[發(fā)明專利]有源元件及應用其的半導體元件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410641127.1 | 申請日: | 2014-11-13 |
| 公開(公告)號: | CN105655328B | 公開(公告)日: | 2018-08-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 呂函庭 | 申請(專利權(quán))人: | 旺宏電子股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/02 | 分類號: | H01L27/02;H01L29/78;H01L29/06 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 任巖 |
| 地址: | 中國臺灣新竹*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 有源 元件 應用 半導體 | ||
1.一種半導體元件,包括:
一基板;
一第一阱具有一第一導電態(tài)并自該基板的一表面向下延伸;
一擴散區(qū)域摻雜該第一導電態(tài)的不純物并自該第一阱的一表面向下延伸;
多個有源元件形成于該擴散區(qū)域內(nèi),且這些有源元件彼此相距地設(shè)置,
其中這些有源元件是通過該擴散區(qū)域而彼此電性絕緣,這些有源元件之一包括:
一導電護欄結(jié)構(gòu)形成于該擴散區(qū)域上;和
一輕摻雜區(qū)域具有一第二導電態(tài),且該輕摻雜區(qū)域自該擴散區(qū)域的一表面向下延伸并對應地位于該導電護欄結(jié)構(gòu)之內(nèi),其中位于相鄰的這些有源元件之間的一隔離區(qū)域是由這些相鄰有源元件的這些導電護欄結(jié)構(gòu)所定義。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導體元件,其中該導電護欄結(jié)構(gòu)包括:
一中間部(middle portion),其中該中間部是作為該有源元件的一柵極,且該中間部沿著一第一方向具有一通道寬度(channel width,W’)和沿著一第二方向具有一通道長度(channel length,Lg);
一第一護部(first guarding portion),連接該中間部的一側(cè)以定義位于該擴散區(qū)域的一第一區(qū)域(first region),其中該第一區(qū)域是由該第一護部和該中間部圍繞而成;和
一第二護部(second guarding portion),與該第一護部相對并連接該中間部的另一側(cè)以定義位于該擴散區(qū)域的一第二區(qū)域(second region),其中該第二區(qū)域是由該第二護部和該中間部圍繞而成,其中該第一區(qū)域和該第二區(qū)域是位于該輕摻雜區(qū)域內(nèi),而該第一區(qū)域和該第二區(qū)域是相隔開該通道長度的一距離。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導體元件,其中這些有源元件之一更包括:
一第一接觸區(qū)域(first contact region)具有該第二導電態(tài)并形成于該導電護欄結(jié)構(gòu)的該第一區(qū)域內(nèi),且該第一接觸區(qū)域是與該第一護部和該中間部相距;
一第二接觸區(qū)域(second contact region)具有該第二導電態(tài)并形成于該導電護欄結(jié)構(gòu)的該第二區(qū)域內(nèi),且該第二接觸區(qū)域是與該第二護部和該中間部相距;和
一第一接點(first contact)形成于該第一接觸區(qū)域,以及一第二接點(secondcontact)形成于該第二接觸區(qū)域。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導體元件,其中當該半導體元件為一低壓(LV)元件時,相鄰的這些有源元件之間的一間距(space,S)是在0.18μm to0.28μm的范圍內(nèi);當該半導體元件為一高壓(HV)元件時,相鄰的這些有源元件之間的一間距(space,S)是在0.8μm to 1.2μm的范圍內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導體元件,其中相鄰的這些有源元件之間的一間距(space,S)處是無淺溝道隔離(Shallow trench isolation,STI)。
6.一有源元件,形成于一基板處的具有一第一導電態(tài)的一擴散區(qū)域內(nèi),該有源元件包括:
一導電護欄結(jié)構(gòu)(conductive guarding structure),包括:
一中間部(middle portion);
一第一護部(first guarding portion),連接該中間部的一側(cè)以定義位于該擴散區(qū)域的一第一區(qū)域(first region),其中該第一區(qū)域是由該第一護部和該中間部圍繞而成;和
一第二護部(second guarding portion),與該第一護部相對并連接該中間部的另一側(cè)以定義位于該擴散區(qū)域的一第二區(qū)域(second region),其中該第二區(qū)域是由該第二護部和該中間部圍繞而成;
一第一接觸區(qū)域(first contact region)具有一第二導電態(tài)并形成于該導電護欄結(jié)構(gòu)的該第一區(qū)域內(nèi),且該第一接觸區(qū)域是與該第一護部和該中間部相距;和
一第二接觸區(qū)域(second contact region)具有該第二導電態(tài)并形成于該導電護欄結(jié)構(gòu)的該第二區(qū)域內(nèi),且該第二接觸區(qū)域是與該第二護部和該中間部相距。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





