[發(fā)明專利]一種集成電路芯片清洗液及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410674199.6 | 申請日： | 2014-11-21 |
| 公開（公告）號： | CN104450332A | 公開（公告）日： | 2015-03-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 熊開勝;張海防;謝建庭 | 申請（專利權(quán)）人： | 蘇州東辰林達檢測技術(shù)有限公司 |
| 主分類號： | C11D10/02 | 分類號： | C11D10/02 |
| 代理公司： | 南京經(jīng)緯專利商標代理有限公司 32200 | 代理人： | 李紀昌 |
| 地址： | 215101 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 集成電路 芯片 清洗 及其 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于清洗劑技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種集成電路芯片清洗液及其制備方法。
背景技術(shù)
集成電路(integrated?circuit)是一種微型電子器件或部件。采用一定的工藝，把一個電路中所需的晶體管、電阻、電容和電感等元件及布線互連一起，制作在一小塊或幾小塊半導(dǎo)體晶片或介質(zhì)基片上，然后封裝在一個管殼內(nèi)，成為具有所需電路功能的微型結(jié)構(gòu)；其中所有元件在結(jié)構(gòu)上已組成一個整體，使電子元件向著微小型化、低功耗、智能化和高可靠性方面邁進了一大步。它在電路中用字母“IC”表示。
集成電路芯片在長期的使用過程中會產(chǎn)生一定的污垢，傳統(tǒng)的清除方法是通過毛刷進行清掃，而采用清洗液清洗的方式并不常用，因為清洗液清洗后通常會有一定的殘留，對于電路芯片的正常工作會產(chǎn)生一定的影響。
隨著世界范圍內(nèi)工業(yè)設(shè)備的全面電子化、控制自動化的發(fā)展，全電子設(shè)備儀器的生產(chǎn)和使用高速增長。集成電路的快速增長使從前的設(shè)備在線維護專業(yè)從小范圍成為全行業(yè)、跨地區(qū)的大范圍維護問題，而其有效維護也成為了專業(yè)維護人員面臨的更加重要的問題，對操作更安全、洗凈效果更理想的需求迫使研究人員不斷研究更好的清洗劑替代品。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足而提供一種集成電路芯片清洗液及其制備方法提高漂洗性能，縮短漂洗時間，同時對電路芯片無影響。
一種集成電路芯片清洗液，以重量份計包括：壬基酚聚氧乙基醚1-5份，檸檬酸0.8-3份，二甘醇10-20份，甲醇5-10份，二氯甲烷10-20份，三氟三氯乙烷8-15份，烷基醇酰胺2-8份，EDTA?1-4份，三乙醇胺1-5份，氨基磺酸1-4份，乙醇10-20份。
作為進一步改進，所述的集成電路芯片清洗液，以重量份計包括：壬基酚聚氧乙基醚2-4份，檸檬酸2-2.5份，二甘醇14-18份，甲醇7-9份，二氯甲烷16-19份，三氟三氯乙烷10-13份，烷基醇酰胺4-7份，EDTA?2-4份，三乙醇胺2-4份，氨基磺酸1-3份，乙醇15-18份。
以上所述的集成電路芯片清洗液，所述乙醇可以為95％乙醇。
以上所述的集成電路芯片清洗液的制備方法，包括以下步驟：
步驟一，將壬基酚聚氧乙基醚、檸檬酸、二甘醇、甲醇和EDTA加入反應(yīng)釜中，在真空度為0.01-0.05MPa條件下，加熱至50-60℃，攪拌20-30分鐘，得到混合物一；
步驟二，將二氯甲烷、三氟三氯乙烷、烷基醇酰胺和三乙醇胺加入到密閉容器中，在真空條件下加熱共沸20-30分鐘，得到混合物二；
步驟三，將混合物一與混合物二相混合，加入氨基磺酸和乙醇，攪拌混合均勻，得到集成電路芯片清洗液。
所述的集成電路芯片清洗液的制備方法，步驟一中攪拌的速度可以為100-120轉(zhuǎn)/分鐘。
所述的集成電路芯片清洗液的制備方法，步驟二中真空條件的真空度可以為0.01-0.03MPa。
所述的集成電路芯片清洗液的制備方法，步驟三中攪拌混合均勻的條件可以為攪拌速度80-100轉(zhuǎn)/分鐘，攪拌溫度為室溫，攪拌時間為20-40分鐘。
本發(fā)明提供的集成電路芯片清洗液凈洗力達到了108％以上，泡沫性能在8mm以下，粘度達到了0.45mm2·s-1以下，漂洗性能優(yōu)良，無可見凈洗劑殘留物，泡沫小，不影響電路芯片，粘度低，便于清洗，同時可以短時間對電路芯片進行很好的清洗，可以廣泛應(yīng)用于集成電路芯片的清洗。
具體實施方式
實施例1
一種集成電路芯片清洗液，以重量份計包括：壬基酚聚氧乙基醚1份，檸檬酸0.8份，二甘醇10份，甲醇5份，二氯甲烷10份，三氟三氯乙烷8份，烷基醇酰胺2份，EDTA?1份，三乙醇胺1份，氨基磺酸1份，95％乙醇10份。
以上所述的集成電路芯片清洗液的制備方法，包括以下步驟：
步驟一，將壬基酚聚氧乙基醚、檸檬酸、二甘醇、甲醇和EDTA加入反應(yīng)釜中，在真空度為0.01MPa條件下，加熱至50℃，攪拌20分鐘，攪拌速度為100轉(zhuǎn)/分鐘，得到混合物一；
步驟二，將二氯甲烷、三氟三氯乙烷、烷基醇酰胺和三乙醇胺加入到密閉容器中，在真空度為0.01MPa的條件下加熱共沸20分鐘，得到混合物二；
步驟三，將混合物一與混合物二相混合，加入氨基磺酸和乙醇，攪拌混合均勻，其中攪拌速度80轉(zhuǎn)/分鐘，攪拌溫度為室溫，攪拌時間為20分鐘，得到集成電路芯片清洗液。
實施例2
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