[發明專利]切削裝置以及切削方法有效
| 申請號: | 201410601820.6 | 申請日: | 2014-10-31 |
| 公開(公告)號: | CN104616972B | 公開(公告)日: | 2019-11-29 |
| 發明(設計)人: | 板谷悠矢;石合由樹 | 申請(專利權)人: | 株式會社迪思科 |
| 主分類號: | H01L21/02 | 分類號: | H01L21/02;H01L21/304 |
| 代理公司: | 11127 北京三友知識產權代理有限公司 | 代理人: | 李輝;金玲<國際申請>=<國際公布>=< |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 切削 裝置 以及 方法 | ||
1.一種切削裝置,其對被加工物進行切削,
該切削裝置的特征在于,具有:
保持構件,其保持被加工物;
切削構件,其具有切削刀和主軸,其中,該切削刀對被該保持構件保持的被加工物進行切削,該主軸使該切削刀進行旋轉;
刀罩,其收容該切削刀;
切削水供給構件,其向該切削刀供給切削水;以及
清洗流體噴射構件,其向該切削刀噴射由氣體與液體的混合流體構成的清洗流體,該清洗流體用于去除附著于該切削刀上的切削屑,從而能夠防止切削屑的附著導致的切削性能的降低,
該清洗流體噴射構件設置于該刀罩的中央上部,向與該切削刀的旋轉方向大致相反的噴射方向噴射該清洗流體。
2.一種切削方法,通過權利要求1所述的切削裝置對被加工物進行切削,該切削方法的特征在于,具有:
保持步驟,通過保持構件保持被加工物;以及
切削步驟,在實施了該保持步驟之后,通過該主軸使該切削刀進行旋轉,并且通過該切削水供給構件向該切削刀供給切削水,同時通過該切削刀對被該保持構件保持的被加工物進行切削,
在實施該切削步驟的過程中,向該切削刀噴射該清洗流體,去除附著于該切削刀上的異物。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





