[發(fā)明專利]吸嘴結構以及吸附方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410601627.2 | 申請日: | 2014-10-31 |
| 公開(公告)號: | CN104942817A | 公開(公告)日: | 2015-09-30 |
| 發(fā)明(設計)人: | 中原勇雄 | 申請(專利權)人: | 亞企睦自動設備有限公司 |
| 主分類號: | B25J15/06 | 分類號: | B25J15/06 |
| 代理公司: | 隆天知識產(chǎn)權代理有限公司 72003 | 代理人: | 宋曉寶;向勇 |
| 地址: | 日本埼玉*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 結構 以及 吸附 方法 | ||
1.一種吸嘴結構,通過吸引氣體以產(chǎn)生負壓,借助該負壓吸附部件,然后,噴出氣體以解除對所述部件的吸附,其特征在于,
具有:
基端通道,引導吸引或噴出的氣體;
中心通道,使所述基端通道與中心開口相連接,將吸引的氣體從所述中心開口引導至所述基端通道,所述中心開口與所述部件的大致中心相對;
周圍通道,使所述基端通道與位于所述中心開口的周圍的周圍開口相連接,將吸引的氣體從所述周圍開口引導至所述基端通道,另一方面,將噴出的氣體從所述基端通道引導至所述周圍開口;
閥,設置于所述基端通道與所述中心通道之間的連接部分,在吸引氣體時使所述基端通道與所述中心通道相互連接,允許從所述中心開口吸引氣體,另一方面,在噴出氣體時,使所述基端通道與所述中心通道相互斷開,拒絕從所述中心開口噴出氣體。
2.如權利要求1所述的吸嘴結構,其特征在于,所述閥借助吸引或噴出的氣體的壓力進行動作。
3.如權利要求2所述的吸嘴結構,其特征在于,所述閥具有承受吸引或噴出的氣體的壓力的受壓面。
4.如權利要求1~3中任一項所述的吸嘴結構,其特征在于,
該吸嘴結構具有與所述部件相抵接的環(huán)狀的凸部,
所述周圍開口配置于所述凸部的頂端,并且,所述中心開口配置于由所述凸部圍成的內部空間中的離開所述部件的位置,
通過經(jīng)由所述中心開口吸引所述內部空間的氣體,在該內部空間內產(chǎn)生負壓。
5.如權利要求1~4中任一項所述的吸嘴結構,其特征在于,該吸嘴結構具有突起,在噴出氣體時,所述突起處于相對于所述中心開口或所述周圍開口所在的頂端部突出的狀態(tài),另一方面,在吸引氣體時,所述突起處于相對于所述中心開口或所述周圍開口所在的頂端部退避的狀態(tài)。
6.如權利要求5所述的吸嘴結構,其特征在于,所述突起借助吸引或噴出的氣體的壓力進行動作。
7.一種吸附方法,使用權利要求1~6中任一項所述的吸嘴結構,其特征在于,
通過從所述中心開口和所述周圍開口吸引氣體以產(chǎn)生負壓,借助該負壓吸附所述部件,另一方面,從所述周圍開口噴出氣體以解除對所述部件的吸附。
8.如權利要求7所述的吸附方法,其特征在于,
在解除對所述部件的吸附時,執(zhí)行如下步驟:
噴出步驟,從所述周圍開口噴出氣體;
負壓消除步驟,與所述噴出步驟同時或在所述噴出步驟之后,使所述吸嘴以規(guī)定的速度上升,來消除在所述中心通道中殘留的負壓;
吸嘴退避步驟,在所述負壓消除步驟之后,使所述吸嘴暫時停止之后再次上升,或者,使所述吸嘴以比所述規(guī)定的速度更快的高速上升,來使所述吸嘴退避。
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