[發明專利]一種生產表面自清潔瓷磚的方法及裝置

有效

• 申請號: 201410603783.2
• 申請日: 2014-10-30
• 公開（公告）號: CN104446667A
• 公開（公告）日: 2015-03-25
• 發明（設計）人: 冷中成;王強;黃永倫;李川;張惠
• 申請（專利權）人: 四川省達州質量技術監督檢驗測試中心;冷中成
• 主分類號: C04B41/89
• 分類號: C04B41/89
• 代理公司: 北京同恒源知識產權代理有限公司 11275
• 代理人: 趙榮之

1.一種生產表面自清潔瓷磚的方法，其特征在于：包括浸漬鍍膜，水刀鍍膜和輥道窯燒結步驟；瓷磚經過浸漬鍍膜并干燥，在表面形成溶膠-凝膠薄膜I，然后經水刀鍍膜并干燥，在溶膠-凝膠薄膜I上形成溶膠-凝膠薄膜II，最后經過輥道窯燒結后在瓷磚表面形成納米自清潔薄膜。

2.根據權利要求1所述生產表面自清潔瓷磚的方法，其特征在于：所述浸漬鍍膜和/或水刀鍍膜步驟所用鍍膜液為納米二氧化鈦溶膠液。

3.根據權利要求1所述生產表面自清潔瓷磚的方法，其特征在于：所述浸漬鍍膜工序中浸漬鍍膜時間為10～15秒，斜面提拉速度為120～180cm/min，干燥溫度為70-90℃，干燥時間為10～15秒。

4.根據權利要求1所述生產表面自清潔瓷磚的方法，其特征在于：所述水刀鍍膜步驟鍍膜時間為20～30秒。

5.根據權利要求1所述生產表面自清潔瓷磚的方法，其特征在于：所述輥道窯燒步驟分預燒結、燒成和冷卻階段；其中：預燒結階段燒結溫度為260～280℃，預燒時間為35～45min；燒成階段燒結溫度460～480℃，燒結時間180～200min；冷卻階段采用隨爐冷卻，冷卻時間為150～160min。

6.根據權利要求1所述生產表面自清潔瓷磚的方法，其特征在于：所述溶膠-凝膠薄膜I的厚度為4-6nm，所述溶膠-凝膠薄膜II的厚度為4-6nm。

7.根據權利要求1所述生產表面自清潔瓷磚的方法，其特征在于：所述浸漬鍍膜和/或水刀鍍膜次數為一次或多次，薄膜總厚度10～50nm。

8.一種生產表面自清潔瓷磚的裝置，其特征在于：包括進樣平臺，浸漬鍍膜儀，干燥裝置，水刀鍍膜儀，輥道窯和出料平臺；瓷磚由進樣平臺進入浸漬鍍膜儀，然后進入干燥裝置干燥，接著進入水刀鍍膜儀鍍膜并干燥，最后進入輥道窯將鍍膜層燒制成納米自清潔薄膜。