[發明專利]一種掩模板有效
| 申請號: | 201410610138.3 | 申請日: | 2014-10-31 |
| 公開(公告)號: | CN104280942B | 公開(公告)日: | 2017-07-04 |
| 發明(設計)人: | 柴國衛;冷榮軍;孟祥明;胡瑾;羅祝義;張磊 | 申請(專利權)人: | 合肥京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1339 | 分類號: | G02F1/1339 |
| 代理公司: | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司11112 | 代理人: | 彭瑞欣,陳源 |
| 地址: | 230012 安徽*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 模板 | ||
技術領域
本發明涉及液晶顯示器制造技術領域,具體地,涉及一種掩模板。
背景技術
在液晶顯示器的彩膜基板(Color Filter)/陣列基板(TFT基板)的制造工藝中,隔墊物(Photo Spacer)作為陣列基板(TFT基板)與彩膜基板(CF)之間間隙(Gap)的支撐物,其在由陣列基板和彩膜基板對盒而成的顯示面板面內的均一性分布對液晶顯示器的品質有著至關重要的影響。
隔墊物的制作工藝主要是通過涂布->曝光->顯影->后烘的工藝來完成的,其中在涂布工藝中,首先會在完成其他各膜層制備的玻璃基板上涂布一層用于形成隔墊物的隔墊物膜層2。由于現有的彩膜基板/陣列基板通常在靠近其四周邊緣區域的膜層設置較少。例如:彩膜基板在靠近其四周邊緣區域僅設置有黑矩陣6,而在其中心區域除了設置有黑矩陣6,還設置有像素層7等其他膜層,這使得彩膜基板靠近四周邊緣區域的膜厚偏低。因此在隔墊物膜層2涂布完成后,靠近彩膜基板的四周邊緣區域的膜厚依然偏低。而現有的掩模板8上用于形成隔墊物4的圖形9大小形狀都是一樣的(如圖1所示)。
上述兩方面原因會直接導致經過曝光顯影形成的位于彩膜基板四周邊緣區域的隔墊物4比位于彩膜基板中心區域的隔墊物4的高度偏低(如圖2所示),從而造成顯示面板四周邊緣區域的間隙與中心區域的間隙不均一,進而導致了如液晶顯示面板四周發黑或者液晶顯示面板四周邊緣出現氣泡(Bubble)等的不良品質問題,嚴重影響液晶顯示器的顯示質量。
發明內容
本發明針對現有技術中存在的上述技術問題,提供一種掩模板。該掩模板能夠有效改善對應隔墊物膜層厚度較薄區域的隔墊物高度偏低的情況,從而提高了玻璃基板上隔墊物高度的均一性,進而使該形成有隔墊物的玻璃基板與其他玻璃基板對盒后形成的液晶顯示面板的用于容置液晶的間隙變得均一,不會再出現局部發黑或者局部氣泡等的不良品質問題,改善了液晶顯示面板的品質。
本發明提供一種掩模板,用于輔助對形成在玻璃基板上的厚度不同的隔墊物膜層進行曝光,以形成隔墊物的圖形,包括掩?;澹鲅谀;迳显O置有漸變透光結構,所述漸變透光結構能使形成在所述玻璃基板上的隔墊物的高度相同。
優選地,所述漸變透光結構包括多個透光面積不同的透光圖形,所述透光圖形用于形成所述隔墊物的圖形;
所述掩模基板劃分為第一區域、第二區域和第三區域,所述第一區域為所述掩?;宓乃闹苓吘墔^域,所述第三區域為所述掩?;宓闹行膮^域,所述第二區域為所述第一區域和所述第三區域之間的區域;所述隔墊物膜層的對應所述第一區域、所述第二區域和所述第三區域的膜層厚度依次增大;
分布在所述第一區域、所述第二區域和所述第三區域的所述透光圖形的透光面積依次減小。
優選地,所述隔墊物膜層的對應所述第一區域、所述第二區域和所述第三區域的膜層厚度依次線性增大;
分布在所述第一區域、所述第二區域和所述第三區域的所述透光圖形的透光面積依次線性減小。
優選地,所述第一區域、所述第二區域和所述第三區域內均分別分布有多個所述透光圖形;沿從所述第一區域至所述第三區域的方向,所述隔墊物膜層的對應所述第一區域的膜層厚度依次線性增大;所述隔墊物膜層的對應所述第二區域的膜層厚度依次線性增大;所述隔墊物膜層的對應所述第三區域的膜層厚度相同;
分布在所述第一區域內的多個所述透光圖形的透光面積依次線性減小;分布在所述第二區域內的多個所述透光圖形的透光面積依次線性減??;分布在所述第三區域內的多個所述透光圖形的透光面積相同。
優選地,所述第一區域、所述第二區域和所述第三區域內均分別分布有多個所述透光圖形;沿從所述第一區域至所述第三區域的方向,所述隔墊物膜層的對應所述第一區域的膜層厚度相同;所述隔墊物膜層的對應所述第二區域的膜層厚度相同;所述隔墊物膜層的對應所述第三區域的膜層厚度相同;
分布在所述第一區域內的多個所述透光圖形的透光面積相同;分布在所述第二區域內的多個所述透光圖形的透光面積相同;分布在所述第三區域內的多個所述透光圖形的透光面積相同。
優選地,所述透光圖形為開設在所述掩?;逯械耐椎拇怪庇谌牍夥较虻臋M截面的圖形,或者,所述透光圖形為設置在所述掩?;迳系耐腹饴氏嗤耐腹怏w的垂直于入光方向的橫截面的圖形。
優選地,所述漸變透光結構包括多個透光率不同的透光圖形,所述透光圖形用于形成所述隔墊物的圖形;
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