[發明專利]一種ITO靶材的陰極座優化方法有效
| 申請號： | 201410633574.2 | 申請日： | 2014-11-12 |
| 公開（公告）號： | CN104404460A | 公開（公告）日： | 2015-03-11 |
| 發明（設計）人： | 陳建湘;陳新文;盧瑋杰;薛仁奎 | 申請（專利權）人： | 永州市新輝開科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 廣東莞信律師事務所 44332 | 代理人： | 吳炳賢 |
| 地址： | 425000 湖南省永州市冷水灘區鳳*** | 國省代碼： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 ito 陰極 優化 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種ITO靶材的陰極座優化方法，其特征在于，包括以下步驟：
（1）、將若干套ITO靶材的陰極座裝在連續式磁控濺射鍍膜線上，每套ITO靶材的陰極座上設置三排磁鐵，其中兩排磁鐵的個數為10片，中間一排磁鐵的個數為9片；
（2）、設置在陰極座兩側的兩排磁鐵與中間一排磁鐵的距離均為75mm～85mm；
（3）、調節ITO靶材的陰極座上的三排磁鐵之間的間距，將陰極座兩側的兩排磁鐵之間的間距縮小為20mm～60mm。
2.根據權利要求1所述的ITO靶材的陰極座優化方法，其特征在于，第（1）步所述陰極座兩側的兩排磁鐵的磁鐵尺寸為50mm×65mm×6mm。
3.根據權利要求1所述的ITO靶材的陰極座優化方法，其特征在于，第（1）步所述中間一排磁鐵的磁鐵尺寸為300mm×50mm×6mm。
4.根據權利要求1所述的ITO靶材的陰極座優化方法，其特征在于，第（1）步所述每套ITO靶材的陰極座重量為7.99kg。
5.根據權利要求1所述的ITO靶材的陰極座優化方法，其特征在于，第（3）步所述陰極座兩側的兩排磁鐵之間的間距為165mm。
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