[發(fā)明專利]用包含堿性穩(wěn)定吡嗪衍生物的催化劑化學(xué)鍍金屬化電介質(zhì)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410667902.0 | 申請日: | 2014-09-04 |
| 公開(公告)號: | CN104561947B | 公開(公告)日: | 2017-12-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉鋒;M·A·熱茲尼克 | 申請(專利權(quán))人: | 羅門哈斯電子材料有限公司 |
| 主分類號: | C23C18/31 | 分類號: | C23C18/31 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司31100 | 代理人: | 郭輝 |
| 地址: | 美國馬*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 包含 堿性 穩(wěn)定 衍生物 催化劑 化學(xué) 鍍金 電介質(zhì) | ||
發(fā)明領(lǐng)域
本發(fā)明涉及用包含堿性穩(wěn)定吡嗪衍生物的催化劑化學(xué)鍍金屬化電介質(zhì)。更具體地,本發(fā)明涉及用包含堿性穩(wěn)定吡嗪衍生物的催化劑代替鈀/錫膠體催化劑來金屬化電介質(zhì)。
發(fā)明背景
傳統(tǒng)的印刷電路板(PCB)由層壓絕緣電介質(zhì)基體組成,該基體通過借助鉆孔和電鍍通孔(PTH)以形成電路板的對立面和/或內(nèi)層的連接。化學(xué)鍍是眾所周知的制備表面上金屬涂層的方法。電介質(zhì)表面的化學(xué)鍍需要預(yù)先沉積催化劑。最常用的催化或活化層壓絕緣電介質(zhì)基體區(qū)域的方法是在化學(xué)鍍之前,在酸性氯化物介質(zhì)中用錫-鈀膠體水溶液處理電路板。膠體由錫(II)離子穩(wěn)定層包裹的金屬鈀核組成。[SnCl3]-復(fù)合物外殼作為表面穩(wěn)定基團(tuán)來避免膠體在混懸液中凝聚。
在活化過程中,基于鈀的膠體被吸附在絕緣基體上,例如環(huán)氧樹脂或聚酰亞胺,來激發(fā)化學(xué)鍍銅沉積。理論上,對于化學(xué)鍍金屬沉積,催化劑顆粒在電子從還原劑轉(zhuǎn)移到鍍浴金屬離子的過程中起到了載體的作用。盡管化學(xué)鍍銅工藝的實(shí)施受到許多因素影響,例如沉積溶液的組成和配體的選擇,活化步驟是控制化學(xué)鍍沉積速率和機(jī)制的關(guān)鍵因素。鈀/錫膠體作為金屬化學(xué)鍍的活化劑己經(jīng)在商業(yè)上使用幾十年了,其結(jié)構(gòu)已經(jīng)被廣泛的研究。然而,它對空氣的敏感性和高成本給改進(jìn)或替代留下了空間。
雖然膠體鈀催化劑提供了好的服務(wù),但它具有許多缺點(diǎn),隨著印刷電路板制造質(zhì)量的提高變得越來越突出。近年來,隨著電子設(shè)備尺寸的減小和性能的提升,電子電路的封裝密度變得更高,且進(jìn)一步要求化學(xué)鍍后無缺陷。因此對于可靠的替代催化劑組合物的需求是巨大的。膠體鈀催化劑的穩(wěn)定性也是令人擔(dān)憂的。如上所述,鈀/錫膠體由錫(II)離子層穩(wěn)定且其抗衡離子可以防止鈀聚集。錫(II)離子很容易被氧化成錫(IV),因此膠體不能維持其膠體結(jié)構(gòu)。溫度和振蕩促進(jìn)了氧化。如果使錫(II)濃度降到接近零,鈀顆粒的尺寸就會(huì)變大,聚集并且沉淀。
為了尋找新的和更好的催化劑已經(jīng)做出了相當(dāng)大的努力。例如,由于鈀的高成本,許多嘗試指向了開發(fā)非鈀或雙金屬替代催化劑。以往,問題包括它們對于電鍍通孔并不是十分有活性或足夠可靠。此外,這些催化劑通常經(jīng)過放置后活性逐漸減弱,這一改變使得這些催化劑不可靠且對于商業(yè)應(yīng)用是不切實(shí)際的。US 4248632公開了一種用于化學(xué)鍍非鈀/錫催化劑。該催化劑包括催化金屬絡(luò)合物,例如鈀或替代金屬如銀和金,含氮配體和酸性基團(tuán);然而,酸性環(huán)境對于催化性能是關(guān)鍵的。酸性環(huán)境通常會(huì)引起電介質(zhì)基體上產(chǎn)生不希望有的腐蝕金屬覆層,導(dǎo)致有缺陷的制品產(chǎn)生。這個(gè)問題在印刷電路板的生產(chǎn)中是非常普遍的,板通常被銅大量地包覆,因此在工業(yè)上酸性環(huán)境是非常不希望有的。
優(yōu)選地,金屬包層電介質(zhì)在堿性環(huán)境下化學(xué)鍍,但許多非-鈀/錫催化劑在這種條件下是不穩(wěn)定和不可靠的。US 5503877公開了另一種既可以在酸性又可以在堿性環(huán)境中使用的非-鈀/錫催化劑。該催化劑包括催化金屬例如鈀、銀或金,含氮配體和溶劑組分;但是,催化劑必須首先延長加熱的時(shí)間以形成低聚物/多聚物,否則它的活性不夠。而且,長時(shí)間的加熱和隨后的冷卻封裝,由于在大規(guī)模催化劑制備中增加的人力和設(shè)備費(fèi)用,會(huì)導(dǎo)致較高的成本。因此,仍然需要一種鈀/錫的替代催化劑。
發(fā)明概述
方法包括提供包含電介質(zhì)的基體;將水性堿性催化劑溶液施加于包含電介質(zhì)的基體,水性堿性催化劑包括金屬離子和一種或多種具有如下通式結(jié)構(gòu)的吡嗪衍生物的絡(luò)合物:
其中R1、R2、R3和R4可以相同或者不同,可以是氫、直鏈或支鏈(C1-C5)烷基,-N(R)2、直鏈或支鏈氨基(C1-C5)烷基、乙酰基、直鏈或支鏈羥基(C1-C5)烷基,或直鏈或支鏈(C1-C5)烷氧基,其中R可以相同或不同,可以是氫或直鏈或支鏈(C1-C5)烷基,且附加條件是R1、R2、R3和R4中至少一個(gè)不是氫;將還原劑施加于包含電介質(zhì)的基體;并將包含電介質(zhì)的基體浸入堿金屬鍍浴中,在電介質(zhì)基體上化學(xué)鍍金屬。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態(tài)化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應(yīng)產(chǎn)物的化學(xué)鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學(xué)鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預(yù)處理





