[發(fā)明專利]一種制備大軸徑比皺紋模板的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410635302.6 | 申請日: | 2014-11-12 |
| 公開(公告)號: | CN104690991A | 公開(公告)日: | 2015-06-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 魯從華;田闖 | 申請(專利權(quán))人: | 天津大學(xué) |
| 主分類號: | B29D7/01 | 分類號: | B29D7/01 |
| 代理公司: | 天津市北洋有限責任專利代理事務(wù)所 12201 | 代理人: | 宋潔瑾 |
| 地址: | 300072*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 制備 大軸徑 皺紋 模板 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于模板制備技術(shù),更具體地說是基于PDMS(聚二甲基硅氧烷)薄膜的轉(zhuǎn)移方法的制備技術(shù)。
背景技術(shù)
軟印刷技術(shù)是一種非光刻技術(shù),是基于軟印章或模板的微結(jié)構(gòu)加工技術(shù),該技術(shù)采用聚合物印章或模具制備微結(jié)構(gòu)而得名,其軟是相對于半導(dǎo)體或金屬材料而言。與光刻相比,軟印刷技術(shù)適用于光敏型的化合物以及可以控制具有特殊化學(xué)官能團的表面,沒有光的作用,不會使彈性印章光變形,并且能夠?qū)崿F(xiàn)大面積的圖案化。
軟印刷技術(shù)的工藝主要包括兩步:第一步模板的制備,通常采用光刻制備原始模板,然后經(jīng)過復(fù)制得到所需的模板或者印章;第二步是接觸并轉(zhuǎn)移,將印章上的圖形結(jié)構(gòu)通過墨水或高分子等物質(zhì)轉(zhuǎn)移到在基底材料上,然后經(jīng)過刻蝕工藝等在基底材料基體上得到所需的圖案。
在軟印刷技術(shù)中,聚合物印章的制備是核心,其圖形結(jié)構(gòu)來自母板。對于制備母板而言,只要能夠制備出圖形結(jié)構(gòu)的制備技術(shù)都可以用來制備母板,一般通過光刻制得,母板制備完成后,就可以通過復(fù)制來制作聚合物印章。聚合物印章的材料較多選用PDMS,在一些情況下也會用某些其他高分子,如聚氨基甲酸乙酷,聚酞亞胺。一旦母板制備完成,聚合物印章就能夠多次從母板復(fù)制而來,而每個彈性體印章或模具又可以在制備圖形結(jié)構(gòu)時應(yīng)用很多次,并且適用于不同材料不同化學(xué)性質(zhì)的表面,還可以在非平面上加工微圖案。
根據(jù)第二步中的圖形轉(zhuǎn)移方式的不同,可以分為:微接觸印刷(μCP)、復(fù)制模鑄(REM)、微轉(zhuǎn)移模鑄(μTM)、微毛細模鑄(MIMIC)等。雖然軟印刷技術(shù)中使用的聚合物印章或模具使其具有獨特的性能,但聚合物印章或模具同樣存在諸多問題,聚合物印章因其低彈性模量和柔性,導(dǎo)致其表面圖形結(jié)構(gòu)在重力或表面張力發(fā)生變形、粘結(jié)或塌陷等,最終影響圖形分辨率和精度,而印刷中的墨水分子在表面上的擴散以及與表面之間的相互作用,就會影響圖形質(zhì)量和分辨率。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題,本發(fā)明提供一種制備大軸徑比皺紋模板的方法,解決現(xiàn)有技術(shù)中的問題。
本發(fā)明通過以下的技術(shù)方案予以實現(xiàn):
一種制備大軸徑比皺紋模板的方法,包括以下步驟:
(1)通過拉伸、氧等離子體處理,一步法制備PDMS皺紋模板;
(2)將PDMS皺紋模板在0.01~0.1mol/L的NaOH溶液中浸泡,使PDMS皺紋表面具有充分的親水集團;
(3)將皺紋模板取出干燥,與親水性PDMS基底接觸,在70~80℃下,加熱30~60min,最后揭去皺紋模板,則可以得到大軸徑比的皺紋模板。
所述步驟(1)拉伸、氧等離子體處理是指將PDMS彈性體薄膜拉伸10%,經(jīng)過氧等離子體處理15min,最后緩慢回縮至未拉伸的狀態(tài)。
所述步驟(2)NaOH溶液中浸泡時間為60min。
所述步驟(3)親水性PDMS基底是指將PDMS基底用紫外臭氧處理5min,在PDMS表面形成一定的親水性。
本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明制備方法簡單易行,得到的大軸徑比模板,在沉積顆粒物質(zhì)的時候,能更容易的實現(xiàn)物質(zhì)的附著,更好的應(yīng)用在生物、醫(yī)療等方面。
附圖說明
圖1轉(zhuǎn)移后-PDMS基底上的形貌;
圖2PDMS皺紋模板在轉(zhuǎn)移前的形貌;
圖3PDMS皺紋模板在轉(zhuǎn)移后的形貌;
其中:(a)光學(xué)顯微鏡圖;(b)原子力顯微鏡圖;(c)原子力高度圖。
具體實施方式
下面結(jié)合附圖對本發(fā)明進行詳細說明。
第一步:PDMS皺紋模板的制備
將PDMS預(yù)聚體與交聯(lián)劑按質(zhì)量比為10:1混合,用玻璃棒充分攪拌,倒入特定器皿中。混合好的預(yù)聚合物中有小氣泡,需通過循環(huán)水式多用真空泵來脫氣一段時間。脫氣完成后,將其放入恒溫鼓風(fēng)干燥箱進行固化處理。將制備好的PDMS彈性薄膜,切成5cm*1cm的長方形長條,然后采用拉伸臺,將PDMS彈性體薄膜拉伸10%(5cm~5.5cm),經(jīng)過氧等離子體處理15min,最后緩慢回縮至未拉伸的狀態(tài),切成1cm*1cm的正方形備用。
第二步:PDMS皺紋模板在PDMS基底上的轉(zhuǎn)移
將PDMS基底用紫外臭氧處理5min,這樣能在PDMS表面形成一定的親水性,然后將PDMS皺紋模板放在一定濃度的NaOH溶液中浸泡一段時間后,干燥。
第三步:PDMS皺紋模板在PDMS基底上的轉(zhuǎn)移
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