[發明專利]一種氧化鋁納米通道薄膜及其制備方法、應用方法

有效

• 申請號: 201410582272.7
• 申請日: 2014-10-27
• 公開（公告）號: CN104713924A
• 公開（公告）日: 2015-06-17
• 發明（設計）人: 范霞;王慧敏
• 申請（專利權）人: 北京航空航天大學
• 主分類號: G01N27/26
• 分類號: G01N27/26;C25D11/12
• 代理公司: 北京派特恩知識產權代理有限公司 11270
• 代理人: 張穎玲;孟桂超

技術領域

本發明涉及特異性識別分析技術，尤其涉及一種氧化鋁納米通道薄膜及其制備方法、應用方法。

背景技術

生物體細胞膜上的離子通道為生物體生命活動的正常進行發揮著重大作用，其特殊的結構和功能引起了國內外研究者的關注，受生物離子通道的啟發，將生物離子通道獨特性質復制到人工納米器件中，制備出不同形貌和功能的人工納米通道，并且所述人工納米通道在離子特異性響應與檢測等領域表現出了一定的應用空間，但這些都僅能對單一金屬離子進行特異性響應與檢測，不能滿足實際應用中的復雜溶液體系中對多種金屬離子的響應與檢測需求。

發明內容

為解決現有存在的技術問題，本發明實施例提供了一種氧化鋁納米通道薄膜及其制備方法、應用方法，能夠對汞離子、銀離子進行特異性識別。

本發明實施例的技術方案是這樣實現的：本發明實施例提供了一種氧化鋁納米通道薄膜的應用方法，所述方法包括：

步驟一：采用皮安計法確定修飾含有胞嘧啶和胸腺嘧啶的單鏈脫氧核糖核酸的氧化鋁納米通道薄膜對應的第一電流；

步驟二：將所述修飾含有胞嘧啶和胸腺嘧啶的單鏈脫氧核糖核酸的氧化鋁納米通道薄膜浸于含有汞離子Hg²⁺和/或銀離子Ag⁺的溶液中預設時間后，取出所述修飾含有胞嘧啶和胸腺嘧啶的單鏈脫氧核糖核酸的氧化鋁納米通道薄膜；

步驟三：采用皮安計法確定步驟二處理后的所述修飾含有胞嘧啶和胸腺嘧啶的單鏈脫氧核糖核酸的氧化鋁納米通道薄膜對應的第二電流；

步驟四：根據所述第一電流和第二電流，確定所述修飾含有胞嘧啶和胸腺嘧啶的單鏈脫氧核糖核酸的氧化鋁納米通道薄膜能否對汞離子Hg²⁺、銀離子Ag⁺進行特異性識別。

上述方案中，所述方法還包括：

確定第一溶液，所述第一溶液中含有汞離子Hg²⁺；所述第一溶液的pH值為5.0-9.0；

確定第二溶液，所述第二溶液中含有銀離子Ag⁺；所述第二溶液的pH值為5.0-9.0；

將第一個所述修飾含有胞嘧啶和胸腺嘧啶的單鏈脫氧核糖核酸的氧化鋁納米通道薄膜、和第二個所述修飾含有胞嘧啶和胸腺嘧啶的單鏈脫氧核糖核酸的氧化鋁納米通道薄膜各自浸于第一溶液和第二溶液中預設時間后，取出第一個所述修飾含有胞嘧啶和胸腺嘧啶的單鏈脫氧核糖核酸的氧化鋁納米通道薄膜和第二個所述修飾含有胞嘧啶和胸腺嘧啶的單鏈脫氧核糖核酸的氧化鋁納米通道薄膜；

采用皮安計法確定第一個所述修飾含有胞嘧啶和胸腺嘧啶的單鏈脫氧核糖核酸的氧化鋁納米通道薄膜對應的第三電流、和第二個所述修飾含有胞嘧啶和胸腺嘧啶的單鏈脫氧核糖核酸的氧化鋁納米通道薄膜對應的第四電流；

將所述第一溶液和第二溶液中的pH值均調為5以下；

將清洗后的第一個所述修飾含有胞嘧啶和胸腺嘧啶的單鏈脫氧核糖核酸的氧化鋁納米通道薄膜、和第二個所述修飾含有胞嘧啶和胸腺嘧啶的單鏈脫氧核糖核酸的氧化鋁納米通道薄膜各自浸于pH值調整后的所述第一溶液和第二溶液中預設時間后，取出第一個所述修飾含有胞嘧啶和胸腺嘧啶的單鏈脫氧核糖核酸的氧化鋁納米通道薄膜和第二個所述修飾含有胞嘧啶和胸腺嘧啶的單鏈脫氧核糖核酸的氧化鋁納米通道薄膜；

采用皮安計法確定第一個所述修飾含有胞嘧啶和胸腺嘧啶的單鏈脫氧核糖核酸的氧化鋁納米通道薄膜對應的第五電流、和第二個所述修飾含有胞嘧啶和胸腺嘧啶的單鏈脫氧核糖核酸的氧化鋁納米通道薄膜對應的第六電流；

根據所述第三電流、第四電流、第五電流和第六電流，區分所述第一溶液和第二溶液。

上述方案中，所述步驟一包括：

將修飾含有胞嘧啶和胸腺嘧啶的單鏈脫氧核糖核酸的氧化鋁納米通道薄膜置于雙電極電解槽的兩個槽體中間的連通處，以將兩個槽體中的電解液隔離；

采用皮安計法確定一槽體電解液中的離子經所述修飾含有胞嘧啶和胸腺嘧啶的單鏈脫氧核糖核酸的氧化鋁納米通道薄膜后進入另一槽體時所形成的第一電流；

對應地，所述步驟三包括：

將步驟二處理后的所述修飾含有胞嘧啶和胸腺嘧啶的單鏈脫氧核糖核酸的氧化鋁納米通道薄膜置于所述雙電極電解槽的兩個槽體中間的連通處，以將兩個槽體中的電解液隔離；

采用皮安計法確定一槽體電解液中的離子經所述修飾含有胞嘧啶和胸腺嘧啶的單鏈脫氧核糖核酸的氧化鋁納米通道薄膜后進入另一槽體時所形成的第二電流。