[發明專利]利用平面共軛酞菁卟啉二聯體配合物進行微接觸印刷的方法

有效

• 申請號: 201410619422.7
• 申請日: 2014-11-05
• 公開（公告）號: CN104387836A
• 公開（公告）日: 2015-03-04
• 發明（設計）人: 蘇煒;李培源;楊芳
• 申請（專利權）人: 廣西師范學院
• 主分類號: C09D11/02
• 分類號: C09D11/02;B41M5/04;C08J7/06
• 代理公司: 北京遠大卓悅知識產權代理事務所(普通合伙) 11369
• 代理人: 靳浩

1.利用平面共軛酞菁卟啉二聯體配合物進行微接觸印刷的方法，其特征在于：

該平面共軛酞菁卟啉二聯體配合物為5，10，15，20-對氯苯基卟啉鋅并六丁氧基酞菁鋅，具有以下結構式：

將5，10，15，20-對氯苯基卟啉鋅并六丁氧基酞菁鋅的二氯甲烷溶液作為微接觸印刷的印刷劑，將PDMS印章的圖案轉移至聚甲基丙烯酸甲酯基底，再吸附還原銅在基底上得到精美的金屬圖案；

具體步驟如下：

步驟1、基底材料為聚甲基丙烯酸甲酯，將基底材料用乙醇超聲清洗1小時，取出在80℃條件下真空干燥，再用⁶⁰Co伽瑪射線對其進行照射150-180h，將照射后的基底與丙烯酸的水溶液混合，在80℃條件下反應1小時；

步驟2、將5，10，15，20-對氯苯基卟啉鋅并六丁氧基酞菁鋅用二氯甲烷溶解，得到5，10，15，20-對氯苯基卟啉鋅并六丁氧基酞菁鋅二氯甲烷溶液；

步驟3、將PDMS印章浸泡于5，10，15，20-對氯苯基卟啉鋅并六丁氧基酞菁鋅二氯甲烷溶液中1-2分鐘，取出后于N₂氣流中干燥30-60s，將涂有5，10，15，20-對氯苯基卟啉鋅并六丁氧基酞菁鋅二氯甲烷溶液的PDMS印章蓋于羧基化基底上，輕壓10-20s，將PDMS印章圖案轉移至基底表面，得到印有圖案的基底；

步驟4、將印有圖案的基底浸泡于0.5g/L硫酸銅中1-5分鐘，取出后放于二甲胺硼烷溶液中浸泡10-30min。取出后即可在基底上得到精美的金屬銅圖案。

2.如權利要求1所述的利用平面共軛酞菁卟啉二聯體配合物進行微接觸印刷的方法，其特征在于：所述⁶⁰Co伽瑪射線的照射強度為100-150KGy。

3.如權利要求1所述的利用平面共軛酞菁卟啉二聯體配合物進行微接觸印刷的方法，其特征在于：所述照射后的基底與丙烯酸的重量比為100∶1。

4.如權利要求1所述的利用平面共軛酞菁卟啉二聯體配合物進行微接觸印刷的方法，其特征在于：所述硫酸銅濃度為0.5g/L。

5.如權利要求1所述的利用平面共軛酞菁卟啉二聯體配合物進行微接觸印刷的方法，其特征在于：所述二甲胺硼烷濃度為29g/L。