[發(fā)明專利]清潔基板的設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410652798.8
• 申請(qǐng)日: 2014-11-17
• 公開（公告）號(hào): CN104646337A
• 公開（公告）日: 2015-05-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 趙町元;李忠爀;南俊;姜聲求;金鶴;白成九;李景在
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號(hào): B08B3/02
• 分類號(hào): B08B3/02;B08B13/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 翟然

1.一種清潔基板的基板清潔設(shè)備，所述基板清潔設(shè)備包括：

主清潔腔，具有清潔空間，所述基板在所述清潔空間中被清潔，所述主清潔腔包括其中限定第一排氣孔的側(cè)壁；

至少一個(gè)第一清潔噴嘴，設(shè)置在所述主清潔腔中以噴射第一清潔液；

覆蓋所述主清潔腔的蓋構(gòu)件，所述蓋構(gòu)件具有其中限定第二排氣孔的一側(cè)；

氣流產(chǎn)生單元，通過所述第一排氣孔將空氣供給到所述清潔空間中；以及

排氣單元，聯(lián)接到所述蓋構(gòu)件的所述一側(cè)以通過所述第二排氣孔抽吸并排放供給到所述清潔空間的空氣。

2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述氣流產(chǎn)生單元和所述排氣單元在所述清潔空間中產(chǎn)生氣流，所述氣流由通過所述第一排氣孔和第二排氣孔穿過所述清潔空間的空氣的流動(dòng)而限定。

3.如權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中所述氣流產(chǎn)生單元和所述排氣單元通過使用所述氣流將由所述第一清潔液產(chǎn)生并填充到所述清潔空間中的霧排放到所述主清潔腔的外部。

4.如權(quán)利要求2所述的設(shè)備，還包括：

第一輔助清潔腔，設(shè)置得鄰近于所述主清潔腔的所述側(cè)壁；

至少一個(gè)第二清潔噴嘴，設(shè)置在所述第一輔助清潔腔中以噴射第二清潔液；

第二輔助清潔腔，面對(duì)所述第一輔助清潔腔且所述主清潔腔位于所述第一輔助清潔腔和第二輔助清潔腔之間；

至少一個(gè)第三清潔噴嘴，設(shè)置在所述第二輔助清潔腔中以噴射第三清潔液；以及

傳送單元，設(shè)置在所述第一輔助清潔腔、所述主清潔腔和所述第二輔助清潔腔中以傳送所述基板。

5.如權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其中所述氣流產(chǎn)生單元通過限定在所述第一輔助清潔腔中的孔將所述空氣供給到所述第一輔助清潔腔，供給到所述第一輔助清潔腔的空氣通過第一排氣孔被供給到所述清潔空間。

6.如權(quán)利要求5所述的設(shè)備，還包括設(shè)置在所述第一輔助清潔腔內(nèi)以延伸到所述第一排氣孔的引導(dǎo)構(gòu)件，其中所述引導(dǎo)構(gòu)件將供給到所述第一輔助清潔腔中的空氣引導(dǎo)到所述第一排氣孔。

7.如權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其中所述第一清潔噴嘴以第一壓力噴射所述第一清潔液，所述第二清潔噴嘴以第二壓力噴射所述第二清潔液，所述第三清潔噴嘴以第三壓力噴射所述第三清潔液，

其中所述第一壓力大于所述第二壓力和第三壓力的每個(gè)。

8.如權(quán)利要求4所述的設(shè)備，還包括：

第一輔助噴嘴，設(shè)置在所述第一輔助清潔腔內(nèi)以噴射第一流體，所述第一輔助噴嘴阻擋由第一清潔液產(chǎn)生并通過第一基板入口引入到所述第一輔助清潔腔中的霧；和

第二輔助噴嘴，設(shè)置在所述第二輔助清潔腔內(nèi)以噴射第二流體，所述第二輔助噴嘴阻擋通過第二基板入口引入到所述第二輔助清潔腔中的霧，

其中在所述主清潔腔中限定與所述第一輔助清潔腔連通的所述第一基板入口，在所述主清潔腔中限定與所述第二輔助清潔腔連通的所述第二基板入口。

9.如權(quán)利要求4所述的設(shè)備，還包括輔助氣流產(chǎn)生單元，所述輔助氣流產(chǎn)生單元通過限定在所述第二輔助清潔腔中的孔將空氣供給到所述第二輔助清潔腔中以阻擋被引入所述第二輔助清潔腔的霧。

10.如權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其中所述第一清潔噴嘴包括噴水嘴，所述第二清潔噴嘴和第三清潔噴嘴的每個(gè)包括噴霧嘴或噴頭。

11.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述第一排氣孔和第二排氣孔的每個(gè)具有在所述主清潔腔的所述側(cè)壁的寬度方向上延伸的狹縫形狀。

12.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述蓋構(gòu)件包括：

側(cè)部，所述第二排氣孔限定在所述側(cè)部中，所述側(cè)部被聯(lián)接到所述排氣單元；以及

蓋部，聯(lián)接到所述側(cè)部以覆蓋所述主清潔腔的上部，

其中所述蓋部在側(cè)視圖中從所述第二排氣孔到所述第一排氣孔傾斜。

13.如權(quán)利要求12所述的設(shè)備，其中所述蓋部將通過所述第一排氣孔被供給到所述清潔空間中的空氣引導(dǎo)到所述第二排氣孔。

14.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，還包括從所述主清潔腔的所述側(cè)壁及其他側(cè)壁中的至少一個(gè)突出到所述清潔空間中的阻擋構(gòu)件，以阻擋沿所述側(cè)壁及其他側(cè)壁下降的液體。

15.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述第一清潔噴嘴包括噴水嘴。