[發明專利]一種高分子材料的評價方法

在審

• 申請號: 201410625107.5
• 申請日: 2014-11-06
• 公開（公告）號: CN104345072A
• 公開（公告）日: 2015-02-11
• 發明（設計）人: 王舉;孫益民;芮定文
• 申請（專利權）人: 安徽瑞研新材料技術研究院有限公司
• 主分類號: G01N23/22
• 分類號: G01N23/22
• 代理公司: 溫州市品創專利商標代理事務所(普通合伙) 33247
• 代理人: 程春生

1.一種高分子材料的評價方法，所述高分子材料包含高分子化合物和填料，至少所述高分子材料的上表面為平坦的表面，所述方法包括,使用聚焦離子束沿相對于所述高分子材料的上表面為1至80°角的方向切割所述高分子材料的上表面；然后沿垂直于通過所述切割形成的所述高分子材料的平滑表面的方向拍攝所述平滑表面。

2.根據權利要求1所述的高分子材料的評價方法，其中所述高分子材料的所述平滑表面使用掃描電子顯微鏡來拍攝。

3.根據權利要求1所述的高分子材料的評價方法，其中所述填料為選自由二氧化硅、炭黑和由下式表示的無機化合物組成的組的至少一種：mM·xSiOy·zH2O(I)(其中M為選自金屬、所述金屬的氧化物或氫氧化物和它們的水合物、或所述金屬的碳酸鹽的至少一種，所述金屬選自由鋁、鎂、鈦、鈣和鋯組成的組；且m、x、y和z分別為1至10的整數、0至15的整數、2至10的整數和0至20的整數)。

4.根據權利要求2所述的高分子材料的評價方法，其中所述填料為選自由二氧化硅、炭黑和由下式表示的無機化合物組成的組的至少一種：mM·xSiOy·zH₂O(I)(其中M為選自金屬、所述金屬的氧化物或氫氧化物和它們的水合物、或所述金屬的碳酸鹽的至少一種，所述金屬選自由鋁、鎂、鈦、鈣和鋯組成的組；且m、x、y和z分別為1至10的整數、0至15的整數、2至10的整數和0至20的整數)。

5.根據權利要求1所述的高分子材料的評價方法，其中將通過拍攝所述高分子材料的所述平滑表面獲得的圖像轉化為高分子化合物部分和填料部分的二值化圖像，并基于獲得的二值化圖像評價所述高分子材料中的所述填料的分散狀態。