[發(fā)明專(zhuān)利]一種電容器用金屬化薄膜及其制造工藝

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410655329.1
• 申請(qǐng)日: 2014-11-17
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104319095A
• 公開(kāi)（公告）日: 2015-01-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王春華;顧曹新;劉紅干;宋玉鋒
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 江蘇現(xiàn)代電力科技股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01G4/005
• 分類(lèi)號(hào): H01G4/005;H01G4/008;H01G4/015
• 代理公司: 南京鐘山專(zhuān)利代理有限公司 32252
• 代理人: 戴朝榮

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種真空蒸發(fā)鍍膜產(chǎn)品及其制造工藝。

背景技術(shù)

金屬化薄膜電容器是利用聚酯薄膜或聚丙烯薄膜等材料作為介質(zhì)，鋅鋁合金通過(guò)真空蒸鍍方式將其附著在薄膜表面，形成電極。而電容器用的金屬化薄膜的質(zhì)量對(duì)電容器的壽命有著很大的影響。金屬化薄膜在蒸鍍過(guò)程中，如能控制合適的加厚區(qū)寬度及方阻值、非加厚區(qū)漸變型方阻值，選擇合適的鍍層厚度和工藝，使產(chǎn)品的耐電壓與耐電流性達(dá)到最佳，可顯著提高電容器的性能。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的技術(shù)目的是提供一種耐高壓、耐電流沖擊的電容器用金屬化薄膜及其制造工藝。

本發(fā)明公開(kāi)的技術(shù)方案為：

一種電容器用金屬化薄膜，包括基膜和鍍制在基膜上的多個(gè)鍍層單元，所述鍍層單元由若干層金屬鍍層依次疊置覆蓋構(gòu)成，其特征在于，所述鍍層單元沿橫向在基膜上依次排列，鍍層單元之間設(shè)有留邊區(qū)；所述鍍層單元的縱向截面左右鏡像對(duì)稱(chēng)，鍍層單元兩側(cè)為漸變方阻區(qū),中間為加厚方阻區(qū),所述加厚方阻區(qū)包含的金屬鍍層厚于漸變方阻區(qū)中的對(duì)應(yīng)金屬鍍層,使加厚方阻區(qū)呈向上拱起的圓弧形，所述漸變方阻區(qū)呈弧線形。

進(jìn)一步的技術(shù)方案還包括：

所述鍍層單元包括自基膜表面向上分別蒸鍍的銀層、鋁層和鋅層，按質(zhì)量百分比，所述鍍層單元中含有1～3％的銀元素、3～7％的鋁元素、90～92％鋅元素,余量為雜質(zhì),所述雜質(zhì)的質(zhì)量含量為≥0％。

在蒸鍍過(guò)程中，各蒸鍍?cè)床牧?，尤其是相鄰膜層之間不可避免的會(huì)發(fā)生物質(zhì)的物理或化學(xué)反應(yīng)，產(chǎn)生除蒸鍍?cè)床牧蠁钨|(zhì)之外的合金物質(zhì)或氧化物等化合物,同時(shí)蒸鍍?cè)床牧媳旧硪矔?huì)因純度問(wèn)題存在不可避免的雜質(zhì)。

所述鍍層單元自外側(cè)邊向中心線依次分為R1區(qū)、R2區(qū)、R3區(qū)及R4區(qū)，所述R1區(qū)、R2區(qū)、R3區(qū)為漸變方阻區(qū)的部分,所述R4區(qū)為加厚方阻區(qū)的部分，所述R1區(qū)包括2～4Ω/□的方阻值漸變范圍區(qū)間、R2區(qū)包括6～12Ω/□的方阻值漸變范圍區(qū)間、R3區(qū)包括15～20Ω/□的方阻值漸變范圍區(qū)間,所述R4區(qū)包括25～40Ω/□的方阻值漸變范圍區(qū)間。

所述漸變方阻區(qū)的縱向截面自R3區(qū)至R1區(qū)呈漸屈線型。

優(yōu)選的，所述R1區(qū)的縱向?qū)挾葹?±1mm，所述R2區(qū)的縱向?qū)挾葹?8.5±1mm，所述R3區(qū)的縱向?qū)挾葹?5±1mm，所述R4區(qū)的縱向?qū)挾葹?±1mm，所述留邊區(qū)的縱向?qū)挾葹?±0.5mm。在實(shí)際加工中，以上參數(shù)無(wú)法避免絕對(duì)誤差。

一種電容器用金屬化薄膜的制造工藝，在真空環(huán)境中進(jìn)行，其特征在于，包括以下步驟：

將基膜料卷安裝在合適的卷軸上，并將膜料繞過(guò)相應(yīng)的限位導(dǎo)輥，將位于各蒸發(fā)器上方的一段膜料展平，使膜料移動(dòng)過(guò)程中依次經(jīng)過(guò)屏蔽油蒸發(fā)器、銀蒸發(fā)器、鋁蒸發(fā)器、鋅蒸發(fā)器、保護(hù)油蒸發(fā)器的上方，蒸鍍后在基膜一面形成了沿其延伸方向依次排布的若干鍍層單元；

所述蒸發(fā)器之間保持一定間距，蒸發(fā)源材料的蒸發(fā)面積與預(yù)設(shè)鍍層單元的覆蓋區(qū)域同寬同長(zhǎng)，蒸鍍前，根據(jù)預(yù)設(shè)的留邊區(qū)和鍍層單元的形狀、尺寸，膜層下方對(duì)應(yīng)各蒸發(fā)器的位置設(shè)置相應(yīng)的擋板結(jié)構(gòu)，屏蔽油蒸鍍?cè)诨ど项A(yù)設(shè)留邊區(qū)的位置；鍍膜過(guò)程中，真空環(huán)境的真空度為3～5(10E-4)Pa，膜料移動(dòng)速度為18～20m/s；

銀蒸發(fā)器中銀材料的加熱溫度為980～1030℃，在蒸發(fā)源至膜料的垂直方向上的蒸氣流速度為0.4～0.6m/s；

鋁蒸發(fā)器蒸發(fā)舟的加熱電流為70～90A，送鋁速度為500～700mm/min，在蒸發(fā)源至膜料的垂直方向上的蒸氣流速度為0.4～0.6m/s，鋁絲直徑為2mm；

鋅蒸發(fā)器中鋅材料的加熱溫度為650～700℃，在蒸發(fā)源至膜料的垂直方向上的蒸氣流速度為6～7m/s。

進(jìn)一步的技術(shù)方案還包括：

經(jīng)保護(hù)油蒸發(fā)器蒸鍍后的膜料從冷卻輥的下方繞過(guò)，蒸鍍時(shí)，所述冷卻輥的制冷溫度設(shè)置為-20℃至-25℃。

所述屏蔽油和保護(hù)油為全氟聚醚材料，所述屏蔽油蒸發(fā)器、保護(hù)油蒸發(fā)器的加熱溫度設(shè)為240～280℃，在蒸汽源至膜料的垂直方向上的蒸氣流速度為0.4～0.6m/s。

施加在所述冷卻輥和膜料之間的偏壓值為100V/μm，所述μm為基膜的厚度。

鍍膜結(jié)束后，關(guān)閉真空系統(tǒng)，所述冷卻輥加熱到40～45℃后，破真空，取出膜料。

本發(fā)明的有益效果：

本發(fā)明金屬化薄膜附著力好、抗氧化性強(qiáng)，具有顯著提高的耐壓性能、耐電流性能以及自愈性能。本發(fā)明制造工藝科學(xué)合理，有效保障了產(chǎn)品鍍膜的質(zhì)量。

附圖說(shuō)明