[發(fā)明專利]一種掩模板

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410610138.3
• 申請日: 2014-10-31
• 公開（公告）號: CN104280942B
• 公開（公告）日: 2017-07-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 柴國衛(wèi);冷榮軍;孟祥明;胡瑾;羅祝義;張磊
• 申請（專利權(quán)）人: 合肥京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1339
• 分類號: G02F1/1339
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11112
• 代理人: 彭瑞欣,陳源

1.一種掩模板，用于輔助對形成在玻璃基板上的厚度不同的隔墊物膜層進行曝光，以形成隔墊物的圖形，包括掩模基板，其特征在于，所述掩模基板上設(shè)置有漸變透光結(jié)構(gòu)，所述漸變透光結(jié)構(gòu)能使形成在所述玻璃基板上的隔墊物的高度相同；

所述隔墊物膜層采用負性光刻膠材質(zhì)；所述漸變透光結(jié)構(gòu)包括多個透光面積不同的透光圖形，所述透光圖形用于形成所述隔墊物的圖形；

所述掩模基板劃分為第一區(qū)域、第二區(qū)域和第三區(qū)域，所述第一區(qū)域為所述掩模基板的四周邊緣區(qū)域，所述第三區(qū)域為所述掩模基板的中心區(qū)域，所述第二區(qū)域為所述第一區(qū)域和所述第三區(qū)域之間的區(qū)域；所述隔墊物膜層的對應所述第一區(qū)域、所述第二區(qū)域和所述第三區(qū)域的膜層厚度依次增大；

分布在所述第一區(qū)域、所述第二區(qū)域和所述第三區(qū)域的所述透光圖形的透光面積依次減小；

所述隔墊物膜層的對應所述第一區(qū)域、所述第二區(qū)域和所述第三區(qū)域的膜層厚度依次線性增大；

分布在所述第一區(qū)域、所述第二區(qū)域和所述第三區(qū)域的所述透光圖形的透光面積依次線性減小；

所述第一區(qū)域、所述第二區(qū)域和所述第三區(qū)域內(nèi)均分別分布有多個所述透光圖形；沿從所述第一區(qū)域至所述第三區(qū)域的方向，所述隔墊物膜層的對應所述第一區(qū)域的膜層厚度依次線性增大；所述隔墊物膜層的對應所述第二區(qū)域的膜層厚度依次線性增大；所述隔墊物膜層的對應所述第三區(qū)域的膜層厚度相同；

分布在所述第一區(qū)域內(nèi)的多個所述透光圖形的透光面積依次線性減小；分布在所述第二區(qū)域內(nèi)的多個所述透光圖形的透光面積依次線性減小；分布在所述第三區(qū)域內(nèi)的多個所述透光圖形的透光面積相同。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述透光圖形為開設(shè)在所述掩模基板中的通孔的垂直于入光方向的橫截面的圖形，或者，所述透光圖形為設(shè)置在所述掩模基板上的透光率相同的透光體的垂直于入光方向的橫截面的圖形。

3.根據(jù)權(quán)利要求1-2任意一項所述的掩模板，其特征在于，所述透光圖形的形狀為圓形、三角形、正五邊形或正六邊形。