[發明專利]電鍍廢水處理方法以及電鍍廢水處理裝置有效
| 申請號： | 201410580105.9 | 申請日： | 2014-10-25 |
| 公開（公告）號： | CN104291493A | 公開（公告）日： | 2015-01-21 |
| 發明（設計）人： | 吳長江 | 申請（專利權）人： | 吳長江 |
| 主分類號： | C02F9/04 | 分類號： | C02F9/04;C02F103/16 |
| 代理公司： | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人： | 何平 |
| 地址： | 516200 廣東省*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 電鍍 廢水處理 方法 以及 裝置 | ||
1.一種電鍍廢水處理方法，其特征在于，包括如下步驟：
S110：收集一般電鍍廢水、含氰電鍍廢水和含鉻電鍍廢水；
S120：將所述一般電鍍廢水分別進行絮凝處理、沉淀處理，固液分離后，將所述上層清液進行吸附及反滲透處理；
S130：將所述含氰電鍍廢水的pH調至10.5～11，并進行破氰處理，得到預處理含氰電鍍廢水，將所述預處理含氰電鍍廢水通入一般電鍍廢水，得到綜合電鍍廢水；
S140：將所述綜合電鍍廢水按所述步驟S120處理；
S150：往所述含鉻電鍍廢水中依次進入硫酸、亞硫酸鈉和堿性物質，進行除鉻處理，得到預處理含鉻電鍍廢水；
S160：將所述含鉻電鍍廢水按所述步驟S120處理。
2.一種電鍍廢水處理裝置，其特征在于，包括電鍍廢水貯存槽、破氰槽、除鉻槽、絮凝槽、沉淀槽、吸附槽以及反滲透處理裝置；
所述電鍍廢水貯存槽包括第一貯存槽、第二貯存槽以及第三貯存槽，所述第一貯存槽與所述破氰槽連通，所述破氰槽與所述第三貯存槽連通，所述第二貯存槽與所述除鉻槽連通，所述絮凝槽與所述第三貯存槽及所述除鉻槽均連通，所述絮凝槽與所述沉淀槽連通，所述吸附槽與所述沉淀槽連通，所述反滲透處理裝置與所述吸附槽連通；
所述除鉻槽設置第一添加裝置、第二添加裝置以及第三添加裝置，分別用于添加硫酸、亞硫酸鈉和堿性物質。
3.根據權利要求2所述的電鍍廢水處理裝置，其特征在于，所述破氰槽設置有第一加藥口。
4.根據權利要求2所述的電鍍廢水處理裝置，其特征在于，所述除鉻槽設置有第二加藥口。
5.根據權利要求2所述的電鍍廢水處理裝置，其特征在于，所述絮凝槽設置有第三加藥口。
6.根據權利要求2所述的電鍍廢水處理裝置，其特征在于，電鍍廢水貯存槽為一體成型結構。
7.根據權利要求2所述的電鍍廢水處理裝置，其特征在于，所述沉淀槽的底部側壁為斜面結構。
8.根據權利要求2所述的電鍍廢水處理裝置，其特征在于，所述破氰槽設置有第一攪拌裝置。
9.根據權利要求2所述的電鍍廢水處理裝置，其特征在于，所述除鉻槽設置有第二攪拌裝置。
10.根據權利要求2所述的電鍍廢水處理裝置，其特征在于，所述絮凝槽設置有第三攪拌裝置。
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