[發(fā)明專利]一種輝光放電質(zhì)譜儀分析試樣的制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410674371.8 | 申請日： | 2014-11-23 |
| 公開（公告）號： | CN104458370A | 公開（公告）日： | 2015-03-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 王傳軍;李艷瓊;譚志龍;張俊敏;聞明;畢珺;沈月;管偉明 | 申請（專利權(quán)）人： | 昆明貴金屬研究所 |
| 主分類號： | G01N1/28 | 分類號： | G01N1/28;G01N27/68 |
| 代理公司： | 昆明今威專利商標(biāo)代理有限公司 53115 | 代理人： | 賽曉剛 |
| 地址： | 650106 云南省*** | 國省代碼： | 云南;53 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 輝光 放電 質(zhì)譜儀 分析 試樣 制備 方法 | ||
1.一種輝光放電質(zhì)譜儀分析試樣的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
a)將需要分析的粉末放置于內(nèi)壁涂有脫模劑的石墨模具中；
b)使用加壓燒結(jié)的方法對所述粉末進行成型；
c)對成型的料坯進行表面車削；
d)所述的料坯進行清洗干燥。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備用于輝光放電質(zhì)譜儀分析試樣的方法，其特征在于，所述的脫模劑為氧化鋁、氧化鋯、或氮化硼。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備用于輝光放電質(zhì)譜儀分析試樣的方法，其特征在于，所述的加壓燒結(jié)方法包括真空熱壓、放電等離子體燒結(jié)和直流加熱燒結(jié)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備用于輝光放電質(zhì)譜儀分析試樣的方法，其特征在于，所述的車削采用硬質(zhì)合金刀具、金剛石刀具或立方氮化硼刀具。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備用于輝光放電質(zhì)譜儀分析試樣的方法，其特征在于，所述的粉末是釕粉。
6.一種輝光放電質(zhì)譜儀分析試樣釕粉的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
將待分析的釕粉裝入涂有氧化鋁的石墨模具當(dāng)中，石墨模具的內(nèi)徑為30mm,采用真空熱壓的方法，在1300℃的溫度下將釕粉加壓燒結(jié)，所施加的壓力為40MPa；
燒結(jié)完成后采用阿基米德法對所得釕塊測密度，可達釕理論密度的99％；
采用聚晶立方氮化硼車刀將釕塊車削成直徑為28mm的釕樣品；
分別用丙酮、乙醇和超純水對釕樣品進行超聲清洗，并烘干；
將樣品放入Element?GD塊狀樣品臺中，并進行一定時間的預(yù)濺射，以容易污染的Na、Fe、Ca為標(biāo)的，以濃度基本穩(wěn)定時開始采集數(shù)據(jù)，記錄預(yù)濺射的時間，同時采集部分典型元素的五組數(shù)據(jù)，并計算其相對標(biāo)準(zhǔn)誤差(RSD％)，以此來評價分析結(jié)果的重復(fù)性。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于昆明貴金屬研究所，未經(jīng)昆明貴金屬研究所許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410674371.8/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
