[發(fā)明專利]蒸鍍屏蔽有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410598749.0 | 申請日： | 2014-10-30 |
| 公開（公告）號： | CN104278233A | 公開（公告）日： | 2015-01-14 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 陳冠吉;林子傑;郭雅佩;陳之磊 | 申請（專利權(quán)）人： | 友達(dá)光電股份有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/04 | 分類號： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京律誠同業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006 | 代理人： | 梁揮;李巖 |
| 地址： | 中國臺灣新竹科*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 屏蔽 | ||
1.一種蒸鍍屏蔽，供使用于具有一蒸鍍源的蒸鍍制程中，其特征在于，包含：
一第一本體，具有一第一疊合區(qū)；其中，該第一疊合區(qū)上形成有多個(gè)第一穿孔；以及
一第二本體，與該第一本體不同方向延伸，并具有一第二疊合區(qū)；其中，該第二疊合區(qū)上形成有多個(gè)第二穿孔；
其中，該第一疊合區(qū)與該第二疊合區(qū)疊合，且該第一穿孔在該第二疊合區(qū)上的投影范圍均在該第二穿孔的范圍外。
2.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍屏蔽，其特征在于，該第一穿孔在該第二疊合區(qū)上的投影范圍夾于相鄰二該第二穿孔之間。
3.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍屏蔽，其特征在于，該第一疊合區(qū)及該第二疊合區(qū)間夾有一間隙，該間隙分別連通該第一穿孔及該第二穿孔。
4.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍屏蔽，其特征在于，該第一穿孔及該第二穿孔中至少其一為圓形。
5.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍屏蔽，其特征在于，該第一本體較該第二本體接近該蒸鍍源，該第一穿孔的開口面積小于該第二穿孔的開口面積。
6.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍屏蔽，其特征在于，該些第一穿孔的總開口面積及該些第二穿孔的總開口面積的加總小于該第一疊合區(qū)面積的90％。
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- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
