[發明專利]一種表面多孔NiTi形狀記憶合金制備方法

有效

• 申請號: 201410658824.8
• 申請日: 2014-11-18
• 公開（公告）號: CN104404602A
• 公開（公告）日: 2015-03-11
• 發明（設計）人: 金學軍;孔祥確;金明江;李偉
• 申請（專利權）人: 上海交通大學
• 主分類號: C25D11/34
• 分類號: C25D11/34;C25D11/26;A61L27/06;A61L27/50;A61L31/02;A61L31/14
• 代理公司: 上海光華專利事務所 31219
• 代理人: 郭婧婧

1.一種表面多孔NiTi形狀記憶合金的制備方法，為采用單步陽極氧化法，具體包括如下步驟：

(1)表面預處理：對NiTi形狀記憶合金進行打磨、拋光處理，使其光潔；

(2)陽極氧化：采用兩電極體系，在電解液中以表面預處理后的NiTi形狀記憶合金為陽極，石墨為陰極，在陰陽極間施加一定的電壓，從而使陽極電極被氧化。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟(1)中，表面預處理方法具體為：采用SiC砂紙和拋光布對NiTi形狀記憶合金依次進行打磨和拋光，超聲清洗，自然干燥。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟(2)中，所述電解液為氟化銨NH₄F和硫酸銨(NH₄)₂SO₄以丙三醇、乙二醇和去離子水為溶劑配制的混合液。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述電解液中，NH₄F的濃度為0.1～0.4M，(NH₄)₂SO₄的濃度為0.1～0.4M。

5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟(2)中，所述電解液的溫度為25℃～35℃。

6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟(2)中，所述電壓為30～50V。

7.根據權利要6所述的方法，其特征在于，所述步驟(2)中，在陰陽極間施加一定的電壓，具體為通電后經20s電壓升到30～50V，保持1～3h，然后電壓瞬時降至0V。

8.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟(2)中，陽極氧化反應溫度為20～30℃。

9.一種由權利要求1～8任一權利要求所述的方法制備獲得的表面多孔NiTi形狀記憶合金。

10.根據權利要求1～8任一權利要求所述的方法或者權利要求9所述的表面多孔NiTi形狀記憶合金在制備骨科、整形外科及心血管外科植入體中的應用。