[發(fā)明專利]冷阱

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410633193.4
• 申請(qǐng)日: 2014-11-11
• 公開（公告）號(hào): CN104667565A
• 公開（公告）日: 2015-06-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 谷津貴裕
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 住友重機(jī)械工業(yè)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): B01D8/00
• 分類號(hào): B01D8/00
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利代理有限公司 44202
• 代理人: 溫旭;郝傳鑫

本申請(qǐng)主張基于2013年12月2日申請(qǐng)的日本專利申請(qǐng)第2013-249351號(hào)的優(yōu)先權(quán)。該日本申請(qǐng)的全部?jī)?nèi)容通過參考援用于本說明書中。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種冷阱。

背景技術(shù)

冷阱中存在一種配設(shè)于真空容器與真空泵之間的被稱為直線型的形式。在連接真空容器排氣口與真空泵吸氣口的排氣流路配置有冷板。真空泵例如為渦輪分子泵。在直線型冷阱與渦輪分子泵一同使用時(shí)，冷阱主要用于排出水蒸氣。

專利文獻(xiàn)1：日本特開2009-262083號(hào)公報(bào)

擴(kuò)大冷板的面積是為了提高冷阱的排氣速度的一種方法。然而此時(shí)，由于排氣流路的一部分被冷板占據(jù)，因此排氣流路的截面積縮小，從而排氣流路的傳導(dǎo)率變小。這種現(xiàn)象在具有如擋板或穿孔板等平面冷板的薄型冷阱中尤其顯著。若排氣流路的傳導(dǎo)率變小，則下游的真空泵(例如渦輪分子泵)的排氣速度降低。即，在具有直線型冷阱的典型的真空排氣系統(tǒng)中，冷阱的排氣速度與真空泵的排氣速度之間存在此消彼長(zhǎng)的關(guān)系。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的一種實(shí)施方式的例示性的目的之一在于抑制排氣流路的傳導(dǎo)率的下降并提高冷阱的排氣速度。

根據(jù)本發(fā)明的一種實(shí)施方式，提供一種配設(shè)于真空容器與用于該真空容器的真空泵之間的冷阱。冷阱具備：冷板及冷板容器，所述冷板容器在排氣流路中包圍所述冷板，所述排氣流路從所述真空容器的排氣口延伸至所述真空泵的吸氣口。所述冷板在所述冷板容器的外部具備擴(kuò)張部分。所述擴(kuò)張部分配置于所述真空容器內(nèi)。

根據(jù)本發(fā)明的一種實(shí)施方式，提供一種配設(shè)于真空容器與用于該真空容器的真空泵之間的冷阱。冷阱具備：冷板，所述冷板具備冷板基部，所述冷板基部配置于從所述真空容器的排氣口延伸至所述真空泵的吸氣口的排氣流路；及冷板容器，所述冷板容器具備入口部，所述入口部用于將所述排氣流路連接于所述真空容器的排氣口。所述冷板基部具備延長(zhǎng)部分，所述延長(zhǎng)部分超過所述入口部向所述冷板容器的外部延伸。

另外，將以上構(gòu)成要件的任意組合、本發(fā)明的構(gòu)成要件和表現(xiàn)，在方法、裝置及系統(tǒng)等之間進(jìn)行相互替換，也作為本發(fā)明的方式而有效。

根據(jù)本發(fā)明，能夠抑制排氣流路的傳導(dǎo)率的下降，并且能夠提高冷阱的排氣速度。

附圖說明

圖1是概略地表示本發(fā)明的一種實(shí)施方式所涉及的真空排氣系統(tǒng)的剖視圖。

圖2是概略地表示本發(fā)明的一種實(shí)施方式所涉及的冷阱的立體圖。

圖3是概略地表示本發(fā)明的一種實(shí)施方式所涉及的冷阱的一部分的組裝圖。

圖4是概略地表示本發(fā)明的另一種實(shí)施方式所涉及的真空排氣系統(tǒng)的剖視圖。

圖中：1-真空排氣系統(tǒng)，10-冷阱，12-真空容器，14-渦輪分子泵，15-壁部，18-排氣流路，19-閘閥，24-冷板，26-冷板容器，30-排氣口，31-吸氣口，32-冷板基部，33-延長(zhǎng)部分，34-擴(kuò)張板，46-支承部件。

具體實(shí)施方式

以下，參考附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說明。另外，說明中，對(duì)相同要件標(biāo)注相同符號(hào)，并適當(dāng)省略重復(fù)說明。并且，以下所述的結(jié)構(gòu)為例示，對(duì)本發(fā)明的范圍不做任何限定。

圖1是概略地表示本發(fā)明的一種實(shí)施方式所涉及的真空排氣系統(tǒng)1的剖視圖。圖2是概略地表示本發(fā)明的一種實(shí)施方式所涉及的冷阱10的立體圖。圖3是概略地表示本發(fā)明的一種實(shí)施方式所涉及的冷阱10的一部分的組裝圖。

如圖1所示，真空排氣系統(tǒng)1具備：冷阱10、及用于對(duì)排氣對(duì)象容積(例如真空處理裝置的真空容器12)進(jìn)行排氣的主真空泵(例如渦輪分子泵14)。主真空泵是用于排氣至高真空區(qū)域的高真空泵。主真空泵設(shè)于冷阱10的后段。另外，主真空泵也可以為擴(kuò)散泵。

真空排氣系統(tǒng)1除了具備主真空泵以外，還具備用于對(duì)真空容器12進(jìn)行粗抽的輔助泵16。輔助泵16設(shè)于主真空泵的后段。輔助泵16例如為干式真空泵。

渦輪分子泵14經(jīng)由排氣流路18連接于真空容器12。冷阱10配置于真空容器12與渦輪分子泵14之間。冷阱10為所謂的直線型冷阱。冷阱10例如配置于渦輪分子泵14的鉛垂方向上方。

排氣流路18為用于使氣體從真空容器12流向渦輪分子泵14的空間。因此，排氣流路18具有真空容器12一側(cè)的入口開口20與渦輪分子泵14一側(cè)的出口開口22。應(yīng)排出的氣體從真空容器12通過入口開口20進(jìn)入到排氣流路18，再經(jīng)出口開口22流向渦輪分子泵14。