[發(fā)明專利]曝光裝置的調(diào)整裝置及調(diào)整方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410597382.0 | 申請(qǐng)日: | 2014-10-29 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN105549327A | 公開(kāi)(公告)日: | 2016-05-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 孫晶露 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海微電子裝備有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F7/20 | 分類號(hào): | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司: | 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李時(shí)云 |
| 地址: | 201203 上*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 曝光 裝置 調(diào)整 方法 | ||
1.一種調(diào)整裝置,為一無(wú)焦光學(xué)系統(tǒng),其特征在于,所述調(diào)整裝置包括至 少一個(gè)楔形透鏡和多個(gè)光學(xué)透鏡。
2.如權(quán)利要求1所述的調(diào)整裝置,其特征在于,所述調(diào)整裝置置于曝光裝 置中,所述曝光裝置包括光源、光罩、感光基板和所述調(diào)整裝置,所述光源照 射光罩上的圖案成像,并通過(guò)所述調(diào)整裝置進(jìn)行光路調(diào)整后,投影曝光于所述 感光基板上。
3.如權(quán)利要求2所述的調(diào)整裝置,其特征在于,所述曝光裝置還包括至少 一個(gè)戴森光學(xué)系統(tǒng),所述光源照射光罩上的圖案成像,經(jīng)所述調(diào)整裝置和至少 一個(gè)戴森光學(xué)系統(tǒng)曝光于所述感光基板上。
4.如權(quán)利要求3所述的調(diào)整裝置,其特征在于,所述調(diào)整裝置置于戴森光 學(xué)系統(tǒng)與光罩之間、多個(gè)戴森光學(xué)系統(tǒng)之間或戴森光學(xué)系統(tǒng)與感光基板之間。
5.如權(quán)利要求3所述的調(diào)整裝置,其特征在于,所述戴森光學(xué)系統(tǒng)包括直 角反射鏡、透鏡和凹面反射鏡,光束經(jīng)過(guò)直角反射鏡反射,然后經(jīng)過(guò)透鏡和凹 面反射鏡進(jìn)行反射,返回所述直角反射鏡,最后再由所述直角反射鏡反射至另 一戴森光學(xué)系統(tǒng)或感光基板上。
6.如權(quán)利要求5所述的調(diào)整裝置,其特征在于,所述調(diào)整裝置置于直角反 射鏡和透鏡之間。
7.如權(quán)利要求1所述的調(diào)整裝置,其特征在于,所述調(diào)整裝置包括:
第一楔形透鏡,具有第一斜面,及第一楔角;
第一光學(xué)透鏡,具有第二斜面及相對(duì)的第一彎曲面,所述第二斜面靠近且 平行上述第一斜面,具有第一楔角,所述第一彎曲面具有第一曲率半徑;
第二光學(xué)透鏡,具有第二彎曲面及相對(duì)的第三彎曲面,所述第二彎曲面靠 近上述第一彎曲面,具有與第一曲率半徑相同或者相近的第二曲率半徑,所述 第三彎曲面具有第三曲率半徑;
第三光學(xué)透鏡,具有靠近所述第三彎曲面的第四彎曲面,具有與第三曲率 半徑相同或者相近的第四曲率半徑。
8.如權(quán)利要求7所述的調(diào)整裝置,其特征在于,所述調(diào)整裝置的第一楔角 的角度范圍為0.5°~10°。
9.如權(quán)利要求1所述的調(diào)整裝置,其特征在于,所述調(diào)整裝置包括:
第一楔形透鏡,具有第一斜面,及第一楔角;
第一光學(xué)透鏡,具有第二斜面及相對(duì)的第一彎曲面,所述第二斜面靠近且 平行上述第一斜面,具有第一楔角,所述第一彎曲面具有第一曲率半徑;
第二光學(xué)透鏡,具有第二彎曲面及相對(duì)的第三彎曲面,所述第二彎曲面靠 近上述第一彎曲面,具有與第一曲率半徑相同或者相近的第二曲率半徑,所述 第三彎曲面具有第三曲率半徑;
第三光學(xué)透鏡,具有第四彎曲面及相對(duì)的第三斜面,所述第四彎曲面靠近 上述第三彎曲面,具有與第三曲率半徑相同或者相近的第四曲率半徑,所述第 三斜面與第一斜面平行,具有第二楔角;
第二楔形透鏡,具有第四斜面,及第二楔角,所述第四斜面靠近上述第三 斜面,且與第一斜面平行。
10.如權(quán)利要求9所述的調(diào)整裝置,其特征在于,所述調(diào)整裝置的第一楔 角及第二楔角的角度范圍為0.5°~10°。
11.如權(quán)利要求7或9所述的調(diào)整裝置,其特征在于,所述調(diào)整裝置的第 一曲率半徑、第二曲率半徑、第三曲率半徑和第四曲率半徑的半徑范圍為 200mm~2000mm。
12.如權(quán)利要求7或9所述的調(diào)整裝置,其特征在于,所述調(diào)整裝置的鏡 片材料使用紫外高透過(guò)率材料。
13.一種調(diào)整方法,應(yīng)用于如權(quán)利要求1所述的調(diào)整裝置,其特征在于, 所述調(diào)整方法包括焦面調(diào)整、倍率調(diào)整、平移調(diào)整,所述焦面調(diào)整通過(guò)沿楔形 透鏡的斜面方向移動(dòng)楔形透鏡以實(shí)現(xiàn)焦面的改變,所述倍率調(diào)整通過(guò)沿光軸方 向移動(dòng)光學(xué)透鏡以實(shí)現(xiàn)倍率的改變,所述平移調(diào)整通過(guò)沿光路的水平方向或垂 直方向旋轉(zhuǎn)調(diào)整裝置的整體以平移調(diào)整像面位置。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海微電子裝備有限公司,未經(jīng)上海微電子裝備有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410597382.0/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種物理法生產(chǎn)磁性黑粉的方法
- 下一篇:一種掩模板罩及掩模板
- 同類專利
- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
- 色相調(diào)整系統(tǒng)及其調(diào)整方法
- 調(diào)整設(shè)備和調(diào)整方法
- 踏板調(diào)整結(jié)構(gòu)及調(diào)整步態(tài)的調(diào)整方法
- 立體深度調(diào)整和焦點(diǎn)調(diào)整
- 調(diào)整裝置及其調(diào)整方法
- 噴嘴調(diào)整工具及調(diào)整方法
- 調(diào)整系統(tǒng)及調(diào)整方法
- 調(diào)整裝置以及調(diào)整方法
- 環(huán)境調(diào)整系統(tǒng)、環(huán)境調(diào)整方法及環(huán)境調(diào)整程序
- 功率調(diào)整器(調(diào)整)
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫(xiě)分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





