[發(fā)明專利]清潔基板的設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410652798.8
• 申請(qǐng)日: 2014-11-17
• 公開（公告）號(hào): CN104646337A
• 公開（公告）日: 2015-05-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 趙町元;李忠爀;南俊;姜聲求;金鶴;白成九;李景在
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號(hào): B08B3/02
• 分類號(hào): B08B3/02;B08B13/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 翟然

技術(shù)領(lǐng)域

本公開在此涉及一種清潔基板的設(shè)備，更具體地，涉及濕法清潔基板的設(shè)備。

背景技術(shù)

當(dāng)制造平板顯示器件時(shí)，在諸如玻璃基板的基板上可以執(zhí)行包括清潔工藝的多個(gè)工藝。為了清潔用于平板顯示器件的大面積玻璃基板，基板被傳送到清潔腔以通過(guò)設(shè)置在清潔腔內(nèi)的多個(gè)噴嘴將清潔液噴射到基板上，由此清潔基板。

多個(gè)噴嘴根據(jù)清潔液的排出壓力而可分為若干類型。此外，通過(guò)使用清潔液清潔基板的方法可以根據(jù)排出壓力而有些不同。例如，多個(gè)噴嘴可以包括噴水嘴、噴頭和噴霧嘴。噴水嘴可以在大于噴頭和噴霧嘴的壓力下排放清潔液。噴水嘴可以通過(guò)使用從其排放的清潔液來(lái)清潔基板。此外，清潔液可以以高壓撞擊基板以更有效地去除附著于基板的異物諸如微粒和雜質(zhì)。

發(fā)明內(nèi)容

本公開提供一種能夠防止清潔的基板被污染的基板清潔設(shè)備。

發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式提供一種清潔基板的基板清潔設(shè)備，包括清潔腔、第一清潔噴嘴、蓋構(gòu)件、氣流產(chǎn)生單元以及排氣單元。主清潔腔具有清潔空間并包括側(cè)壁，基板在清潔空間中被清潔，第一排氣孔限定在側(cè)壁中。第一清潔噴嘴設(shè)置在主清潔腔中以噴射第一清潔液。蓋構(gòu)件覆蓋主清潔腔并具有其中限定第二排氣孔的一側(cè)。氣流產(chǎn)生單元通過(guò)第一排氣孔將空氣供給到清潔空間中。排氣單元被聯(lián)接到蓋構(gòu)件的該一側(cè)以通過(guò)第二排氣孔抽吸并排放供給到清潔空間的空氣。

附圖說(shuō)明

附圖被包括以提供對(duì)發(fā)明構(gòu)思的進(jìn)一步理解，并且被并入本說(shuō)明書且構(gòu)成本說(shuō)明書的一部分。附圖和描述一起示出發(fā)明構(gòu)思的示范實(shí)施方式，并且用來(lái)解釋發(fā)明構(gòu)思的原理。在附圖中：

圖1A是根據(jù)發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式的基板清潔設(shè)備的透視圖；

圖1B是圖1A的基板清潔設(shè)備的截面圖；

圖2A和圖2B是示出在圖1B的主清潔腔中產(chǎn)生的霧的狀態(tài)的視圖；以及

圖3A、3B和3C是示出通過(guò)基板清潔設(shè)備排放霧的操作的視圖。

具體實(shí)施方式

在下文將參考附圖更具體地描述發(fā)明構(gòu)思的示范實(shí)施方式。發(fā)明構(gòu)思的目標(biāo)、特性和效果將隨著以下相關(guān)附圖的圖示和優(yōu)選實(shí)施方式的具體描述而變得明顯。然而，本公開可以以許多不同的形式實(shí)施，不應(yīng)該理解為限于在此闡述的實(shí)施方式。而是，提供這些實(shí)施方式使得本公開徹底和完整，并將向本領(lǐng)域技術(shù)人員充分傳達(dá)本發(fā)明構(gòu)思的范圍。因此，發(fā)明構(gòu)思的范圍不應(yīng)該理解為限于以上描述的實(shí)施方式。在實(shí)施方式和附圖中，相同的附圖標(biāo)記始終指代相同的元件。

將理解，雖然術(shù)語(yǔ)“第一”、“第二”在此使用以描述各種元件，但這些元件不應(yīng)該被這些術(shù)語(yǔ)限制。將理解，當(dāng)層、區(qū)域或元件被稱為“在”另一層、區(qū)域或元件“上”時(shí)，它可以直接形成在另一層、區(qū)域或元件上，或者可以形成有介于其間的層、區(qū)域或元件。

圖1A是根據(jù)發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式的基板清潔設(shè)備100的透視圖，圖1B是圖1A的基板清潔設(shè)備100的截面圖。

參考圖1A和圖1B，基板清潔設(shè)備100可以是用于執(zhí)行基板SB的清潔工藝的設(shè)備。在當(dāng)前實(shí)施方式中，基板清潔設(shè)備100包括傳送單元150、第一輔助清潔腔R11、主清潔腔R1和第二輔助清潔腔R12。第一輔助清潔腔R11、主清潔腔R1和第二輔助清潔腔R12被連續(xù)地布置。

基板輸入孔DR1設(shè)置在第一輔助清潔腔R11的外壁中，第一基板入口DR2形成在第一輔助清潔腔R11和主清潔腔R1之間。此外，第二基板入口DR3形成在第二輔助清潔腔R12和主清潔腔R1之間，基板輸出孔DR4形成在第二輔助清潔腔R12的外壁中。

傳送單元150設(shè)置在第一輔助清潔腔R11、主清潔腔R1和第二輔助清潔腔R12內(nèi)部。因此，在基板SB通過(guò)基板輸入孔DR1進(jìn)入基板清潔設(shè)備100之后，基板100可以被順序地傳送到第一輔助清潔腔R11、主清潔腔R1和第二輔助清潔腔R12。此外，在清潔工藝終止之后，傳送單元150可以運(yùn)轉(zhuǎn)以將基板SB通過(guò)基板輸出孔DR4從基板清潔設(shè)備100中取出。

在當(dāng)前實(shí)施方式中，傳送單元150可以包括多個(gè)輥RL。在這種情況下，基板SB可以設(shè)置在多個(gè)輥RL上然后通過(guò)多個(gè)輥RL的旋轉(zhuǎn)力被傳送。根據(jù)另一實(shí)施方式，傳送單元150可以使用傳送帶或傳送軌以不同的方式操作來(lái)傳送基板SB。