[發明專利]利用平面共軛酞菁卟啉二聯體配合物進行微接觸印刷的方法有效
| 申請號: | 201410619422.7 | 申請日: | 2014-11-05 |
| 公開(公告)號: | CN104387836A | 公開(公告)日: | 2015-03-04 |
| 發明(設計)人: | 蘇煒;李培源;楊芳 | 申請(專利權)人: | 廣西師范學院 |
| 主分類號: | C09D11/02 | 分類號: | C09D11/02;B41M5/04;C08J7/06 |
| 代理公司: | 北京遠大卓悅知識產權代理事務所(普通合伙) 11369 | 代理人: | 靳浩 |
| 地址: | 530001 廣西壯族自*** | 國省代碼: | 廣西;45 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 利用 平面 共軛 卟啉 二聯體 配合 進行 接觸 印刷 方法 | ||
技術領域
本發明屬于現代電子技術領域,特別涉及一種平面共軛酞菁卟啉二聯體配合物作為綠色環保墨水在微接觸印刷中的應用。?
背景技術
表面微構建技術正逐漸體現出在重要應用價值,特別是微接觸印刷技術,其能夠在小尺寸上微圖案化,在多個領域特別是現代電子技術領域具有重要意義。目前可供選擇的微接觸印刷墨水較少,也局限了表面可進行微接觸印刷的材料,大量的材料無法用微接觸印刷的方法制備表面圖案。因而開發新的、穩定的的墨水具有很大的意義。?
為進一步豐富微接觸印刷墨水和基底的選擇,并且提升微接觸印刷質量,有必要進一步開發金屬卟啉、酞菁配合物在微接觸印刷中的應用。平面共軛酞菁卟啉二聯體配合物性能穩定,成膜質量高,可以作為一種穩定的墨水應用于多種材料表面的微接觸印刷。目前平面共軛酞菁卟啉二聯體配合物作為微接觸印刷墨水的應用未見報道。?
發明內容
本發明的目的是提供平面共軛酞菁卟啉二聯體配合物作為一種新的墨水在聚甲基丙烯酸甲酯基底上進行微接觸印刷的應用。本發明提供的技術方案為:該平面共軛酞菁卟啉二聯體配合物為5,10,15,20-對氯苯基卟啉鋅并六丁氧基酞菁鋅,具有以下結構式:?
將5,10,15,20-對氯苯基卟啉鋅并六丁氧基酞菁鋅的二氯甲烷溶液作為微接觸印刷的印刷劑,將PDMS印章的圖案轉移至聚甲基丙烯酸甲酯基底,再吸附還原銅在基底上得到精美的金屬圖案;?
具體步驟如下:?
步驟1、基底材料為聚甲基丙烯酸甲酯,將基底材料用乙醇超聲清洗1小時,取出在80℃條件下真空干燥,再用60Co伽瑪射線對其進行照射150-180h,將照射后的基底與丙烯酸的水溶液混合,在80℃條件下反應1小時;?
步驟2、將5,10,15,20-對氯苯基卟啉鋅并六丁氧基酞菁鋅用二氯甲烷溶解,得到5,10,15,20-對氯苯基卟啉鋅并六丁氧基酞菁鋅二氯甲烷溶液;?
步驟3、將PDMS印章浸泡于5,10,15,20-對氯苯基卟啉鋅并六丁氧基酞菁鋅二氯甲烷溶液中1-2分鐘,取出后于N2氣流中干燥30-60s,將涂有5,10,15,20-對氯苯基卟啉鋅并六丁氧基酞菁鋅二氯甲烷溶液的PDMS印章蓋于羧基化基底上,輕壓10-20s,將PDMS印章圖案轉移至基底表面,得到印有圖案的基底;?
步驟4、將印有圖案的基底浸泡于0.5g/L硫酸銅中1-5分鐘,取出后放于二甲胺硼烷溶液中浸泡10-30min。取出后即可在基底上得到精美的金屬銅圖案。?
其中,所述60Co伽瑪射線的照射強度為100-150KGy。?
其中,所述照射后的基底與丙烯酸的重量比為100∶1。?
其中,所述硫酸銅濃度為0.5g/L。?
其中,所述二甲胺硼烷濃度為29g/L。?
本發明的有益效果為:?
1、通過將5,10,15,20-對氯苯基卟啉鋅并六丁氧基酞菁鋅二氯甲烷溶液作為微接觸印刷墨水在電子行業常用的聚甲基丙烯酸甲酯基底表面制備金屬圖案,為微接觸印刷行業提供了新思路。?
2、通過聚合反應在基底表面引入丙烯酸聚合物,與通過水解反應得到的羧基化表面相比,其具有的大量羧基可以吸附結合更多的酞菁卟啉二聯體配合物,為下一步吸附還原Cu的反應提供更多的位點,得到結合更緊密的Cu金屬線路。且通過改變聚合反應的參數,可以調整引入的丙烯酸單元數量,因此可以很容易地根據產物要求對參數進行調整。?
3、相對于單一金屬酞菁、卟啉配合物,5,10,15,20-對氯苯基卟啉鋅并六丁氧基酞菁鋅具有一些特殊性質,其結構中的酞菁配合物和卟啉配合物都在同一平面上,形成由酞菁和卟啉組成的更大的共軛體系,其π-π鍵作用更強,所以在成膜時具有很強的穩定性。同時,可反應的位點更多,可以根據需要引入新的基團調節其物理化學性能。?
4、5,10,15,20-對氯苯基卟啉鋅并六丁氧基酞菁鋅二氯甲烷溶液原料易得、成本低、穩定,在工業應用上具有很大的潛力。?
具體實施方式
下面結合實施例對本發明作進一步描述,以令本領域技術人員參照說明書文字能夠據以實施。?
實施例1:?
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