[發明專利]曝光裝置的調整裝置及調整方法

在審

• 申請號: 201410597382.0
• 申請日: 2014-10-29
• 公開（公告）號: CN105549327A
• 公開（公告）日: 2016-05-04
• 發明（設計）人: 孫晶露
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

技術領域

本發明涉及一種曝光裝置及曝光方法，尤其是涉及一種曝光裝置的調整裝 置及調整方法。

背景技術

平板顯示技術發展較快，尺寸越來越大。如果使用較大視場的物鏡進行曝 光能夠有效地提升產率。然而隨著物鏡光學系統視場的增大，設計及加工制造 等各方面的難度都會增加。使用相同的視場且大小適中的物鏡采用一定排列方 式將多個視場拼接成所需的大視場，根據所需視場大小來選擇拼接的個數，這 樣既實現了大視場要求又降低了光學加工制造難度同時具有很高的兼容性和靈 活性。

由于使用了多個子物鏡進行拼接，每個子物鏡由于自身的性能及裝配公差 等成像位置會與理論位置有偏差。同時由于較大的光罩會因重力產生變形，感 光基板表面也會有面型的誤差。因此為了能夠使每個視場都能夠成像在理想位 置，每個物鏡單元都有獨自的調整裝置來調整成像視場的位置以保證整個拼接 視場的性能。

掃描型曝光裝置有配置多個投影光學系統以使鄰接投影區域在掃描方向進 行所定量位移且使鄰接投影區域的各個端部在與掃描方向直交的方向重復，即 所謂多透鏡方式的掃描型曝光裝置(多透鏡掃描型曝光裝置)。多透鏡方式的 掃描型曝光裝置是由多個狹縫狀的照明區域來照明光罩、在對該照明區域的排 列方向成直交的方向上同步掃描光罩和感光基板、通過與多個照明區域的各個 對應設置的該多個投影光學系統將設于光罩的圖案曝光于感光基板上的裝置。

專利JP2005331694A公開了一種曝光裝置，所述焦面調整功能通過直角反 射鏡或楔形平板組的平移來實現。直角反射鏡平移調整焦面會同時改變最佳物 像面的位置，在焦面調整的同時減小了焦深。楔形平板垂向平移調焦方式改變 了兩片楔板間的距離將引起像面Y方向的平移。此平移需要使用平行平板的旋 轉來補償。像水平平移使用兩片平行平板分別繞X、Y方向旋轉進行調整。三 片半透鏡組組成的無焦光學系統任意一片移動調整倍率，同時引入焦面變化， 焦面變化需要調焦系統進行補償。

專利US20020005940公開了一種曝光裝置，所述倍率調整功能通過兩片透 鏡組成的無焦光學系統的軸向平移來實現。所述焦面調整功能通過三片透鏡組 成的無焦光學系統平移來實現。兩片鏡片無焦光學系統平移調節倍率時會引起 焦面變化，同樣的三片透鏡無焦光學系統調節焦面時會引起倍率的變化。焦面 和倍率調整裝置需要同時使用配合進行焦面或倍率的調整。

現有的焦面和倍率調整機裝置都是分離的，分別對倍率和焦面進行調節， 且調整會引入其他不期望出現的串擾，這些串擾需要使用其他裝置進行補償， 因此調整過程較為繁瑣。

發明內容

本發明的目的在于提供一種同時或分別實現焦面、倍率和平移調整的調整 裝置和調整方法，且調整焦面、倍率和平移的同時不會引入其他變化。

為了達到上述目的，本發明提供了一種調整裝置，為一無焦光學系統，其 包括至少一個楔形透鏡和多個光學透鏡。

進一步地，所述調整裝置置于曝光裝置中，所述曝光裝置包括光源、光罩、 感光基板和所述調整裝置，所述光源照射光罩上的圖案成像，并通過所述調整 裝置進行光路調整后，投影曝光于所述感光基板上。

進一步地，所述曝光裝置還包括至少一個戴森光學系統，所述光源照射光 罩上的圖案成像，經所述調整裝置和至少一個戴森光學系統曝光于所述感光基 板上。

進一步地，所述調整裝置置于戴森光學系統與光罩之間、多個戴森光學系 統之間或戴森光學系統與感光基板之間。

進一步地，所述戴森光學系統包括直角反射鏡、透鏡和凹面反射鏡，光束 經過直角反射鏡反射，然后經過透鏡和凹面反射鏡進行反射，返回所述直角反 射鏡，最后再由所述直角反射鏡反射至另一戴森光學系統或感光基板上。

進一步地，所述調整裝置置于直角反射鏡和透鏡之間。

進一步地，所述調整裝置包括：

第一楔形透鏡，具有第一斜面，及第一楔角；

第一光學透鏡，具有第二斜面及相對的第一彎曲面，所述第二斜面靠近且 平行上述第一斜面，具有第一楔角，所述第一彎曲面具有第一曲率半徑；

第二光學透鏡，具有第二彎曲面及相對的第三彎曲面，所述第二彎曲面靠 近上述第一彎曲面，具有與第一曲率半徑相同或者相近的第二曲率半徑，所述 第三彎曲面具有第三曲率半徑；