[發明專利]一種電容器用金屬化薄膜及其制造工藝

有效

• 申請號: 201410655329.1
• 申請日: 2014-11-17
• 公開（公告）號: CN104319095A
• 公開（公告）日: 2015-01-28
• 發明（設計）人: 王春華;顧曹新;劉紅干;宋玉鋒
• 申請（專利權）人: 江蘇現代電力科技股份有限公司
• 主分類號: H01G4/005
• 分類號: H01G4/005;H01G4/008;H01G4/015
• 代理公司: 南京鐘山專利代理有限公司 32252
• 代理人: 戴朝榮

1.一種電容器用金屬化薄膜，包括基膜和鍍制在基膜上的多個鍍層單元，所述鍍層單元由若干層金屬鍍層依次疊置覆蓋構成，其特征在于，所述鍍層單元沿橫向在基膜上依次排列，鍍層單元之間設有留邊區；所述鍍層單元的縱向截面左右鏡像對稱，鍍層單元兩側為漸變方阻區,中間為加厚方阻區,所述加厚方阻區包含的金屬鍍層厚于漸變方阻區中的對應金屬鍍層,使加厚方阻區呈向上拱起的圓弧形，所述漸變方阻區呈弧線形。

2.根據權利要求1所述的一種電容器用金屬化薄膜，其特征在于，所述鍍層單元包括自基膜表面向上分別蒸鍍的銀層、鋁層和鋅層，按質量百分比，所述鍍層單元中含有1～3％的銀元素、3～7％的鋁元素、90～92％鋅元素,余量為雜質,所述雜質的質量含量為≥0％。

3.根據權利要求1或2所述的一種電容器用金屬化薄膜，其特征在于,所述鍍層單元自外側邊向中心線依次分為R1區、R2區、R3區及R4區，所述R1區、R2區、R3區為漸變方阻區的部分,所述R4區為加厚方阻區的部分,所述R1區包括2～4Ω/□的方阻值漸變范圍區間、R2區包括6～12Ω/□的方阻值漸變范圍區間、R3區包括15～20Ω/□的方阻值漸變范圍區間,所述R4區包括25～40Ω/□的方阻值漸變范圍區間。

4.根據權利要求3所述的一種電容器用金屬化薄膜，其特征在于,所述漸變方阻區的縱向截面自R3區至R1區呈漸屈線型。

5.根據權利要求3所述的一種電容器用金屬化薄膜，其特征在于,所述R1區的縱向寬度為5±1mm，所述R2區的縱向寬度為38.5±1mm，所述R3區的縱向寬度為25±1mm，所述R4區的縱向寬度為4±1mm，所述留邊區的縱向寬度為5±0.5mm。

6.一種電容器用金屬化薄膜的制造工藝，在真空環境中進行，其特征在于，包括以下步驟：

將基膜料卷安裝在合適的卷軸上，并將膜料繞過相應的限位導輥，將位于各蒸發器上方的一段膜料展平，使膜料移動過程中依次經過屏蔽油蒸發器、銀蒸發器、鋁蒸發器、鋅蒸發器、保護油蒸發器的上方，蒸鍍后在基膜一面形成沿其延伸方向依次排布的若干鍍層單元；

所述蒸發器之間保持一定間距，蒸發源材料的蒸發面積與預設鍍層單元的覆蓋區域同寬同長；蒸鍍前，根據預設的留邊區和鍍層單元的形狀、尺寸，膜層下方對應各蒸發器的位置設置相應的擋板結構，屏蔽油蒸鍍在基膜上預設留邊區的位置；鍍膜過程中，真空環境的真空度為3～5(10E-4)Pa，膜料移動速度為18～20m/s；

銀蒸發器中銀材料的加熱溫度為980～1030℃，在蒸發源至膜料的垂直方向上的蒸氣流速度為0.4～0.6m/s；

鋁蒸發器蒸發舟的加熱電流為70～90A，送鋁速度為500～700mm/min，在蒸發源至膜料的垂直方向上的蒸氣流速度為0.4～0.6m/s，鋁絲直徑為2mm；

鋅蒸發器中鋅材料的加熱溫度為650～700℃，在蒸發源至膜料的垂直方向上的蒸氣流速度為6～7m/s。

7.根據權利要求6所述的一種電容器用金屬化薄膜的制造工藝，其特征在于，經保護油蒸發器蒸鍍后的膜料從冷卻輥的下方繞過，蒸鍍時，所述冷卻輥的制冷溫度設置為-20℃至-25℃。

8.根據權利要求7所述的一種電容器用金屬化薄膜的制造工藝，其特征在于，所述屏蔽油和保護油為全氟聚醚材料，所述屏蔽油蒸發器、保護油蒸發器的加熱溫度設為240～280℃，在蒸汽源至膜料的垂直方向上的蒸氣流速度為0.4～0.6m/s。

9.根據權利要求7所述的一種電容器用金屬化薄膜的制造工藝，其特征在于，施加在所述冷卻輥和膜料之間的偏壓值為100V/μm，所述μm為基膜的厚度。

10.根據權利要求6-9中任一權項所述的一種電容器用金屬化薄膜的制造工藝，其特征在于，鍍膜結束后，關閉真空系統，所述主鼓加熱到40～45℃后，破真空，取出膜料。