[發明專利]一種制備大軸徑比皺紋模板的方法在審
| 申請號： | 201410635302.6 | 申請日： | 2014-11-12 |
| 公開（公告）號： | CN104690991A | 公開（公告）日： | 2015-06-10 |
| 發明（設計）人： | 魯從華;田闖 | 申請（專利權）人： | 天津大學 |
| 主分類號： | B29D7/01 | 分類號： | B29D7/01 |
| 代理公司： | 天津市北洋有限責任專利代理事務所 12201 | 代理人： | 宋潔瑾 |
| 地址： | 300072*** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 制備 大軸徑 皺紋 模板 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種制備大軸徑比皺紋模板的方法，其特征在于，包括以下步驟：
(1)通過拉伸、氧等離子體處理，一步法制備PDMS皺紋模板；
(2)將PDMS皺紋模板在0.01～0.1mol/L的NaOH溶液中浸泡，使PDMS皺紋表面具有充分的親水集團；
(3)將皺紋模板取出干燥，與親水性PDMS基底接觸，在70～80℃下，加熱30～60min，最后揭去皺紋模板，則可以得到大軸徑比的皺紋模板。
2.根據權利要求1所述制備大軸徑比皺紋模板的方法，其特征在于，所述步驟(1)拉伸、氧等離子體處理是指將PDMS彈性體薄膜拉伸10％，經過氧等離子體處理15min，最后緩慢回縮至未拉伸的狀態。
3.根據權利要求1所述制備大軸徑比皺紋模板的方法，其特征在于，所述步驟(2)NaOH溶液中浸泡時間為60min。
4.根據權利要求1所述制備大軸徑比皺紋模板的方法，其特征在于，所述步驟(3)親水性PDMS基底是指將PDMS基底用紫外臭氧處理5min，在PDMS表面形成一定的親水性。
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