[發(fā)明專利]曝光機(jī)的對(duì)位方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410676716.3
• 申請(qǐng)日: 2014-11-21
• 公開（公告）號(hào): CN105629683A
• 公開（公告）日: 2016-06-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉曉佳;鄧亮
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 昆山工研院新型平板顯示技術(shù)中心有限公司;昆山國顯光電有限公司
• 主分類號(hào): G03F9/00
• 分類號(hào): G03F9/00;G03F7/20
• 代理公司: 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224
• 代理人: 唐清凱

【技術(shù)領(lǐng)域】

本發(fā)明涉及光刻技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種曝光機(jī)的對(duì)位方法。

【背景技術(shù)】

光刻工藝中，曝光機(jī)的對(duì)位直接決定重合精度，但由于工藝生產(chǎn)不良產(chǎn)生 的圖形缺陷、膜質(zhì)異常等因素，時(shí)常會(huì)出現(xiàn)對(duì)位標(biāo)異常導(dǎo)致對(duì)位失敗，而報(bào)警 后必須由人為操作進(jìn)行再對(duì)位，嚴(yán)重影響生產(chǎn)節(jié)拍。同時(shí)人工對(duì)位也可能因基 板對(duì)位標(biāo)局部不良最終無法完成對(duì)位，而報(bào)廢產(chǎn)品基板，產(chǎn)生生產(chǎn)成本的浪費(fèi)。

現(xiàn)有解決辦法是當(dāng)曝光機(jī)設(shè)備發(fā)生對(duì)位異常報(bào)警時(shí)，需要工程師判斷失敗原 因，根據(jù)原因修改對(duì)位標(biāo)參數(shù)或者嘗試手動(dòng)對(duì)位、執(zhí)行強(qiáng)制曝光、直接報(bào)廢產(chǎn) 品基板等措施。這樣會(huì)造成較長時(shí)間的生產(chǎn)停滯影響和生產(chǎn)成本的浪費(fèi)而導(dǎo)致 一系列損失。

【發(fā)明內(nèi)容】

鑒于上述狀況，有必要提供一種能夠在一次對(duì)位失敗的情況下實(shí)現(xiàn)二次自 動(dòng)對(duì)位的曝光機(jī)的對(duì)位方法。

一種曝光機(jī)的對(duì)位方法，包括如下步驟：選取同一對(duì)位區(qū)中的多個(gè)對(duì)位標(biāo) 中的任一個(gè)作為基準(zhǔn)對(duì)位標(biāo)，將除基準(zhǔn)對(duì)位標(biāo)以外的其他對(duì)位標(biāo)作為備用對(duì)位 標(biāo)；利用所述基準(zhǔn)對(duì)位標(biāo)進(jìn)行對(duì)位；以及當(dāng)所述基準(zhǔn)對(duì)位標(biāo)對(duì)位失敗時(shí)，從所 述備用對(duì)位標(biāo)中選取一個(gè)備用對(duì)位標(biāo)并用以進(jìn)行對(duì)位，當(dāng)選取的備用對(duì)位標(biāo)也 對(duì)位失敗時(shí)，重復(fù)執(zhí)行從剩余的備用對(duì)位標(biāo)中重新選取一個(gè)并用以進(jìn)行對(duì)位的 步驟。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述同一對(duì)位區(qū)中的多個(gè)對(duì)位標(biāo)等間距排列。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，根據(jù)預(yù)先設(shè)置的優(yōu)先次序調(diào)用所述多個(gè)對(duì)位標(biāo)。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述同一對(duì)位區(qū)中的多個(gè)對(duì)位標(biāo)的圖案彼此不同。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，還包括：當(dāng)利用從所述備用對(duì)位標(biāo)中選取的備用對(duì) 位標(biāo)對(duì)位成功后，根據(jù)對(duì)位結(jié)果生成補(bǔ)償值并進(jìn)行補(bǔ)償。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述根據(jù)對(duì)位結(jié)果生成補(bǔ)償值包括：獲取對(duì)位成功 的備用對(duì)位標(biāo)與基準(zhǔn)對(duì)位標(biāo)之間的間距，將該間距加入補(bǔ)償計(jì)算。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，當(dāng)所述基準(zhǔn)對(duì)位標(biāo)對(duì)位失敗時(shí)，從所述備用對(duì)位標(biāo) 中選取一個(gè)備用對(duì)位標(biāo)并用以進(jìn)行對(duì)位的步驟中，當(dāng)所述基準(zhǔn)對(duì)位標(biāo)對(duì)位失敗 時(shí)，先自動(dòng)重復(fù)對(duì)位多次。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，自動(dòng)重復(fù)對(duì)位的次數(shù)為2次以上。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述多個(gè)對(duì)位標(biāo)是利用掩膜板預(yù)先轉(zhuǎn)移制作在基板 上的。

上述曝光機(jī)的對(duì)位方法，在一次對(duì)位錯(cuò)誤之后，自動(dòng)選取備用對(duì)位標(biāo)進(jìn)行 再次對(duì)位，提高對(duì)位成功率，減少因?qū)ξ粯?biāo)不良造成的基板報(bào)廢和曝光機(jī)自動(dòng) 報(bào)警停機(jī)造成的生產(chǎn)損失。

【附圖說明】

圖1為本發(fā)明的曝光機(jī)的對(duì)位方法的流程圖；

圖2為本發(fā)明的曝光機(jī)的對(duì)位方法中的基板上的對(duì)位標(biāo)的示意圖；

圖3為本發(fā)明的曝光機(jī)的對(duì)位方法中的掩模板上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)的示意圖。

【具體實(shí)施方式】

為了便于理解本發(fā)明，下面將參照相關(guān)附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行更全面的描述。 附圖中給出了本發(fā)明的較佳的實(shí)施例。但是，本發(fā)明可以以許多不同的形式來 實(shí)現(xiàn)，并不限于本文所描述的實(shí)施例。相反地，提供這些實(shí)施例的目的是使對(duì) 本發(fā)明的公開內(nèi)容的理解更加透徹全面。

需要說明的是，當(dāng)元件被稱為“固定于”另一個(gè)元件，它可以直接在另一 個(gè)元件上或者也可以存在居中的元件。當(dāng)一個(gè)元件被認(rèn)為是“連接”另一個(gè)元 件，它可以是直接連接到另一個(gè)元件或者可能同時(shí)存在居中元件。相反，當(dāng)元 件被稱作“直接在”另一元件“上”時(shí)，不存在中間元件。本文所使用的術(shù)語 “垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及類似的表述只是為了說明的目的。

除非另有定義，本文所使用的所有的技術(shù)和科學(xué)術(shù)語與屬于本發(fā)明的技術(shù) 領(lǐng)域的技術(shù)人員通常理解的含義相同。本文中在本發(fā)明的說明書中所使用的術(shù) 語只是為了描述具體的實(shí)施例的目的，不是旨在于限制本發(fā)明。本文所使用的 術(shù)語“及/或”包括一個(gè)或多個(gè)相關(guān)的所列項(xiàng)目的任意的和所有的組合。

在半導(dǎo)體元件的生產(chǎn)過程中，曝光工藝是其中重要的制作工藝之一。例如， 制作AMOLED(Active-matrixorganiclight-emittingdiode，有源矩陣有機(jī)發(fā)光二 極體)顯示器中的TFT(ThinFilmTransistor，薄膜晶體管液晶顯示器)元件時(shí)， 就需要用到曝光工藝制作陣列TFT。