[發(fā)明專利]一種銅鋅錫硫硒(CZTSSe)薄膜的制備工藝在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410618905.5 | 申請日: | 2014-11-06 |
| 公開(公告)號: | CN105576076A | 公開(公告)日: | 2016-05-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳玉梅 | 申請(專利權(quán))人: | 陳玉梅 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 110179 遼寧省沈陽市渾南新*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 銅鋅錫硫硒 cztsse 薄膜 制備 工藝 | ||
1.一種銅鋅錫硫硒(CZTSSe)薄膜的制備工藝,其特征在于包括如下步驟:
(1)先在反應(yīng)容器中充入一定的惰性氣體,使反應(yīng)容器保持一定的氣壓,然后開始升溫;
(2)在280℃下反應(yīng)1h,之后經(jīng)離心洗滌,將納米顆粒從反應(yīng)溶液中分離出來,在惰性環(huán)境下,烘干,分別得到兩種不同條件下的納米顆粒;
(3)將制得的CZTS納米晶粒溶于一定量的己硫醇中制成納米漿溶液,采用滴涂的方法在鈉鈣玻璃襯底上制得CZTS薄膜,并進(jìn)行硒化退火處理得到CZTSSe薄膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種銅鋅錫硫硒(CZTSSe)薄膜的制備工藝,其特征在于:所述步驟(2)中的烘干時間為2h。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種銅鋅錫硫硒(CZTSSe)薄膜的制備工藝,其特征在于:所述步驟(3)中的硒化退火處理是分別在溫度為350℃、400℃、450℃、500℃、550℃下進(jìn)行的。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
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