410678193.6
• 申請日: 2014-11-24
• 公開（公告）號: CN104451565A
• 公開（公告）日: 2015-03-25
• 發明（設計）人: 陳海波
• 申請（專利權）人: 泉州泉港華博化工科技有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C22/76;C23C28/00;B05D7/14
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1.一種高耐磨、高化學穩定性真空鍍膜件的制備方法，其特征在于：將金屬件置于含有稀酸液或稀堿液中進行清洗后烘干；將金屬件的表面形成利于噴涂的鈍化膜層；采用靜電噴涂法噴涂環氧聚酯粉末涂料，然后在160℃溫度下固化15分鐘；對噴涂底粉后的金屬件進行打磨，使金屬件表面光滑；在金屬件上噴涂一層介質粉，增加金屬件表面的平整度；將金屬件放置于真空室內，在烘干的金屬件表面實施真空鍍膜，離子轟擊完成后鍍膜，使金屬沉積在金屬件表面形成連續均勻的高耐磨、高化學穩定性的金屬或氧化物薄膜。

2.根據權利要求1所述高耐磨、高化學穩定性真空金屬件的制備方法，其特征在于：所述鈍化膜層為無鉻鈍化膜層，所述真空鍍膜的金屬鍍膜為鋁膜。

3.根據權利要求1所述的高耐磨、高化學穩定性真空金屬件的制備方法，其特征在于，所述真空鍍膜方法，按以下步驟進行：

1)抽真空：啟動抽真空系統，控制真空室的真空度達到3×10^-3Pa-5×10^-3Pa；

2)金屬件預熱：開啟加熱器將真空室內的金屬件加熱至70℃以上，使得金屬件表面的金屬原子結構發生改變，使得金屬原子處于活躍狀態；?

3)向真空室內通入惰性氣體，氣壓控制在0.5-2Pa之間；

4)采用如下兩種方式中的任意一種釋放金屬離子：?

a、在真空室內設置金屬靶材，在金屬靶材上施加大于200V的負電壓，使得金屬靶材釋放出金屬離子；

b、在真空室內設置金屬膜料，采用電子槍對著金屬膜料射擊，使得金屬膜料釋放出金屬離子；電子槍的輸出功率為4-30KW；

5)金屬離子被釋放出的同時放出能量，發生輝光放電，產生等離子體；等離子體內的金屬離子在電場的作用下向金屬件加速，與金屬件表面沖撞后，金屬件上的金屬離子被濺出來，使得等離子體內的金屬離子替換掉金屬件上被濺出的金屬離子、并沉積于金屬件表面上形成一層金屬薄膜。

4.根據權利要求3所述的真空鍍膜件的制備方法，其特征在于,?在步驟2)中，所述金屬件為鋁材料，所述金屬靶材為鋁材料；鍍膜工藝參數如下：真空度為3×10^-3Pa-5×10^-3Pa，金屬件預熱溫度為70-150℃，施加于金屬靶材上的負電壓為200-1000V，沉積時間為50-120分鐘，金屬薄膜的厚度為50μm-80μm。

5.根據權利要求2所述的真空鍍膜件的制備方法真空鍍膜件的制備方法，其特征在于，在步驟2)中，所述惰性氣體為氦、氖、氬、氪、氙中的任一一種。